Яковлев Евгений Борисович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Экспериментальное моделирование физического процесса лазерного удаления татуировки
   
   Квантовая электроника, 49:1 (2019),  52–58
2. Нано- и фемтосекундное высокочастотное многоимпульсное воздействие лазерного излучения на обезвоженную костную ткань, роль накопленного тепла и модель остывания
   
   Квантовая электроника, 48:8 (2018),  755–760
3. Моделирование нагрева и фотовозбуждения монокристаллического кремния наносекундными лазерными импульсами на длине волны 1.06 мкм при облучении в многоимпульсном режиме
   
   Квантовая электроника, 48:3 (2018),  255–262
4. Особенности электрон-ионного теплообмена в условиях интенсивного фотовозбуждения диэлектриков ультракороткими лазерными импульсами
   
   Письма в ЖТФ, 43:5 (2017),  31–38
5. Роль эффекта накопления тепла в многоимпульсных режимах лазерной фемтосекундной структуризации кремния
   
   Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016),  706–710
6. Границы применимости двухтемпературной модели при неоднородном нагреве металла ультракоротким лазерным импульсом
   
   Квантовая электроника, 45:10 (2015),  917–926
7. Эффективное время термического воздействия сверхкоротких лазерных импульсов на диэлектрики
   
   Квантовая электроника, 44:4 (2014),  322–324
8. Моделирование поглощения фемтосекундного лазерного импульса кристаллическим кремнием
   
   Физика и техника полупроводников, 47:12 (2013),  1642–1646
9. Физические механизмы быстрой структурной модификации стеклокерамики при воздействии излучения CO₂-лазера
   
   Квантовая электроника, 39:2 (2009),  185–190
10. Возникновение волны пpосветления в стеклокерамике СТ-50-1 под действием излучения Nd:YAG-лазера
    
    Квантовая электроника, 39:1 (2009),  59–62
11. Микрооптические элементы на основе локальной модификации структуры пористых стекол
    
    Квантовая электроника, 13:8 (1986),  1693–1696
12. О разрешающей способности лазерной литографии на тонких металлических пленках
    
    Квантовая электроника, 11:4 (1984),  661–665
13. Оптимальный режим формирования топологического рисунка при лазерной обработке пленок
    
    Квантовая электроника, 9:11 (1982),  2167–2172
14. Температурные напряжения в структуре «пленка – подложка» при лазерном импульсном нагревании
    
    Квантовая электроника, 8:10 (1981),  2196–2201
15. Влияние адгезии на процессы лазерного нагревания и разрушения тонких поглощающих пленок
    
    Квантовая электроника, 8:5 (1981),  1073–1078
16. Двухфазная модель разрушения поглощающих пленок мощными световыми импульсами
    
    Квантовая электроника, 7:1 (1980),  34–41