Виноходов Александр Юрьевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Плазменные источники экстремального ультрафиолетового излучения для литографии и сопутствующих технологических процессов (к 50-летию Института спектроскопии РАН)
   
   УФН, 189:3 (2019),  323–334
2. Яркостный источник ЭУФ излучения на основе лазерной плазмы при использовании капельной жидкометаллической мишени
   
   Квантовая электроника, 46:5 (2016),  473–480
3. Источник ЭУФ лазерно-индуцированного излучения высокой яркости на основе оловянной плазмы с неограниченным ресурсом электродов
   
   Квантовая электроника, 46:1 (2016),  81–87
4. Формирование мелкодисперсной жидкометаллической мишени под действием лазерных импульсов фемто- и пикосекундной длительности для лазерного плазменного источника в экстремальном ультрафиолетовом диапазоне
   
   Квантовая электроника, 46:1 (2016),  23–28
5. Рентгеновский лазер с длиной волны излучения 32.8 нм, образованный в потоке кластеров криптона
   
   Квантовая электроника, 43:12 (2013),  1099–1106
6. Мощный источник света в экстремальном УФ диапазоне (13.5 нм)
   
   Квантовая электроника, 40:8 (2010),  720–726
7. Лазерно-инициируемые источники экстремального ультрафиолетового излучения для производства интегральных схем следующего поколения
   
   Квантовая электроника, 39:10 (2009),  967–972
8. О предельных частотах повторения импульсов XeF-лазера
   
   Квантовая электроника, 30:10 (2000),  881–883
9. Разработка мощных KrF-лазеров с частотой повторения импульсов до 5 кГц
   
   Квантовая электроника, 30:9 (2000),  783–786
10. О стабильности генерации компактного KrF-лазера мощностью 600 Вт
    
    Квантовая электроника, 25:2 (1998),  131–134
11. Компактный KrF-лазер мощностью 600 Вт
    
    Квантовая электроника, 25:2 (1998),  126–130
12. Pumping rate of electric-discharge excimer lasers
    
    Квантовая электроника, 22:6 (1995),  533–536
13. Oграничениe средней мощности в компактных импульсно-периодических KrF-лазерах
    
    Квантовая электроника, 22:5 (1995),  446–450
14. Импульсно-периодический XeCl-лазер мощностью 600 Вт для технологических применений
    
    Квантовая электроника, 18:2 (1991),  183–185
15. Импульсно-периодический электроразрядный ХеСl-лазер
    
    Квантовая электроника, 17:2 (1990),  164–165
16. ВКР-преобразование излучения с λ = 308 нм и частотой повторения импульсов до 600 Гц в сжатом водороде
    
    Квантовая электроника, 15:10 (1988),  2030–2037
17. Расходимость излучения электроразрядного XeCl-лазера в импульсно-периодическом режиме
    
    Квантовая электроника, 15:9 (1988),  1712–1719
18. Широкоапертурная электроразрядная система с УФ предыонизацией для импульсно-периодического XeCl-лазера
    
    Квантовая электроника, 14:11 (1987),  2168–2174
19. Об акустических колебаниях в газоразрядной камере быстропроточного импульсно-периодического лазера
    
    Квантовая электроника, 14:6 (1987),  1206–1212
20. Эффекты эволюции энергии генерации в импульсно-периодическом эксимерном лазере на XeCl со средней мощностью ~ 400 Вт
    
    Квантовая электроника, 14:5 (1987),  936–942
21. Приэлектродные эффекты в импульсно-периодическом эксимерном лазере
    
    Квантовая электроника, 13:12 (1986),  2403–2407
22. ВКР излучения электроразрядного импульсно-периодического XeCl-лазера в сжатом H₂
    
    Квантовая электроника, 12:5 (1985),  1100–1102
23. Влияние приэлектродных процессов на контрагирование объемного разряда в импульсно-периодических лазерах
    
    Квантовая электроника, 12:5 (1985),  971–977
24. Установление стационарного уровня мощности в импульсно-периодическом эксимерном лазере
    
    Квантовая электроника, 11:10 (1984),  2069–2073
25. Об увеличении частоты следования импульсов ХеСl-лазера до 1 кГц
    
    Квантовая электроника, 11:4 (1984),  827–829
26. О причинах снижения мощности импульсно-периодического XeCl-лазера в процессе работы
    
    Квантовая электроника, 10:11 (1983),  2336–2340
27. Об особенностях импульсно-периодического режима эксимерных лазеров
    
    Квантовая электроника, 10:3 (1983),  540–546