|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия пленок стабилизированного диоксида циркония со встроенными наночастицами Au, сформированными в процессе облучения ионами золота
Физика твердого тела, 60:3 (2018), 591–595
-
Изменение иммитанса при электроформовке и резистивном переключении в мемристивных структурах “металл–диэлектрик–металл” на основе SiO$_{x}$
ЖТФ, 86:5 (2016), 107–111
-
Электрические и фотоэлектрические свойства структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе Si с наночастицами Au на границе раздела диэлектрик/полупроводник
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1639–1643
-
Электрофизические свойства структур металл–диэлектрик–полупроводник на основе $n$-GaAs с квантовыми точками InAs, выращенными на поверхности слоя $n$-GaAs
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1615–1619
-
Стимулированное светом резистивное переключение в структурах металл–диэлектрик–полупроводник на основе кремния
Письма в ЖТФ, 42:10 (2016), 78–84
-
Особенности явления неравновесного обеднения, сопровождаемого процессами захвата неосновных носителей поверхностными состояниями, в структурах металл–диэлектрик–полупроводник
Письма в ЖТФ, 42:3 (2016), 52–60
-
Формирование плотных массивов наночастиц золота в тонких пленках стабилизированного диоксида циркония методом магнетронного распыления
Письма в ЖТФ, 42:1 (2016), 72–79
-
Влияние облучения ионами H$^+$ и Ne$^+$ на резистивное переключение в мемристивных структурах “металл–диэлектрик–металл” на основе SiO$_x$
Письма в ЖТФ, 41:19 (2015), 81–89
-
Формирование нанокристаллов Au$_4$Zr в стабилизированном диоксиде циркония в процессе имплантации ионов золота
Письма в ЖТФ, 41:11 (2015), 62–70
-
Процесс формовки в элементах резистивной памяти на основе структур металл–диэлектрик–полупроводник
Письма в ЖТФ, 40:19 (2014), 18–26
-
Конденсаторы с нелинейными характеристиками на основе стабилизированного диоксида циркония с встроенными наночастицами золота
Письма в ЖТФ, 40:9 (2014), 9–16
-
Резистивное переключение в структурах “металл–диэлектрик–металл” на основе оксида германия и стабилизированного диоксида циркония
Письма в ЖТФ, 40:3 (2014), 12–19
-
Особенности пиннинга уровня Ферми на границе раздела Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As с анодным оксидом и стабилизированным диоксидом циркония
Письма в ЖТФ, 39:23 (2013), 72–79
-
Влияние ионной имплантации фосфора на оптические свойства тонких пленок диоксида германия, легированных ионами Er$^{3+}$ и Yb$^{3+}$
Письма в ЖТФ, 38:5 (2012), 71–77
-
Особенности формирования нанокристаллов золота в стабилизированном диоксиде циркония методом ионной имплантации
Письма в ЖТФ, 38:4 (2012), 60–65
-
Структурные, оптические и спектроскопические свойства новой керамики Tm3+:Lu2O3 и эффективная двухмикронная генерация лазера на ее основе
Квантовая электроника, 41:10 (2011), 863–868
-
Влияние пересыщения на активность центров роста
Докл. АН СССР, 154:4 (1964), 827–828
-
Поправка к статье: Структурные, оптические и спектроскопические свойства новой керамики Tm3+:Lu2O3 и эффективная двухмикронная генерация лазера на ее основе
Квантовая электроника, 41:12 (2011), 1130
© , 2026