RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Каск Николай Евгеньевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Уширение и сдвиг спектральных линий атома водорода и иона кремния в лазерной плазме

    Квантовая электроника, 45:6 (2015),  527–532
  2. Уширение спектральных линий буферного газа и вещества мишени при лазерной абляции

    Квантовая электроника, 42:11 (2012),  1002–1007
  3. Формирование наноструктур при лазерной абляции бинарной смеси Six(SiO2)1-x

    Квантовая электроника, 37:4 (2007),  366–371
  4. Перколяция и спектры свечения лазерной плазмы при абляции кремния и кремнийсодержащих композитов

    Квантовая электроника, 36:5 (2006),  435–439
  5. Формирование связанного состояния в лазерном факеле

    Квантовая электроника, 35:4 (2005),  347–350
  6. Перколяция при расширении в газ лазерной плазмы, создаваемой наносекундным импульсом

    Квантовая электроника, 35:1 (2005),  48–52
  7. Влияние электронной структуры атомов мишени на континуум излучения лазерной плазмы

    Квантовая электроника, 34:6 (2004),  524–530
  8. Фрактальные структуры в лазерном факеле

    Квантовая электроника, 33:1 (2003),  57–68
  9. Эффективность образования фрактальных структур при лазерном испарении

    Квантовая электроника, 32:5 (2002),  437–442
  10. Перколяция в дисперсной плазме лазерного факела

    ТВТ, 37:1 (1999),  13–17
  11. Перколяция в лазерном факеле у поверхности трехкомпонентной мишени Al – Cu – MgF2

    Квантовая электроника, 25:10 (1998),  951–953
  12. СВЧ-проводимость факела при лазерном испарении материалов

    Квантовая электроника, 23:11 (1996),  1033–1036
  13. Влияние перколяции на излучательную способность плазмы оптического разряда

    Квантовая электроника, 21:9 (1994),  805–806
  14. Быстрое формирование макроскопических фрактальных структур плазмой оптического разряда

    Квантовая электроника, 20:6 (1993),  527–528
  15. Световое горение в жидкостях

    ТВТ, 28:6 (1990),  1048–1055
  16. Оптический разряд в плавленном кварце

    ТВТ, 27:5 (1989),  833–841
  17. Образование струй при распространении волны поглощения в стекле

    ЖТФ, 56:4 (1986),  767–771
  18. Исследование начальной стадии лазерного разрушения стекла оптическим и микроволновым методами

    Квантовая электроника, 13:6 (1986),  1180–1184
  19. Термохимическая модель оптического разряда в стеклах

    Квантовая электроника, 12:1 (1985),  80–90
  20. Кинетика допорогового свечения и СВЧ проводимости в стеклах в условиях лазерного нагрева

    Квантовая электроника, 11:9 (1984),  1862–1864
  21. Зависимость коэффициента поглощения оптических стекол от температуры при воздействии лазерного излучения

    Квантовая электроника, 6:2 (1979),  337–344
  22. Динамика сжатия лазерного пучка при тепловой нестационарной самофокусировке

    Квантовая электроника, 5:2 (1978),  438–440
  23. Температурная зависимость стойкости оптического стекла к воздействию лазерного излучения десятимиллисекундной длительности

    Квантовая электроника, 4:2 (1977),  464–467
  24. Воздействие лазерного излучения миллисекундной длительности на радиационно-окрашенное стекло К-8

    Квантовая электроника, 3:7 (1976),  1570–1576
  25. О тепловом механизме разрушения оптического стекла лазерным излучением

    Докл. АН СССР, 211:6 (1973),  1317–1319


© МИАН, 2026