|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Электронейтральность в полупроводниковых лазерах
Физика и техника полупроводников, 59:8 (2025), 500–504
-
Анализ устойчивости генерации в лазерах на квантовых ямах
Физика и техника полупроводников, 57:8 (2023), 684–692
-
Мощные лазерные диоды на основе InGaAs(Р)/Al(In)GaAs(P)/GaAs-гетероструктур с низкими внутренними оптическими потерями
Квантовая электроника, 52:12 (2022), 1152–1165
-
Рабочие характеристики полупроводниковых лазеров на квантовых ямах в зависимости от ширины волноводной области
Физика и техника полупроводников, 55:12 (2021), 1229–1235
-
Анализ пороговых условий и эффективности генерации замкнутых мод в больших прямоугольных резонаторах на основе лазерных гетероструктур AlGaAs/GaAs/InGaAs
Физика и техника полупроводников, 55:5 (2021), 460–465
-
Модель управления конкуренцией замкнутых модовых структур в прямоугольных резонаторах большого размера на основе лазерных гетероструктур AlGaAs/InGaAs/GaAs
Физика и техника полупроводников, 54:5 (2020), 484–489
-
Особенности формирования замкнутых модовых структур в прямоугольных резонаторах на основе гетероструктур InGaAs/AlGaAs/GaAs для мощных полупроводниковых лазеров
Физика и техника полупроводников, 53:6 (2019), 839–843
-
Рост внутренних оптических потерь с увеличением тока накачки и выходная мощность лазеров на квантовых ямах
Физика и техника полупроводников, 51:7 (2017), 998–1003
-
Исследование импульсных характеристик полупроводниковых лазеров с расширенным волноводом при низких температурах (110–120 K)
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1414–1419
-
Скорость захвата электронов в зависимости от глубины квантовой ямы в полупроводниковых лазерах
Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 679–682
-
Пороговые характеристики полупроводникового лазера на квантовых ямах: учёт глобальной электронейтральности структуры
Квантовая электроника, 46:9 (2016), 777–781
-
Сравнительный анализ влияния электронного и дырочного захвата на мощностные характеристики полупроводникового лазера
Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1553–1557
-
Подавление процесса делокализации носителей заряда в мощных импульсных полупроводниковых лазерах
Письма в ЖТФ, 41:6 (2015), 10–16
-
Поверхностные интегрированные дифракционные решетки высших порядков для полупроводниковых лазеров
Квантовая электроника, 45:12 (2015), 1091–1097
-
Оптимизация параметров резонатора лазеров на основе твердых растворов AlGaInAsP/InP (λ=1470 нм)
Квантовая электроника, 45:10 (2015), 879–883
-
Исследование коэффициента поглощения в слоях гетероструктуры полупроводникового лазера
Квантовая электроника, 45:7 (2015), 604–606
-
Влияние параметров лазерного резонатора на насыщение ватт-амперных характеристик мощных импульсных лазеров
Квантовая электроника, 45:7 (2015), 597–600
-
К вопросу о температурной делокализации носителей заряда в квантово-размерных гетероструктурах GaAs/AlGaAs/InGaAs
Физика и техника полупроводников, 48:10 (2014), 1377–1382
-
Насыщение ватт-амперных характеристик мощных лазеров (λ = 1.0 – 1.1 мкм) в импульсном режиме генерации
Квантовая электроника, 44:11 (2014), 993–996
-
Расчет мощностных характеристик полупроводниковых лазеров с квантовыми ямами при одновременном учете электронов и дырок
Квантовая электроника, 44:9 (2014), 801–805
-
Полупроводниковые лазеры с внутренней селекцией излучения
Физика и техника полупроводников, 47:1 (2013), 124–128
-
Пороговые характеристики полупроводниковых лазеров при нарушении электронейтральности в квантовых ямах
Квантовая электроника, 43:5 (2013), 428–432
-
Излучательная и безызлучательная рекомбинация в активных слоях мощных лазерных диодов InGaAs/GaAs/AlGaAs
Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012), 1339–1343
-
Температурная зависимость пороговой плотности тока в полупроводниковых лазерах ($\lambda$ = 1050–1070 нм)
Физика и техника полупроводников, 46:9 (2012), 1234–1238
-
Температурная делокализация носителей заряда в полупроводниковых лазерах ($\lambda$ = 1010–1070 нм)
Физика и техника полупроводников, 46:9 (2012), 1230–1233
-
Влияние числа квантовых ям в активной области на линейность ватт-амперной характеристики полупроводникового лазера
Физика и техника полупроводников, 46:8 (2012), 1067–1073
-
Дифракционные решетки с отражением в высоком порядке для мощных полупроводниковых лазеров
Физика и техника полупроводников, 46:2 (2012), 252–257
-
Захват носителей заряда и выходная мощность лазера на квантовой яме
Физика и техника полупроводников, 45:11 (2011), 1553–1559
-
Анализ пороговых условий генерации замкнутой моды в полупроводниковых лазерах Фабри–Перо
Физика и техника полупроводников, 45:5 (2011), 672–676
-
Двухполосная генерация в эпитаксиально интегрированных туннельно-связанных полупроводниковых лазерах
Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010), 833–836
-
Диссипативные потери среднего инфракрасного излучения в диэлектрическом волноводе
Физика и техника полупроводников, 44:2 (2010), 256–259
-
Расчеты вероятностей излучательных переходов и времен жизни
в квантово-размерных структурах
Физика и техника полупроводников, 23:10 (1989), 1806–1812
-
Размерное квантование дырок и особенности экситонных спектров
в квантовой яме конечной глубины
Физика и техника полупроводников, 22:12 (1988), 2124–2130
-
Влияние насыщения усиления на пороговые характеристики
квантово-размерных InGaAsP/GaAs-гетеролазеров
Физика и техника полупроводников, 22:6 (1988), 1035–1039
-
Низкопороговые $In\,Ga\,As\,P/In\,P$ лазеры раздельного ограничения с $\lambda=1.3$ мкм и $\lambda=1.55$ мкм
($I_{\text{пор.}}=600-700\,\text{А/см}^{2}$)
Письма в ЖТФ, 12:4 (1986), 210–215
-
Особенности температурной зависимости порогов в РО
InGaAsP/InP ДГ лазерах (${\lambda=1.3}$ мкм) с тонкой активной областью
Физика и техника полупроводников, 19:8 (1985), 1496–1498
-
Особенности пороговых характеристик РО
InGaAsP/InP ДГ лазеров (${\lambda=1.3}$ мкм) с супертонкими активными
областями
Физика и техника полупроводников, 19:8 (1985), 1420–1423
-
Расчет пороговых токов для
InGaAsP/InP и InGaAsP/GaAs ДГС лазеров с раздельным ограничением
Физика и техника полупроводников, 19:3 (1985), 449–455
-
Межзонная оже-рекомбинация в лазерных структурах на основе GaSb
Физика и техника полупроводников, 18:10 (1984), 1803–1807
-
Рекомбинационные процессы в InGaAsP/InP ДГС
с ${\lambda= 1\div1.5}$ мкм
Физика и техника полупроводников, 18:6 (1984), 1069–1076
-
Расчеты времен оже-процессов в твердых растворах
$p$-InGaAsP
ЖТФ, 53:2 (1983), 315–319
-
Оже-рекомбинация в вырожденной электронно-дырочной плазме твердых
растворов InGaAsP
Физика и техника полупроводников, 17:3 (1983), 453–458
© , 2026