RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Панченко Юрий Николаевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Взаимодействие излучения ArF-лазера с нитробензолом

    Оптика и спектроскопия, 133:8 (2025),  809–816
  2. Двухфотонное возбуждение оксида азота при фотофрагментации нитробензола

    Оптика и спектроскопия, 132:1 (2024),  6–12
  3. Электроразрядный KrCl-лазер с высокой мощностью накачки

    Квантовая электроника, 53:6 (2023),  452–457
  4. Электроразрядный KrF-лазер с высокой удельной энергией излучения

    ЖТФ, 92:6 (2022),  861–866
  5. Усиление лазерного излучения на краю спектральной линии KrF (B – X)

    Квантовая электроника, 52:5 (2022),  437–442
  6. Достижение пиковой мощности излучения 40 ТВт лазерной гибридной фемтосекундной системы видимого диапазона

    Квантовая электроника, 49:10 (2019),  901–904
  7. Формирование и усиление импульсов длительностью 50 пс в гибридной лазерной системе THL-100

    Квантовая электроника, 47:3 (2017),  184–187
  8. Гибридные фемтосекундные системы видимого диапазона на основе XeF(C–A)-усилителя: состояние и перспективы

    Квантовая электроника, 43:3 (2013),  190–200
  9. Мультитераваттная фемтосекундная система гибридного типа на основе фотодиссоционного XeF(C — A)-усилителя видимого диапазона

    Квантовая электроника, 42:5 (2012),  377–378
  10. Эффективные импульсно-периодические XeCl-лазеры

    Квантовая электроника, 41:8 (2011),  687–691
  11. Формирование наносекундных и субнаносекундных импульсов излучения XeCl-лазера с дифракционной расходимостью

    Квантовая электроника, 38:4 (2008),  369–372
  12. Широкоапертурная эксимерная лазерная система

    Квантовая электроника, 36:1 (2006),  33–38
  13. Особенности формирования активной среды в короткоимпульсном электроразрядном XeCl-лазере

    Квантовая электроника, 35:9 (2005),  816–820
  14. Электроразрядный XeCl-лазер с энергией генерации 10 Дж и длительностью импульса излучения 300 нс

    Квантовая электроника, 35:3 (2005),  237–240
  15. Генератор импульсов для накачки электроразрядных эксимерных лазеров

    Квантовая электроника, 34:3 (2004),  289–293
  16. Особенности вынужденного рассеяния излучения XeCl-лазера в гептане

    Квантовая электроника, 32:8 (2002),  717–721
  17. Влияние неоднородностей активной среды на расходимость излучения длинноимпульсного электроразрядного XeCl-лазера

    Квантовая электроника, 31:4 (2001),  293–297
  18. Степень изменения диаграммы направленности излучения при его усилении в XeCl-лазерной системе

    Квантовая электроника, 30:4 (2000),  325–327
  19. XeCl-лазерная система с выходной апертурой 25×25 см

    Квантовая электроника, 29:1 (1999),  14–18
  20. Длительность стоксова сигнала при ВРМБ излучения XeCl-лазера

    Квантовая электроника, 24:9 (1997),  812–814
  21. Формирование качественного излучения XeCl-лазера в резонаторе с ВРМБ-зеркалом

    Квантовая электроника, 22:5 (1995),  475–476
  22. Особенности вынужденного рассеяния широкополосного излучения XeCl-лазера

    Квантовая электроника, 22:5 (1995),  473–474
  23. Компрессия импульса излучения XeCl-лазера за счет ВРМБ

    Квантовая электроника, 21:1 (1994),  55–56
  24. Экспериментальное исследование эффективности ОВФ пучка XeCl-лазера при ВРМБ

    Квантовая электроника, 19:7 (1992),  688–690
  25. Режим инжекционной синхронизации в мощном ХеCl-лазере

    Квантовая электроника, 19:2 (1992),  133–135

  26. Поправка к статье: Генератор импульсов для накачки электроразрядных эксимерных лазеров

    Квантовая электроника, 34:6 (2004),  530
  27. Поправка к статье: Особенности вынужденного рассеяния излучения XeCl-лазера в гептане

    Квантовая электроника, 32:9 (2002),  846


© МИАН, 2026