RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Малеев Николай Анатольевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Однофотонное излучение в С-диапазоне в цилиндрическом микрорезонаторе с квантовыми точками InAs/InGaAs

    Письма в ЖЭТФ, 121:3 (2025),  189–193
  2. Амплитудные шумы одномодовых вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 89Х nm с внутрирезонаторными контактами

    Оптика и спектроскопия, 133:8 (2025),  847–852
  3. Поверхностная генерация в микролазерах на основе вертикального микрорезонатора

    Письма в ЖТФ, 51:21 (2025),  58–62
  4. Бимодальная генерация на модах шепчущей галереи в лазерах на основе вертикального микрорезонатора

    Письма в ЖТФ, 51:5 (2025),  41–44
  5. Фазовые шумы одномодовых вертикально-излучающих лазеров с внутрирезонаторными контактами спектрального диапазона 89Х nm

    Оптика и спектроскопия, 132:12 (2024),  1230–1232
  6. Ширина линии излучения вертикально-излучающих лазеров с внутрирезонаторными контактами спектрального диапазона 89Х nm

    Оптика и спектроскопия, 132:12 (2024),  1226–1229
  7. Исследование структурных и оптических свойств InGaAs-квантовых точек

    Физика и техника полупроводников, 58:6 (2024),  318–325
  8. Туннельные диоды $n^{++}$-GaAs:($\delta$-Si)/$p^{++}$-Al$_{0.4}$Ga$_{0.6}$As:(C) для соединительных элементов многопереходных лазерных фотопреобразователей

    Письма в ЖТФ, 50:7 (2024),  39–42
  9. Ширина линии излучения одномодовых вертикально излучающих лазеров спектрального диапазона 1.55 $\mu$m, реализованных с помощью молекулярно-пучковой эпитаксии и технологии спекания пластин

    Оптика и спектроскопия, 131:11 (2023),  1486–1489
  10. Ширина линии излучения и $\alpha$-фактор вертикально излучающих лазеров на основе квантовых ям InGaAs/InGaAlAs спектрального диапазона 1.55 $\mu$m

    Оптика и спектроскопия, 131:8 (2023),  1095–1100
  11. Анализ внутренних оптических потерь вертикально-излучающих лазеров с внутрирезонаторными контактами спектрального диапазона 89Х nm

    Письма в ЖТФ, 49:20 (2023),  43–46
  12. Цилиндрические микрорезонаторы с квантовыми точками InAs/GaAs – моделирование и анализ оптических характеристик

    Письма в ЖЭТФ, 116:9 (2022),  592–598
  13. Высокоскоростные одномодовые вертикально-излучающие лазеры спектрального диапазона 1550 нм

    Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022),  814–823
  14. Особенности роста массивов квантовых точек InAs с низкой поверхностной плотностью методом молекулярно-пучковой эпитаксии

    Письма в ЖТФ, 48:24 (2022),  42–46
  15. Быстродействующие фотодетекторы на основе квантовых ям-точек InGaAs/GaAs

    Письма в ЖТФ, 48:4 (2022),  32–35
  16. Быстродействующие вертикально-излучающие лазеры спектрального диапазона 1550 нм, реализованные в рамках технологии спекания пластин

    Квантовая электроника, 52:10 (2022),  878–884
  17. Исследование характеристик сверхрешетки InGaAs/InAlGaAs для вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 1300 nm

    ЖТФ, 91:12 (2021),  2008–2017
  18. Влияние технологии двойного травления под затвор на параметры HEMT транзисторов на подложках GaAs и InP

    Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021),  890–894
  19. Исследование шумовых характеристик вертикально-излучающих лазеров с ромбовидной токовой апертурой для применения в компактном квантовом цезиевом магнитометре

    Письма в ЖТФ, 47:24 (2021),  3–8
  20. Анализ внутренних оптических потерь вертикально-излучающего лазера спектрального диапазона 1.3 $\mu$m с туннельным переходом на основе слоев $n^{+}$-InGaAs/$p^{+}$-InGaAs/$p^{+}$-InAlGaAs

    Письма в ЖТФ, 47:23 (2021),  3–7
  21. Влияние латерального оптического ограничения на характеристики вертикально-излучающих лазеров cпектрального диапазона 1.55 $\mu$m с заращенным туннельным переходом

    Письма в ЖТФ, 47:22 (2021),  3–8
  22. Грибовидная меза-структура для лавинных фотодиодов на гетероструктурах InAlAs/InGaAs

    Письма в ЖТФ, 47:21 (2021),  36–38
  23. Конструкция источника одиночных фотонов спектрального диапазона 1.3 $\mu$m с инжекционной накачкой на основе вертикального микрорезонатора с внутрирезонаторными контактами

    Письма в ЖТФ, 47:5 (2021),  23–27
  24. Исследование аномальной генерации вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 850 nm с двойной оксидной токовой апертурой при большой величине спектральной расстройки

    Оптика и спектроскопия, 128:8 (2020),  1151–1159
  25. Вертикально-излучающие лазеры спектрального диапазона 1.55 мкм, изготовленные по технологии спекания гетероструктур, выращенных методом молекулярно-пучковой эпитаксии из твердотельных источников

    Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020),  1088–1096
  26. Эффект насыщающегося поглотителя в длинноволновых вертикально-излучающих лазерах, реализованных по технологии спекания

    Письма в ЖТФ, 46:24 (2020),  49–54
  27. Вертикально-излучающий лазер спектрального диапазона 1.55 $\mu$m с туннельным переходом на основе слоев $n^{++}$-InGaAs/$p^{++}$-InGaAs/$p^{++}$-InAlGaAs

    Письма в ЖТФ, 46:17 (2020),  21–25
  28. Влияние разогрева активной области на динамические и мощностные характеристики квантовых каскадных лазеров, излучающих на длине волны 4.8 $\mu$m при комнатной температуре

    Оптика и спектроскопия, 127:3 (2019),  445–448
  29. Анализ внутренних оптических потерь вертикально-излучающего лазера спектрального диапазона 1.55 $\mu$m, сформированного методом спекания пластин

    Оптика и спектроскопия, 127:1 (2019),  145–149
  30. Влияние потерь на вывод излучения на динамические характеристики вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 1.55 мкм, изготовленных методом спекания эпитаксиальных пластин

    Физика и техника полупроводников, 53:8 (2019),  1128–1134
  31. InAlAs/InGaAs/InP HEMTs с композитным каналом и улучшенными пробивными характеристиками

    Письма в ЖТФ, 45:21 (2019),  29–33
  32. Гетеробарьерные варакторы с неоднородно легированными модулирующими слоями

    Письма в ЖТФ, 45:20 (2019),  51–54
  33. Вертикально-излучающие лазеры с внутрирезонаторными контактами и ромбовидной токовой апертурой для компактных атомных часов

    Квантовая электроника, 49:2 (2019),  187–190
  34. Изготовление и исследование изорешеточной гетероструктуры для квантовых каскадных лазеров

    Физика и техника полупроводников, 52:7 (2018),  812–815
  35. Исследование модифицированной структуры квантового каскадного лазера

    Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018),  133–137
  36. Ширина линии излучения и $\alpha$-фактор одномодовых вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 850 нм на основе квантовых ям InGaAs/AlGaAs

    Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018),  98–104
  37. Эпитаксиальные структуры InGaAs/InAlAs/AlAs для гетеробарьерных варакторов с низким током утечки

    Письма в ЖТФ, 44:19 (2018),  16–23
  38. Квантовые каскадные лазеры с длиной волны излучения 4.8 $\mu$m, работающие при комнатной температуре

    Письма в ЖТФ, 44:18 (2018),  17–23
  39. Дизайн и новая функциональность антиволноводных вертикально-излучающих лазеров на длину волны 850 nm

    Письма в ЖТФ, 44:1 (2018),  85–94
  40. Влияние конструкции резонатора на ширину линии одномодовых вертикально-излучающих лазеров ближнего ИК-диапазона

    Письма в ЖТФ, 44:1 (2018),  67–75
  41. Высокоскоростные полупроводниковые вертикально-излучающие лазеры для оптических систем передачи данных (Обзор)

    Письма в ЖТФ, 44:1 (2018),  7–43
  42. Ширина линии излучения и $\alpha$-фактор одномодовых вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 850 нм на основе квантовых ям InGaAs/AlGaAs

    Физика и техника полупроводников, 51:12 (2017),  1697
  43. Молекулярно-пучковая эпитаксия структур InGaAs/InAlAs/ AlAs для гетеробарьерных варакторов

    Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017),  1484–1488
  44. Обострение оптических импульсов в вертикально-излучающих лазерах с активной областью на основе субмонослойных квантовых точек InGaAs

    Письма в ЖТФ, 43:24 (2017),  17–23
  45. Прецизионная калибровка уровня легирования кремнием эпитаксиальных слоев арсенида галлия

    Письма в ЖТФ, 43:19 (2017),  87–94
  46. Поляризационные характеристики вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 850 нм с внутрирезонаторными контактами и ромбовидной оксидной токовой апертурой

    Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016),  1408–1413
  47. Исследования диэлектрических распределенных брэгговских отражателей для вертикально-излучающих лазеров ближнего ИК-диапазона

    Письма в ЖТФ, 42:20 (2016),  57–65
  48. Лазерная генерация вертикальных микрорезонаторов с массивами квантовых точек InAs/InGaAs на длине волны 1.3 $\mu$m при оптической накачке

    Письма в ЖТФ, 42:19 (2016),  70–79
  49. Исследование быстродействующих полупроводниковых вертикально-излучающих лазеров на основе AlInGaAs наногетероструктур с большой спектральной расстройкой усиления

    Физика и техника полупроводников, 49:1 (2015),  89–93
  50. Влияние времени жизни фотонов в оптическом микрорезонаторе на характеристики вертикально-излучающих лазеров спектрального диапазона 850 нм с легированными распределенными брэгговскими отражателями и оксидной токовой апертурой

    Физика и техника полупроводников, 48:12 (2014),  1697–1703
  51. Надежные вертикально-излучающие лазеры спектрального диапазона 850 нм для оптической передачи данных на скорости 25 Гбит/с

    Физика и техника полупроводников, 48:1 (2014),  81–87
  52. Прецизионная калибровка толщин и состава слоев эпитаксиальных гетероструктур AlGaAs с вертикальным оптическим микрорезонатором

    Письма в ЖТФ, 40:24 (2014),  22–30
  53. Пространственно-одномодовые полупроводниковые вертикально излучающие лазеры с неплоским верхним распределенным брэгговским отражателем

    Физика и техника полупроводников, 47:7 (2013),  985–989
  54. Влияние оптических потерь на динамические характеристики линейных матричных излучателей на основе вертикально-излучающих лазеров ближнего инфракрасного диапазона

    Физика и техника полупроводников, 47:6 (2013),  833–837
  55. Оптическая анизотропия квантовых точек InGaAs

    Физика и техника полупроводников, 47:1 (2013),  87–91
  56. Радиационно-стимулированная деградация поверхности GaAs и транзисторных структур с высокой подвижностью электронов

    Физика и техника полупроводников, 46:6 (2012),  833–844
  57. Способ уменьшения паразитной емкости вертикально-излучающего лазера с селективно-окисленной апертурой

    Письма в ЖТФ, 38:3 (2012),  10–16
  58. Исследование влияния параметров затворной области на статические характеристики полевых СВЧ-транзисторов на основе псевдоморфных гетероструктур AlGaAs–InGaAs–GaAs

    Физика и техника полупроводников, 45:10 (2011),  1405–1409
  59. Матрицы вертикально излучающих лазеров спектрального диапазона 960 нм

    Физика и техника полупроводников, 45:6 (2011),  836–839
  60. Технология формирования субмикронного поверхностного рельефа для эпитаксиальных структур GaAs с тонкими стоп-слоями AlGaAs

    Письма в ЖТФ, 37:24 (2011),  9–15
  61. Широкоапертурный детектор терагерцового излучения на основе транзисторной структуры GaAs/InGaAs со щелевым решеточным затвором большой площади

    Письма в ЖТФ, 36:8 (2010),  39–47
  62. Вертикально-излучающие приборы на основе структур с квантовыми точками

    УФН, 171:8 (2001),  855–857


© МИАН, 2026