Наумов Виктор Васильевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Оптическая ширина запрещенной зоны литированного композита Si@O@Al
   
   Письма в ЖТФ, 52:4 (2026),  33–36
2. Наноструктурирование поверхности эпитаксиальных пленок Bi$_2$Te$_3$ при ионно-плазменной обработке
   
   Физика твердого тела, 66:8 (2024),  1408–1416
3. Изменения текстуры и удельного сопротивления пленок Ti под действием ионной бомбардировки
   
   ЖТФ, 93:10 (2023),  1509–1519
4. Определение зонной структуры и проводимости нанокомпозита Si@O@Al
   
   ЖТФ, 93:10 (2023),  1447–1458
5. Влияние варисторного эффекта и контактных явлений на характеристики твердотельных литий-ионных аккумуляторов с полупроводниковыми электродами
   
   ЖТФ, 93:9 (2023),  1329–1339
6. Удельное сопротивление тонкопленочных электродов Si@O@Al и LiCoO$_2$
   
   Письма в ЖТФ, 49:14 (2023),  8–12
7. Импеданс тонкопленочного литий-ионного аккумулятора Si@O@Al|LiPON|LiCoO$_2$ в диапазоне температур от -20 до +50$^\circ$С
   
   Письма в ЖТФ, 49:7 (2023),  20–23
8. Особенности вольт-амперной характеристики перехода Ti–Si@O@Al
   
   Письма в ЖТФ, 48:17 (2022),  9–12
9. Барьер Шоттки в структурах Si–M твердотельных литий-ионных аккумуляторов
   
   Письма в ЖТФ, 48:12 (2022),  32–35
10. Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки
    
    Письма в ЖТФ, 47:23 (2021),  35–39
11. Влияние толщины пленки Pt на изменение текстуры и доли кристаллической фазы при ее отжиге
    
    ЖТФ, 90:5 (2020),  795–804
12. Влияние диффузионных барьеров на емкостные свойства композитных анодов состава Si–CuSi–Cu
    
    Письма в ЖТФ, 46:19 (2020),  3–6
13. Твердотельный литий-ионный аккумулятор: структура, технология и характеристики
    
    Письма в ЖТФ, 46:5 (2020),  15–18
14. Формирование нанопористых пленок силицидов меди
    
    Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019),  418–422
15. Структурные изменения в пленках Si–CuSi при интеркаляции ионов лития
    
    Письма в ЖТФ, 45:19 (2019),  17–20
16. Влияние толщины пленки Pt на процессы роста зерен при ее отжиге
    
    ЖТФ, 88:6 (2018),  926–933
17. Формирование полых свинцовых структур на поверхности пленок PbSe при обработке в аргоновой плазме
    
    Письма в ЖТФ, 44:12 (2018),  32–38
18. Влияние постоянного магнитного поля на формирование силицидных фаз в структуре Cu/Si(100) при изотермическом отжиге
    
    Физика и техника полупроводников, 51:6 (2017),  844–849
19. Экспериментальное исследование тонких пленок твердого электролита фосфор-оксинитрида лития
    
    Письма в ЖТФ, 43:11 (2017),  3–11
20. Изменение проводимости тонких пленок селенида свинца после плазменного травления
    
    Физика и техника полупроводников, 50:8 (2016),  1146–1150
21. Формирование затворных структур типа W/HfO$_2$/Si магнетронным распылением in situ и быстрым термическим отжигом
    
    ЖТФ, 84:5 (2014),  82–87
22. Эффект магнитомиграции при отжиге гранулированных пленок Co–Cu
    
    Письма в ЖТФ, 40:4 (2014),  9–15
23. Эффект магнитомиграции в гранулированных пленках Co–Cu, осаждаемых ионно-плазменным методом
    
    Письма в ЖТФ, 39:12 (2013),  35–43
24. Влияние энергии ионов на морфологию поверхности пленки платины при высокочастотном ионно-плазменном распылении
    
    Письма в ЖТФ, 39:2 (2013),  68–75
25. Формирование и методика исследования ультратонких слоев силицида кобальта в структурах Ti/Co/Ti, TiN/Ti/Co и TiN/Co на кремнии
    
    ЖТФ, 82:2 (2012),  122–128
26. Формирование нанопроволок селенида свинца по механизму "пар–жидкость–кристалл" под накладной маской при плазменной обработке
    
    Письма в ЖТФ, 37:19 (2011),  80–87
27. Особенности формирования CoSi$_2$ при двухстадийном быстром термическом отжиге структур Ti/Co/Ti/Si(100)
    
    Письма в ЖТФ, 37:3 (2011),  36–44