RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Скуратов Владимир Алексеевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Комплексы собственных точечных дефектов в кремнии, сформированные в результате ионной имплантации ксенона высоких энергий и постимплантационных отжигов

    Физика и техника полупроводников, 59:5 (2025),  298–301
  2. Люминесцентные свойства высокоомного кремния, облученного тяжелыми ионами высоких энергий

    Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019),  1467–1470
  3. Изменение структуры и свойств приповерхностного слоя Si, имплантированного Zn, в зависимости от флюенса облучения ионами $^{132}$Xe$^{26+}$ с энергией 167 МэВ

    Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019),  332–339
  4. Облучение тяжелыми ионами 4H-SiC детекторов ультрафиолетового излучения

    Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015),  550–556
  5. Эффект дальнодействия в 6H-SiC при облучении ионами Хе

    Письма в ЖТФ, 41:5 (2015),  47–53
  6. Оптические и электрические свойства 4H-SiC, облученного ионами Xe

    Физика и техника полупроводников, 48:2 (2014),  167–174
  7. Орбитальное квантование в системе краевых дираковских фермионов в наноперфорированном графене

    Письма в ЖЭТФ, 98:4 (2013),  242–246
  8. Действие быстрых тяжелых ионов на многослойные гетероструктуры Si/SiO$_2$

    Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013),  334–339
  9. Формирование светоизлучающих наноструктур в слоях стехиометрического SiO$_2$ при облучении тяжелыми ионами высоких энергий

    Физика и техника полупроводников, 45:10 (2011),  1363–1368
  10. Зарядовая спектроскопия слоев SiO$_2$ с нанокристаллами кремния, модифицированных ионами высоких энергий

    Физика и техника полупроводников, 45:5 (2011),  591–595
  11. Влияние состава слоев SiO$_x$ на формирование в них светоизлучающих наноструктур Si под действием быстрых тяжелых ионов

    Физика и техника полупроводников, 45:3 (2011),  419–424
  12. Светоизлучающие наноструктуры Si, формирующиеся в SiO$_2$ при облучении быстрыми тяжелыми ионами

    Физика и техника полупроводников, 44:4 (2010),  544–549
  13. Упорядоченные массивы нанокристаллов кремния в SiO$_2$: структурные, оптические, электронные свойства

    Физика и техника полупроводников, 44:4 (2010),  501–506
  14. Атомная “камера-обскура” с нанометровым разрешением

    Письма в ЖЭТФ, 84:8 (2006),  544–547
  15. Аномальное поведение токового шума в YBaCuO микроболометрах выше $T_{c}$

    Письма в ЖТФ, 17:8 (1991),  9–13
  16. Исследование воздействия пучков ионов $^{84}$Kr и $^{16}$O$_{2}$ на шумовые характеристики YBaCuO микроболометров

    Письма в ЖТФ, 17:2 (1991),  9–14
  17. Влияние ионизационных и ядерных потерь энергии тяжелых ионов на дефектообразование в кристаллах LiF

    Физика твердого тела, 31:7 (1989),  17–21
  18. Радиационное упрочнение металлов, облученных тяжелыми ионами

    ЖТФ, 59:5 (1989),  107–111
  19. Исследование методом аннигиляции позитронов дефектов в монокристаллах кремния, облученных ионами ксенона

    Физика и техника полупроводников, 23:2 (1989),  328–331
  20. Влияние бомбардировки тяжелыми ионами высоких энергий на оптические свойства и дефекты в монокристаллах окиси цинка

    ЖТФ, 57:2 (1987),  306–310
  21. Дефектообразование в синтетическом алмазе при высокоэнергетичной ионной имплантации

    Физика и техника полупроводников, 21:6 (1987),  1095–1100
  22. Влияние высокоэнергетичного ионного облучения на ползучесть алюминия

    ЖТФ, 53:9 (1983),  1804–1808


© МИАН, 2026