|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Комплексы собственных точечных дефектов в кремнии, сформированные в результате ионной имплантации ксенона высоких энергий и постимплантационных отжигов
Физика и техника полупроводников, 59:5 (2025), 298–301
-
Люминесцентные свойства высокоомного кремния, облученного тяжелыми ионами высоких энергий
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1467–1470
-
Изменение структуры и свойств приповерхностного слоя Si, имплантированного Zn, в зависимости от флюенса облучения ионами $^{132}$Xe$^{26+}$ с энергией 167 МэВ
Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019), 332–339
-
Облучение тяжелыми ионами 4H-SiC детекторов ультрафиолетового излучения
Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 550–556
-
Эффект дальнодействия в 6H-SiC при облучении ионами Хе
Письма в ЖТФ, 41:5 (2015), 47–53
-
Оптические и электрические свойства 4H-SiC, облученного ионами Xe
Физика и техника полупроводников, 48:2 (2014), 167–174
-
Орбитальное квантование в системе краевых дираковских фермионов в
наноперфорированном графене
Письма в ЖЭТФ, 98:4 (2013), 242–246
-
Действие быстрых тяжелых ионов на многослойные гетероструктуры Si/SiO$_2$
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 334–339
-
Формирование светоизлучающих наноструктур в слоях стехиометрического SiO$_2$ при облучении тяжелыми ионами высоких энергий
Физика и техника полупроводников, 45:10 (2011), 1363–1368
-
Зарядовая спектроскопия слоев SiO$_2$ с нанокристаллами кремния, модифицированных ионами высоких энергий
Физика и техника полупроводников, 45:5 (2011), 591–595
-
Влияние состава слоев SiO$_x$ на формирование в них светоизлучающих наноструктур Si под действием быстрых тяжелых ионов
Физика и техника полупроводников, 45:3 (2011), 419–424
-
Светоизлучающие наноструктуры Si, формирующиеся в SiO$_2$ при облучении быстрыми тяжелыми ионами
Физика и техника полупроводников, 44:4 (2010), 544–549
-
Упорядоченные массивы нанокристаллов кремния в SiO$_2$: структурные, оптические, электронные свойства
Физика и техника полупроводников, 44:4 (2010), 501–506
-
Атомная “камера-обскура” с нанометровым разрешением
Письма в ЖЭТФ, 84:8 (2006), 544–547
-
Аномальное поведение токового шума в YBaCuO микроболометрах
выше $T_{c}$
Письма в ЖТФ, 17:8 (1991), 9–13
-
Исследование воздействия пучков ионов $^{84}$Kr и $^{16}$O$_{2}$
на шумовые характеристики YBaCuO микроболометров
Письма в ЖТФ, 17:2 (1991), 9–14
-
Влияние ионизационных и ядерных потерь энергии тяжелых ионов на дефектообразование в кристаллах LiF
Физика твердого тела, 31:7 (1989), 17–21
-
Радиационное упрочнение металлов, облученных тяжелыми ионами
ЖТФ, 59:5 (1989), 107–111
-
Исследование методом аннигиляции позитронов дефектов в монокристаллах
кремния, облученных ионами ксенона
Физика и техника полупроводников, 23:2 (1989), 328–331
-
Влияние бомбардировки тяжелыми ионами высоких энергий
на оптические свойства и дефекты в монокристаллах окиси цинка
ЖТФ, 57:2 (1987), 306–310
-
Дефектообразование в синтетическом алмазе при высокоэнергетичной
ионной имплантации
Физика и техника полупроводников, 21:6 (1987), 1095–1100
-
Влияние высокоэнергетичного ионного облучения на ползучесть алюминия
ЖТФ, 53:9 (1983), 1804–1808
© , 2026