|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Желтый неоновый лазер ($\lambda$ = 585.3 nm) с накачкой импульсным индукционным продольным разрядом
ЖТФ, 95:6 (2025), 1118–1125
-
Механизм генерации УФ азотного лазера с накачкой импульсным индукционным продольным разрядом
Квантовая электроника, 54:8 (2024), 467–471
-
Азотный лазер с накачкой импульсным продольным электрическим и индукционным разрядами
Письма в ЖТФ, 49:20 (2023), 8–10
-
Импульсный индукционный CO$_2$-лазер с энергией излучения 1J и высоким КПД с ВЧ возбуждением
Оптика и спектроскопия, 130:3 (2022), 400–406
-
Воздействие лазерного УФ излучения на склеральную ткань глаза больных открытоугольной глаукомой
Квантовая электроника, 48:5 (2018), 481–486
-
Импульсный индукционный HF-лазер
Квантовая электроника, 46:3 (2016), 210–212
-
Мощные газоразрядные эксимерные ArF-, KrCl-, KrF- и XeCl-лазеры на двухкомпонентных газовых смесях без буферного газа
Квантовая электроника, 46:3 (2016), 205–209
-
Исследование УФ излучения индукционного азотного лазера
Квантовая электроника, 39:10 (2009), 901–905
-
Исследование влияния удельной мощности накачки на энергию излучения и КПД эксимерного газоразрядного KrCl-лазера (223 нм)
Квантовая электроника, 38:11 (2008), 1005–1008
-
Индукционный ультрафиолетовый азотный лазер
Письма в ЖЭТФ, 86:6 (2007), 479–483
-
FI-лазер в области 703–731 нм с возбуждением индукционным поперечным разрядом
Письма в ЖЭТФ, 82:5 (2005), 290–294
-
Влияние параметров возбуждения и активной среды на эффективность эксимерного электроразрядного ArF-лазера
Квантовая электроника, 35:9 (2005), 799–804
-
Влияние интенсивности накачки на эффективность эксимерного электроразрядного KrF-лазера на смеси He–Kr–F2
Квантовая электроника, 34:10 (2004), 901–906
-
Эксимерный KrCl-лазер (λ = 223 нм) на смеси He–Kr–HCl
Квантовая электроника, 34:2 (2004), 95–98
-
Эксимерный KrF-лазер на основе буферного газа Не с энергией 0.8 Дж и КПД 2%
Квантовая электроника, 25:8 (1998), 687–689
-
Cпектр излучения электроразрядного ClF-лазера
Квантовая электроника, 25:6 (1998), 501–504
-
Эксимерный ArF-лазер с энергией 0.5 Дж на основе буферного газа Не
Квантовая электроника, 24:8 (1997), 683–687
-
Зависимость параметров плазмы и энергии генерации эксимерных лазеров от содержания Хе в смеси He–Xe–HCl
Квантовая электроника, 15:11 (1988), 2309–2317
-
Эффективный электроразрядный $F_{2}$-лазер на 157.6 нм
Письма в ЖТФ, 12:3 (1986), 157–160
-
Мощный эффективный ВУФ F2-лазер, возбуждаемый электрическим разрядом
Квантовая электроника, 13:5 (1986), 1072–1075
-
Приповерхностный фоторефракционный эффект в кристалле ниобата лития
Квантовая электроника, 13:4 (1986), 849–851
-
Эксимерный лазер с двумя одновременно возбуждаемыми активными
средами
ЖТФ, 55:4 (1985), 664–668
-
Эксимерный лазер с двумя одновременно возбуждаемыми активными объемами
Квантовая электроника, 12:11 (1985), 2269–2274
-
Электроразрядный XeCl-лазер с высокими пространственной однородностью и плотностью излучения
Квантовая электроника, 11:2 (1984), 287–291
-
Активная синхронизация мод XeCl-лазера
Квантовая электроника, 9:1 (1982), 150–152
-
УФ лазеры на красителях с накачкой эксимерными лазерами
Квантовая электроника, 5:2 (1978), 424–425
-
Одночастотный режим работы азотного лазера
Квантовая электроника, 4:2 (1977), 448–451
-
Ультрафиолетовый лазер на азоте мощностью 0,5 Вт
Квантовая электроника, 2:8 (1975), 1777–1780
-
Эксимерный ArF-лазер с энергией 0.5 Дж на основе буферного газа Не
(«Квантовая электроника», 1997, т.24, №8, с.683–687)
Квантовая электроника, 24:9 (1997), 864
© , 2026