RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Басиев Тасолтан Тазретович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Четырехволновая генерация ВКР-компонент излучения в кристаллах BaWO4 и SrWO4 при пикосекундном возбуждении

    Квантовая электроника, 43:7 (2013),  616–620
  2. Безрезонаторная стохастическая лазерная генерация в нанокомпозитной среде

    Квантовая электроника, 43:1 (2013),  63–70
  3. Синхронизм четырехволновых взаимодействий ВКР-компонент в двулучепреломляющих ВКР-кристаллах

    Квантовая электроника, 42:3 (2012),  224–227
  4. Кинетика сверхбыстрого миграционно-ускоренного тушения в наночастицах

    Письма в ЖЭТФ, 93:12 (2011),  777–781
  5. Спонтанное и вынужденное комбинационное рассеяние света в кристаллах ZnWO4

    Квантовая электроника, 41:4 (2011),  370–372
  6. Петлевые лазерные резонаторы на самонакачивающихся ОВФ-зеркалах в слабо усиливающих активных средах для сфазированных многоканальных лазерных систем

    Квантовая электроника, 41:3 (2011),  207–211
  7. Управление фазовой синхронизацией излучения в наборе лазеров с самонакачивающимися ОВФ-зеркалами на решетках усиления при использовании пассивного лазерного затвора

    Квантовая электроника, 41:3 (2011),  202–206
  8. Монокристаллы пированадата свинца — новый материал для получения ВКР-генерации

    Квантовая электроника, 41:2 (2011),  125–127
  9. Люминесцентная нанофотоника, фторидная лазерная керамика и кристаллы

    УФН, 181:12 (2011),  1334–1340
  10. Теоретический анализ статического тушения оптических возбуждений в люминесцирующих наночастицах

    Письма в ЖЭТФ, 91:5 (2010),  254–258
  11. Эффективное преобразование излучения Nd:YAG-лазера в безопасный для глаз спектральный диапазон при вынужденном комбинационном рассеянии в кристалле BaWO4

    Квантовая электроника, 40:8 (2010),  710–715
  12. Внутрирезонаторная ВКР-генерация в полифункциональном лазерном кристалле SrMoO4:Nd3+ при диодной накачке

    Квантовая электроника, 40:8 (2010),  704–709
  13. Качественное улучшение лазерных свойств кристаллов PbGa2S4:Dy3+ при их соактивации ионами Na+

    Квантовая электроника, 40:7 (2010),  596–598
  14. Параметрическая связь частотных компонент излучения при вынужденном комбинационном рассеянии в твердом теле

    УФН, 180:6 (2010),  639–646
  15. Измерение оптического поглощения образцов нанокерамики из CaF2

    Квантовая электроника, 39:10 (2009),  943–947
  16. Технологии перфорации близкорасположенных микронных отверстий с использованием неодимовых LiF:F2--лазеров

    Квантовая электроника, 39:4 (2009),  385–387
  17. Исследование дифракционно-связанной генерации излучения в наборе лазеров с самонакачивающимися ОВФ-зеркалами на решетках усиления при близкодействующей связи

    Квантовая электроника, 39:1 (2009),  31–35
  18. Спонтанное излучение в диэлектрических наночастицах

    Письма в ЖЭТФ, 88:1 (2008),  14–20
  19. Преобразование люминесценции лазерных красителей в вынужденное излучение в опаловой матрице

    Квантовая электроника, 38:7 (2008),  665–669
  20. Светоуправляемый сдвиг стоп-зоны в синтетических опалах, заполненных оптически нелинейным раствором красителя

    Квантовая электроника, 38:1 (2008),  37–40
  21. Лазерная генерация наноструктурированной фторидной керамики LiF с F-2-центрами окраски при диодной накачке

    Квантовая электроника, 37:11 (2007),  989–990
  22. Высокоскоростное аблирование сверхглубоких каналов фазово-сопряженным Nd:ИАГ-лазером с динамически регулируемой пассивной модуляцией добротности

    Квантовая электроника, 37:10 (2007),  956–960
  23. Эффективная генерация монокристаллов твердых растворов CaF2–SrF2:Yb3+ при диодной лазерной накачке

    Квантовая электроника, 37:10 (2007),  934–937
  24. Усилитель на неодимовом фосфатном стекле ГЛС-23 с длиной волны 1.047 мкм

    Квантовая электроника, 37:7 (2007),  597–598
  25. Динамика генерации сфазированной трехканальной голографической Nd:YAG лазерной системы

    Квантовая электроника, 37:3 (2007),  255–258
  26. Исследование фазовой самосинхронизации импульсного трехканального голографического Nd:YAG-лазера на решетках усиления

    Квантовая электроника, 37:2 (2007),  143–146
  27. Лазерная прошивка сверхглубоких микронных отверстий в различных материалах при программируемом управлении параметрами лазерной генерации

    Квантовая электроника, 37:1 (2007),  99–102
  28. Сравнение оптических характеристик монокристалла и оптической керамики CaF2

    Квантовая электроника, 37:1 (2007),  27–28
  29. Генерационные свойства ВКР-активных кристаллов молибдатов и вольфраматов, активированных ионами Nd3+ при селективной оптической накачке

    Квантовая электроника, 36:8 (2006),  720–726
  30. Прямое усиление пикосекундных импульсов в кристаллах LiF:F2-

    Квантовая электроника, 36:7 (2006),  609–611
  31. Непрерывная генерация с плавной перестройкой длины волны вблизи 2.75 мкм на кристаллах SrF2:Er3+ и CaF2:Er3+

    Квантовая электроника, 36:7 (2006),  591–594
  32. Новые материалы для ВКР-лазеров

    Усп. хим., 75:10 (2006),  939–955
  33. Усиление пикосекундных импульсов в кристаллах LiF:F2- при синхронной пико- и наносекундной лазерной накачке

    Квантовая электроника, 35:4 (2005),  344–346
  34. Применение лазера на центрах окраски в кристалле LiF для накачки активной среды YAG:Yb

    Квантовая электроника, 34:12 (2004),  1138–1142
  35. Вынужденное комбинационное рассеяние в кристаллах в условиях фазомодулированной пикосекундной накачки

    Квантовая электроника, 34:10 (2004),  924–926
  36. ВКР-преобразование излучения с высокой средней мощностью в кристалле BaWO4

    Квантовая электроника, 34:7 (2004),  649–651
  37. Импульсные Cr2+:ZnS- и Cr2+:ZnSe-лазеры среднего ИК диапазона с накачкой неодимовыми лазерами с модуляцией добротности и сдвигом частоты излучения с помощью ВКР

    Квантовая электроника, 34:1 (2004),  8–14
  38. Сверхчувствительный электронный переход в примесных Nd–Nd нано-кластерах кристалла CaF$_2$

    Письма в ЖЭТФ, 78:5 (2003),  768–771
  39. Одно- и двухфотонные спектры кластеров Nd3+ в кристаллах CaF2 и SrF2

    Квантовая электроника, 33:8 (2003),  684–688
  40. Фазовая синхронизация оптически связанных лазеров на решетках усиления в активной среде

    Квантовая электроника, 33:8 (2003),  659–670
  41. Вынужденное комбинационное рассеяние пикосекундных импульсов в кристаллах SrMoO4 и Ca3(VO4)2

    Квантовая электроника, 33:4 (2003),  331–334
  42. Генерация молекулярного газового HCl-лазера в области λ = 4 мкм при оптическом возбуждении в третий колебательный обертон перестраиваемым лазером на центрах окраски

    Квантовая электроника, 33:3 (2003),  210–214
  43. Моделирование и оптимизация HCl-лазера с оптической накачкой

    Квантовая электроника, 33:3 (2003),  201–209
  44. Агрегатные центры окраски в примесных кристаллах LiF

    Квантовая электроника, 32:8 (2002),  659–662
  45. Кинетика кооперативного тушения. Теория и моделирование методом Монте-Карло

    Письма в ЖЭТФ, 74:11 (2001),  612–615
  46. Широкополосный оптический усилитель ИК импульсов на кристалле LiF:F2+

    Квантовая электроника, 31:5 (2001),  424–426
  47. Широкополосная генерация и нелинейное преобразование излучения лазеров на кристаллах LiF c F2+ и F2--центрами окраски

    Квантовая электроника, 31:4 (2001),  285–289
  48. Вынужденное комбинационное рассеяние в кристаллах щелочноземельных вольфраматов

    Квантовая электроника, 30:1 (2000),  55–59
  49. Одномодовый ИАГ:Nd-лазер с самонакачивающимся фазово-сопряженным петлевым резонатором

    Квантовая электроника, 27:2 (1999),  145–148
  50. Спектроскопия поглощения из возбужденного состояния кристаллов SrF2:Nd3+ в спектральном диапазоне длин волн 1280 — 1320 нм

    Квантовая электроника, 26:2 (1999),  117–121
  51. Спектроскопия новых ВКР-активных кристаллов и твердотельные ВКР-лазеры

    УФН, 169:10 (1999),  1149–1155
  52. Технологический ИАГ:Nd-лазер с трехзеркальным резонатором и его применение

    Квантовая электроника, 25:6 (1998),  525–528
  53. Усилительные свойства кристаллов LiF со стабилизированными $F^+_2$-центрами окраски

    Квантовая электроника, 25:2 (1998),  187–189
  54. Квазинепрерывная генерация LiF-лазера c $F_2^-$-центрами окраски

    Квантовая электроника, 24:9 (1997),  779–780
  55. Временные и спектральные характеристики перестраиваемого лазера на кристалле LiF с $F_2^-$ центрами окраски

    Квантовая электроника, 24:7 (1997),  591–595
  56. Оптические и безызлучательные переходы с участием триплетных состояний лазерных $F_3^+$-ЦО в кристаллах LiF

    Квантовая электроника, 24:4 (1997),  313–317
  57. Высокоэффективная генерация перестраиваемых пикосекундных импульсов на основе лазерного кристалла LiF:$F_2^-$

    Квантовая электроника, 23:12 (1996),  1072–1074
  58. Дихроизм кристалла LiF при необратимом пространственно-селективном разрушении $F_2^-$-центров окраски под действием излучения с $\lambda \sim$ 1.06 мкм

    Квантовая электроника, 23:3 (1996),  269–272
  59. Поляризационные характеристики двухфотонного поглощения в кристалле LiF:$F^-_2$ на длине волны 1.06 мкм

    Квантовая электроника, 23:2 (1996),  149–153
  60. Исследование уширения линии ВКР-активного колебания в кристалле нитрата бария методом двухфотонной спектроскопии комбинационного усиления

    Квантовая электроника, 22:12 (1995),  1241–1244
  61. Природа переноса энергии электронного возбуждения от ионов Cr3+ к редкоземельным ионам в кристаллах гранатов

    Квантовая электроника, 22:8 (1995),  759–764
  62. Сенсибилизация люминесценции ионов Er3+ и Ho3+ ионами Cr4+ в кристалле Y2SiO5

    Квантовая электроника, 22:1 (1995),  33–36
  63. Пикосекундный лазер с активной синхронизацией мод на основе кальций-литий-ниобий-галлиевого разупорядоченного граната с Nd3+

    Квантовая электроника, 21:1 (1994),  89–90
  64. Модуляция добротности технологического ИАГ:Nd-лазера кристаллами LiF:F2 при импульсно-периодической накачке

    Квантовая электроника, 20:6 (1993),  594–596
  65. Модуляция добротности ИАГ:Nd-лазера с линейным трехзеркальным резонатором кристаллами LiF:$F_2^-$

    Квантовая электроника, 19:8 (1992),  772–773
  66. Эффективные перестраиваемые лазеры на кристаллах LiF(F2) с F2- и F2+-ЦO

    Квантовая электроника, 19:2 (1992),  145
  67. Трехкаскадный усилитель одномодового излучения ИАГ: Nd-лазера с пассивным затвором на кристалле LiF:F2

    Квантовая электроника, 18:7 (1991),  822–824
  68. Модуляция добротности технологического ИАГ:Nd-лазера кристаллами LiF:F2

    Квантовая электроника, 18:2 (1991),  223–225
  69. Особенности концентрационного тушения люминесценции с уровня 4S3/2 иона Er3+ в кристалле (Y1 – xErx)3Al2O5

    Квантовая электроника, 15:9 (1988),  1800–1801
  70. Непрерывный кольцевой LiF:F2-лазер

    Квантовая электроника, 15:3 (1988),  499–500
  71. Преобразование перестраиваемого излучения лазера на кристалле LiF с F2-ЦО путем генерации ВКР в кристаллах Ba(NO3)2 и KGd(WO4)2

    Квантовая электроника, 14:12 (1987),  2452–2454
  72. Прямое измерение скорости безызлучательной релаксации и спектры люминесценции с уровней 4G7/2, 4G5/2+2G7/2 и 4F9/2 ионов Nd3+ в лазерных кристаллах LaF3, SrF2 и YAlO3

    Квантовая электроника, 14:10 (1987),  2021–2023
  73. Генерирование и регистрация мощного плавноперестраиваемого излучения субпикосекундной длительности в лазере на кристалле фтористого лития с F2-центрами окраски

    Квантовая электроника, 13:11 (1986),  2262–2266
  74. Профилирование лазерного импульса с помощью насыщающихся фильтров

    Квантовая электроника, 13:8 (1986),  1718–1720
  75. Перестраиваемый лазер на кристаллах LiF(F2) с повышенным ресурсом работы

    Квантовая электроника, 13:2 (1986),  422–425
  76. Двухпроходовый малогабаритный лазерный усилитель на кристалле ГСГГ:Cr3+, Nd3+

    Квантовая электроника, 13:2 (1986),  412–414
  77. Лазер на центрах окраски в кристалле LiF с выходной энергией 100 Дж

    Квантовая электроника, 12:6 (1985),  1125–1126
  78. Об оптимизации параметров активных элементов в миниатюрных лазерах на концентрированном Li–Nd–La-фосфатном стекле

    Квантовая электроника, 11:8 (1984),  1671–1674
  79. Генерационные характеристики лазеров на кристаллах LiF:$F_2^-$ при мощном возбуждении

    Квантовая электроника, 10:9 (1983),  1919–1922
  80. Импульсный АИГ : Nd3+-лазер с пассивным модулятором добротности на кристалле LiF с F2-центрами

    Квантовая электроника, 10:3 (1983),  619–621
  81. Эффективные перестраиваемые лазеры на основе кристаллов LiF:$F_2^-$

    Квантовая электроника, 9:8 (1982),  1741–1743
  82. Лазер на концентрированном Li–Nd–La-фосфатном стекле с пассивной модуляцией добротности

    Квантовая электроника, 9:8 (1982),  1536–1542
  83. Эффективные пассивные затворы неодимовых лазеров на основе кристаллов LiF:F2

    Квантовая электроника, 9:4 (1982),  837–839
  84. Перестраиваемый лазер на LiF : $F_2^+$-центpax окраски с голографическим селектором

    Квантовая электроника, 8:2 (1981),  419–421
  85. Исследование тонкой структуры неоднородно-уширенных полос поглощения иона $Nd^{3+}$ в стекле методом селективного возбуждения

    Квантовая электроника, 7:11 (1980),  2477–2480
  86. Безызлучательные потери на переходе 4I11/24I13/2 иона Er3+ в кристаллах Y3Al5O12, Gd3Sc2Al3O12, Y3Ga5O12, Gd3Ga5O12, CaF2

    Квантовая электроника, 5:5 (1978),  1028–1033
  87. Излучательные и безызлучательные переходы Er3+ в смешанных иттрий-эрбий-алюминиевых гранатах

    Квантовая электроника, 3:7 (1976),  1471–1477
  88. Миграция энергии по ионам Yb3+ в кристаллах гранатов

    Квантовая электроника, 2:10 (1975),  2172–2182
  89. Исследование механизма безызлучательной релаксации метастабильного состояния Nd3+ 4F3/2 в силикатном стекле

    Квантовая электроника, 2:6 (1975),  1269–1277
  90. О квантовом выходе люминесценции с метастабильного состояния $\mathrm{Nd}^{3+}$ в силикатных стеклах и кристаллах $\mathrm{Y}_3\mathrm{Al}_5\mathrm{O}_{12}$

    Докл. АН СССР, 216:2 (1974),  297–299

  91. Александр Александрович Каплянский (к 80-летию со дня рождения)

    УФН, 181:1 (2011),  115–116
  92. К 80-летию А. А. Маненкова

    Квантовая электроника, 40:2 (2010),  188
  93. Памяти Сергея Ивановича Яковленко

    Квантовая электроника, 37:2 (2007),  204
  94. Поправка к статье: Модуляция добротности ИАГ:Nd-лазера с линейным трехзеркальным резонатором кристаллами LiF:$F_2^-$

    Квантовая электроника, 19:12 (1992),  1248
  95. Вячеслав Васильевич Осико (К шестидесятилетию со дня рождения)

    УФН, 162:4 (1992),  165–167
  96. Вячеслав Васильевич Осико (к пятидесятилетию со дня рождения)

    Квантовая электроника, 9:5 (1982),  1072


© МИАН, 2026