RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Шашкин Владимир Иванович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Микроволновая вольт-импедансная спектроскопия полупроводников

    ЖТФ, 90:11 (2020),  1944–1950
  2. Формирование омических контактов к слою алмазоподобного углерода, осажденному на диэлектрическую алмазную подложку

    Физика и техника полупроводников, 54:9 (2020),  865–867
  3. Модификация соотношения $sp^2/sp^3$-гибридного углерода в PECVD пленках DLC

    Физика и техника полупроводников, 54:9 (2020),  855–858
  4. Использование импульсного лазерного отжига для формирования омических контактов Mo/Ti к алмазу

    Письма в ЖТФ, 46:11 (2020),  34–38
  5. Исследование формирования омических контактов Au/Mo/Ti с пониженным сопротивлением к эпитаксиальным слоям алмаза $p$-типа

    ЖТФ, 89:12 (2019),  1923–1932
  6. Омические контакты к эпитаксиальным структурам CVD-алмаза с дельта-слоями бора

    Физика и техника полупроводников, 53:10 (2019),  1386–1390
  7. Вертикальный полевой транзистор с управляющим $p$$n$-переходом на основе GaAs

    Физика и техника полупроводников, 53:10 (2019),  1311–1314
  8. Плазмохимическое осаждение алмазоподобных пленок на поверхности монокристаллического высоколегированного алмаза

    Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019),  1229–1232
  9. Детекторы на основе низкобарьерных диодов Мотта и их характеристики в диапазоне 150–250 GHz

    Письма в ЖТФ, 45:5 (2019),  56–58
  10. Плазмохимическое травление арсенида галлия в индуктивно-связанной плазме C$_{2}$F$_{5}$Cl

    Физика и техника полупроводников, 52:11 (2018),  1362–1365
  11. Исследование структурных и морфологических свойств HPHT алмазных подложек

    Физика и техника полупроводников, 52:11 (2018),  1321–1325
  12. Влияние высоты барьера затвор–канал на характеристики детектирования полевого транзистора в сверхвысокочастотном и терагерцовом диапазонах

    ЖТФ, 87:5 (2017),  746–753
  13. Емкостная спектроскопия дырочных ловушек в высокоомных структурах арсенида галлия, выращенных жидкофазным методом

    Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017),  1538–1542
  14. Низкотемпературное осаждение пленок SiN$_{x}$ в индуктивно-связанной плазме SiH$_{4}$/Ar + N$_{2}$ в условиях сильного разбавления силана аргоном

    Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017),  1503–1506
  15. Erratum to: “Atomic composition and electrical characteristics of epitaxial CVD diamond layers doped with boron”

    Физика и техника полупроводников, 51:8 (2017),  1151
  16. Атомный состав и электрофизические характеристики эпитаксиальных слоев CVD алмаза, легированных бором

    Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016),  1595–1598
  17. Сильно легированные слои GaAs : Te, полученные в процессе МОГФЭ с использованием диизопропилтеллурида в качестве источника

    Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016),  1459–1462
  18. Радиационная стойкость планарных диодов Ганна с $\delta$-легированными слоями

    Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015),  1507–1515
  19. Слои Si$_3$N$_4$ для in situ пассивации транзисторных структур на основе GaN

    Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015),  1469–1472
  20. Монокристаллические слои GaN/AlN на CVD-алмазе

    Письма в ЖТФ, 41:19 (2015),  73–80
  21. Рост с высокими скоростями пленок InN на подложках фианита и сапфира методом металлоорганической газофазной эпитаксии с плазменной активацией азота

    Письма в ЖТФ, 41:6 (2015),  17–25
  22. Применение низкобарьерных структур металл–полупроводник–металл для детектирования микроволновых сигналов

    ЖТФ, 84:7 (2014),  91–95
  23. Асферический однолинзовый объектив для систем радиовидения миллиметрового диапазона длин волн

    ЖТФ, 84:4 (2014),  120–125
  24. Влияние быстрого термического отжига на параметры арсенидгаллиевого низкобарьерного диода с приповерхностным $\delta$-легированием

    Физика и техника полупроводников, 47:11 (2013),  1481–1485
  25. Экспериментальное исследование матрицы детекторов системы радиовидения 3-mm диапазона длин волн

    Письма в ЖТФ, 39:12 (2013),  44–49
  26. Внутризонная фотопроводимость гетероструктур InAs/GaAs с квантовыми точками, индуцированная межзонной подсветкой

    Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012),  1444–1447
  27. Модификация высоты барьера в диодах Шоттки на кремнии при использовании сильно легированных 3D- и 2D-слоев

    Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012),  1384–1387
  28. Рост пленок InN методом металлоорганической газофазной эпитаксии при активации азота в плазме, создаваемой гиротронным излучением

    Письма в ЖТФ, 38:24 (2012),  86–94
  29. Фотопроводимость структур InAs/GaAs с нанокластерами InAs в ближнем инфракрасном диапазоне

    Физика и техника полупроводников, 44:11 (2010),  1511–1513
  30. Получение слоев нанокристаллического кремния методом стимулированного плазмой осаждения (PECVD) из газовой фазы тетрафторида кремния

    Письма в ЖЭТФ, 89:2 (2009),  80–83
  31. Транспорт в сверхрешетках со слабыми барьерами и проблема терагерцового блоховского генератора

    УФН, 173:7 (2003),  780–783
  32. Коэффициент диффузии разогретых носителей, спектр волн пространственного заряда и характерные частоты неустойчивости в полупроводниковых сверхрешетках

    Физика и техника полупроводников, 18:4 (1984),  721–724

  33. Захарий Фишелевич Красильник (к 70-летию со дня рождения)

    Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018),  285–286


© МИАН, 2026