|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Нелинейный коэффициент Холла в пленках трехмерного топологического изолятора
Письма в ЖЭТФ, 120:3 (2024), 208–213
-
Электронная структура янусовских слоев на основе Ti$_{1-y}$Cr$_y$(Se$_{1-x}$S$_x$)$_2$
Физика и техника полупроводников, 58:7 (2024), 365–369
-
Электронные свойства топологического изолятора Sb$_2$Te$_2$Se
Физика и техника полупроводников, 58:4 (2024), 192–195
-
Пассивация поверхности CdHgTe с использованием низкотемпературного плазменно-стимулированного атомно-слоевого осаждения HfO$_2$
Письма в ЖТФ, 50:16 (2024), 7–10
-
Пассивация фтором границы раздела оксид/InAs(001)
Письма в ЖТФ, 49:5 (2023), 6–9
-
Фоточувствительность полевого транзистора металл-диэлектрик-полупроводник на основе пленки PbSnTe:In с составом вблизи инверсии зон
Письма в ЖТФ, 49:3 (2023), 22–25
-
Смешанный тип магнитного порядка в собственных магнитных топологических изоляторах Mn(Bi,Sb)$_2$Te$_4$
Письма в ЖЭТФ, 116:11 (2022), 793–800
-
Электронная структура магнитных топологических изоляторов серии Mn(Bi$_{1-x}$Sb$_{x})_2$Te$_4$ при изменении концентрации атомов Sb
Письма в ЖЭТФ, 115:5 (2022), 315–321
-
Оптимизация буферного диэлектрического слоя для создания малодефектных эпитаксиальных пленок топологического изолятора
Pb$_{1-x}$Sn$_x$Te c $x\ge$ 0.4
Физика и техника полупроводников, 56:7 (2022), 642–645
-
МДП транзистор на основе пленки PbSnTe : In с подзатворным диэлектриком Al$_2$O$_3$
Физика и техника полупроводников, 56:2 (2022), 243–249
-
Спектр оптических фононов монокристалла Ge$_2$Sb$_2$Te$_5$
Письма в ЖЭТФ, 113:10 (2021), 683–688
-
Получение атомарно-чистых и структурно-упорядоченных поверхностей эпитаксиальных пленок CdTe для последующей эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 55:9 (2021), 748–753
-
Структурные свойства тонких пленок кристаллического топологического изолятора Pb$_{0.7}$Sn$_{0.3}$Te на Si(111)
Физика и техника полупроводников, 55:8 (2021), 625–628
-
Особенности МДП-структур на основе изолирующих пленок PbSnTe : In с составом вблизи инверсии зон, обусловленные их сегнетоэлектрическими свойствами
Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1122–1128
-
Оптические и транспортные свойства эпитаксиальных пленок Pb$_{0.74}$Sn$_{0.26}$Te(In) с модифицируемой поверхностью
Физика и техника полупроводников, 54:9 (2020), 896–901
-
Раскрытие энергетической щели в области точки Дирака при осаждении кобальта на поверхность (0001) топологического изолятора BiSbTeSe$_{2}$
Физика и техника полупроводников, 54:9 (2020), 859–864
-
Знакопеременная фотопроводимость в пленках PbSnTe : In в режиме тока, ограниченного пространственным зарядом
Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 796–800
-
Модификация поверхностных свойств эпитаксиальных слоев PbSnTe$\langle$In$\rangle$ с составом вблизи инверсии зон
ЖТФ, 89:11 (2019), 1795–1799
-
Особенности спектров примесной фотопроводимости эпитаксиальных пленок PbSnTe(In) при изменении температуры
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1303–1308
-
Динамика поверхностной проводимости в пленках PbSnTe : In с составом вблизи инверсии зон
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1207–1211
-
Изучение кристаллической структуры эпитаксиальных пленок Co$_{40}$Fe$_{40}$B$_{20}$ на топологическом изоляторе Bi$_{2}$Te$_{3}$
Письма в ЖТФ, 44:5 (2018), 10–15
-
AlN/GaN-гетероструктуры для нормально закрытых транзисторов
Физика и техника полупроводников, 51:3 (2017), 395–402
-
Поверхностные спин-поляризованные токи, генерируемые в топологических изоляторах циркулярно-поляризованным синхротронным излучением, и их индикация методом фотоэлектронной спектроскопии
Физика твердого тела, 58:8 (2016), 1617–1628
-
Особенности электронной, спиновой и атомной структуры топологического изолятора Bi$_{2}$Te$_{2.4}$Se$_{0.6}$
Физика твердого тела, 58:4 (2016), 754–762
-
Роль анизотропии и спин-орбитального взаимодействия в оптических и диэлектрических свойствах соединений BiTeI и BiTeCl
Письма в ЖЭТФ, 101:8 (2015), 563–568
-
Влияние фтора на электрофизические свойства границы раздела анодный оксид/InAs(111)A
Физика и техника полупроводников, 48:3 (2014), 322–326
-
Динамика решетки BiTeI при высоких давлениях
Письма в ЖЭТФ, 98:9 (2013), 626–630
-
Изучение морфологии и оптических свойств анодных оксидных слоев на InAs(111)A
Физика и техника полупроводников, 47:4 (2013), 532–537
-
Эллипсометрическая экспресс-методика определения толщины и профилей оптических постоянных в процессе роста наноструктур Fe/SiO$_2$/Si(100)
ЖТФ, 82:9 (2012), 44–48
-
Формирование анодных слоев на InAs(111)A. Исследование химического состава
Физика и техника полупроводников, 46:4 (2012), 569–575
-
Изменение электронных свойств поверхности InAs(111)A при адсорбции кислорода и фтора
Физика и техника полупроводников, 46:1 (2012), 53–59
-
Формирование границы раздела структуры Pd/Fe/GaAs/InGaAs для оптической регистрации спина свободных электронов
Письма в ЖТФ, 38:1 (2012), 27–36
-
Стабильность поверхности (0001) топологического
изолятора Bi$^2$Se$^3$
Письма в ЖЭТФ, 94:6 (2011), 500–503
-
Сурфактантные свойства цезия в молекулярно-лучевой эпитаксии GaAs(100)
Письма в ЖЭТФ, 93:10 (2011), 647–652
-
Адсорбция хлора на поверхности InAs (001)
Физика и техника полупроводников, 45:1 (2011), 23–31
-
Реконструкционная зависимость травления и пассивации поверхности GaAs(001)
Письма в ЖЭТФ, 91:9 (2010), 511–516
-
Новые Ga-обогащенные реконструкции на поверхности GaAs(001)
Письма в ЖЭТФ, 89:4 (2009), 209–214
-
Энергетический порог Cs-индуцированной хемосорбции кислорода на поверхности GaAs(Cs, O)
Письма в ЖЭТФ, 88:8 (2008), 597–600
-
Обратимые сверхструктурные переходы на поверхности GaAs(001) при селективном воздействии йода и цезия
Письма в ЖЭТФ, 87:1 (2008), 41–44
-
Энергетические распределения фотоэлектронов, эмитированных из $p$-GaN(Cs,O) с эффективным отрицательным электронным сродством
Письма в ЖЭТФ, 79:10 (2004), 592–596
-
Уменьшение энергии связи атомов мышьяка на поверхности GaAs(100)-(2$\times$4)/c(2$\times$8) под влиянием адсорбированного цезия
Письма в ЖЭТФ, 79:3 (2004), 163–167
© , 2026