Чхало Николай Иванович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Автоматизированная система для измерения формы поверхности крупногабаритных плоских и цилиндрических зеркал на интерферометре типа Физо
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1984–1994
2. Диагностика электронного пучка ЦКП “СКИФ” в жестком рентгеновском диапазоне
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1973–1983
3. Двухзеркальный монохроматор для синхротрона “СКИФ” поколения 4+
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1963–1972
4. Фокусирующая система Киркпатрика–Баеза для синхротронных применений
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1954–1962
5. Восстановление оптических констант тонких пленок в ЭУФ диапазоне по данным лабораторной рефлектометрии
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1946–1953
6. Применимость интерферометров белого света для измерения шероховатости рентгенооптических элементов
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1887–1897
7. Компактный спектрограф на основе VLS-решетки для диапазона 3–20 nm
   
   ЖТФ, 95:10 (2025),  1879–1886
8. Установка ионно-пучковой коррекции и асферизации формы поверхности оптических элементов УИП-300
   
   ЖТФ, 95:9 (2025),  1825–1835
9. Структурные и отражательные характеристики Cr/C многослойных зеркал, полученных методом реактивного распыления
   
   ЖТФ, 95:9 (2025),  1817–1824
10. Многослойные структуры NiMo/C, изготовленные методом реактивного магнетронного распыления
    
    ЖТФ, 95:9 (2025),  1808–1816
11. Радиальное распределение излучающих центров в лазерной плазме Ar
    
    ЖТФ, 95:9 (2025),  1647–1655
12. Экспериментальный стенд для изучения характеристик мощных лазерно-плазменных источников ЭУФ излучения
    
    ЖТФ, 95:9 (2025),  1639–1646
13. Расчетное и экспериментальное определение длины лазерной искры в газоструйных мишенях
    
    ЖТФ, 95:7 (2025),  1289–1296
14. Поглощение энергии лазерного излучения в лазерно-плазменном источнике излучения с газоструйными мишенями
    
    ЖТФ, 95:7 (2025),  1283–1288
15. Исследование структурных и отражательных характеристик многослойных рентгеновских зеркал на основе пары материалов Ru/B
    
    Письма в ЖТФ, 51:1 (2025),  57–60
16. Стенд для тестирования чувствительных к экстремальному ультрафиолетовому излучению фоторезистов
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1323–1330
17. Корреляционная экстремальная ультрафиолетовая, ультрафиолетовая и оптическая микроскопия на базе зеркального микроскопа с аксиальной томографией
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1302–1313
18. Безмасочный литограф прямого рисования. Конструкция, устройство и применение
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1295–1301
19. Высокоградиентная асферизация подложек тонкопленочными покрытиями Al/Si
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1288–1294
20. Многослойные структуры на основе Ni для зеркал гебелевского типа
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1280–1287
21. Исследование структурных и отражательных характеристик короткопериодных Mo/Be многослойных рентгеновских зеркал
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1269–1279
22. Многослойные рентгеновские зеркала на основе бора для спектрального диапазона 6.7–9 nm
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1260–1268
23. Многослойные зеркала на основе Cr/Ti для рентгеновской микроскопии “в окне прозрачности воды”
    
    ЖТФ, 94:8 (2024),  1250–1259
24. Капсульная газонаполненная мишень для лазерно-плазменного экстремального ультрафиолетового источника
    
    ЖТФ, 94:7 (2024),  1174–1181
25. Высокочастотные дифракционные Mo/Be-решетки с малым углом блеска–исследование эффективности
    
    ЖТФ, 94:7 (2024),  1128–1135
26. Высокочастотные многослойные дифракционные Si-решетки с малым углом блеска – изготовление
    
    ЖТФ, 94:7 (2024),  1119–1127
27. Применение метода ионно-пучкового травления свободновисящих пленок для разработки пленочных корректоров экстремального ультрафиолетового диапазона длин волн
    
    ЖТФ, 94:7 (2024),  1029–1035
28. Исследования микроскопической рентгеновской томографии
    
    ЖТФ, 94:7 (2024),  992–1001
29. Изучение угловых зависимостей скоростей ионно-пучкового распыления металлов для синтеза заготовок фотошаблонов
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  1051–1053
30. Изучение влияния энергии ионов неона на шероховатость поверхности основных срезов монокристаллического кремния при ионном травлении
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  1046–1050
31. Нанесение жидкого стекла на подложки оптических элементов и его молекулярный состав
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  1037–1045
32. Подложки для мягкой рентгеновской микроскопии на основе Si$_3$N$_4$ мембран
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  1032–1036
33. Проект рентгенооптической схемы литографа с динамической маской пропускающего типа и синхротронным источником излучения
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  980–987
34. Внеосевой асферический коллектор для экстремальной ультрафиолетовой литографии и мягкой рентгеновской микроскопии
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  963–967
35. Короткопериодные многослойные зеркала для высокоразрешающего монохроматора многослойное зеркало/кристалл
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  943–947
36. Исследование свойств многослойных зеркал на основе пары материалов Mo/B$_4$C
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  931–935
37. Эмиссионные характеристики лазерно-плазменного источника экстремального ультрафиолетового излучения с тонкопленочными мишенями
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  892–896
38. Теория аксиальной томографии на основе обратного преобразования Радона для высокоапертурной мягкой рентгеновской микроскопии
    
    ЖТФ, 93:7 (2023),  867–879
39. Исследование эмиссионных спектров Cl-, Br-, I-содержащих мишеней в спектральном диапазоне 3–6.5 нм при возбуждении импульсным лазерным излучением
    
    Квантовая электроника, 53:5 (2023),  425–429
40. Методика получения атомарно гладких подложек из монокристаллического кремния методом механического притира
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1267–1272
41. Проект двухзеркального монохроматора на диапазон энергий фотонов 8–36 keV для синхротрона “CКИФ”
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1261–1266
42. Перспективы применения реактивного ионно-пучкового травления плавленого кварца смесью тетрафторметана и аргона для асферизации поверхности оптических элементов
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1248–1252
43. Алмаз-карбид-кремниевый композит “скелетон” как перспективный материал для подложек рентгенооптических элементов
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1238–1242
44. Модель физического распыления аморфных материалов
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1230–1237
45. Изучение влияния энергии ионов аргона на шероховатость поверхности основных срезов монокристаллического кремния
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1219–1223
46. Перспективные длины волн для проекционной литографии с использованием синхротронного излучения
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1207–1212
47. Система визуализации плазменного факела бетатронного источника рентгеновского излучения
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1202–1206
48. Тонкопленочные Al-мишени для лазерно-плазменного источника экстремального ультрафиолетового излучения
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1199–1201
49. Исследование эмиссионных свойств газоструйных мишеней в “водном окне прозрачности” 2.3–4.4 nm при импульсном лазерном возбуждении
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1185–1191
50. Многослойные зеркала Ru/Sr для спектрального диапазона 9–12 nm
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1179–1184
51. Поиск прочных многослойных композиций свободновисящих фильтров с высоким коэффициентом пропускания в диапазоне длин волн “водного окна” (2.3–4.4 nm)
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1130–1136
52. Исследование и создание широкополосных рентгеновских зеркал со спектральной полосой пропускания, совпадающей с эмиссионными линиями и возможностью фильтрации
    
    ЖТФ, 92:8 (2022),  1107–1112
53. Сравнительное исследование термостойкости пелликлов на основе бериллия
    
    ЖТФ, 92:1 (2022),  92–99
54. Эмиссионные спектры жидкоструйных мишеней гексана C$_6$Н$_{14}$, дихлорметана CH$_2$Cl$_2$, бромистого метилена CH$_3$Br в диапазоне 4–20 nm при импульсном лазерном возбуждении
    
    Оптика и спектроскопия, 130:7 (2022),  991–995
55. Эмиссионные спектры молекулярных газов CHF$_3$, CCl$_2$F$_2$, SF$_6$ в диапазоне 3–20 nm при импульсном лазерном возбуждении с использованием различных газовых струй в качестве мишеней
    
    Оптика и спектроскопия, 130:2 (2022),  217–223
56. Изготовление и тестирование в мягком рентгеновском и ЭУФ диапазонах дифракционных решеток с Au- и многослойным Mo/Si-покрытиями и с блеском в высоких порядках
    
    Квантовая электроника, 52:10 (2022),  955–962
57. Применение нанопорошков окиси церия для полировки кремния
    
    ЖТФ, 91:10 (2021),  1588–1596
58. Линзовый корректор волнового фронта для изучения плоских поверхностей
    
    ЖТФ, 91:10 (2021),  1583–1587
59. Изготовление и исследование зеркал с широкой полосой пропускания для синхротронных применений
    
    ЖТФ, 91:10 (2021),  1524–1531
60. Измерения абсолютных значений интенсивности излучения в диапазоне длин волн 6.6–32 nm мишени из нержавеющей стали при импульсном лазерном возбуждении
    
    ЖТФ, 91:10 (2021),  1448–1453
61. Солнечный телескоп вакуумного ультрафиолетового диапазона для наноспутников
    
    ЖТФ, 91:10 (2021),  1441–1447
62. Эмиссионные спектры молекулярных газов N$_{2}$ и CO$_{2}$ в диапазоне 3–20 nm при импульсном лазерном возбуждении с использованием различных газовых струй в качестве мишеней
    
    Оптика и спектроскопия, 129:6 (2021),  755–759
63. Эмиссионные спектры тяжелых инертных газов Kr, Xe в диапазоне 3–20 nm при импульсном лазерном возбуждении с использованием различных газовых струй в качестве мишеней
    
    Оптика и спектроскопия, 129:3 (2021),  266–271
64. Эмиссионные спектры легких инертных газов Ne и Ar в диапазоне 3–20 nm при импульсном лазерном возбуждении с использованием различных газовых струй в качестве мишеней
    
    Оптика и спектроскопия, 129:2 (2021),  146–152
65. Измерения абсолютных интенсивностей спектральных линий ионов Kr, Ar и O в диапазоне длин волн 10–18 нм при импульсном лазерном возбуждении
    
    Квантовая электроника, 51:8 (2021),  700–707
66. Получение гладких высокоточных поверхностей методом механического притира
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1958–1964
67. Ионно-пучковые методики прецизионной обработки оптических поверхностей
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1922–1930
68. Подготовка поверхности материалов для создания композитных оптических элементов
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1913–1916
69. Многослойные зеркала Cr/Sc с улучшенным отражением для диапазона “окна прозрачности воды”
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1893–1897
70. Микроструктура переходных границ в многослойных Мо/Ве-системах
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1884–1892
71. Широкополосные зеркала для спектрогелиографов солнечной обсерватории “КОРТЕС”
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1876–1883
72. Сглаживающий эффект Si-слоев в многослойных зеркалах Be/Al для спектрального диапазона 17–31 nm
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1870–1875
73. Модификация и полировка штриха голографической дифракционной решетки пучком нейтрализованных ионов Ar
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1864–1869
74. Применение новых типов многослойных зеркал нормального падения для целей солнечной спектроскопии вакуумного ультрафиолетового диапазона
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1817–1820
75. Перспективы использования рентгеновских трубок с автоэмиссионным катодом и “прострельным” анодом в диапазоне мягкого рентгеновского излучения
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1806–1816
76. Оптимизация анодной мембраны с прострельной мишенью в системе источников мягкого рентгеновского излучения для проведения процессов рентгеновской нанолитографии
    
    ЖТФ, 90:11 (2020),  1789–1796
77. Эффективность генерации излучения в полосе 8–14 нм ионами криптона при импульсном лазерном возбуждении
    
    Квантовая электроника, 50:4 (2020),  408–413
78. Особенности применения многослойных зеркал для фокусировки и коллимации рентгеновского излучения источников на основе обратного комптоновского рассеяния
    
    Квантовая электроника, 50:4 (2020),  401–407
79. Рентгеновская оптика дифракционного качества: технология, метрология, применения
    
    УФН, 190:1 (2020),  74–91
80. Разработка технологических принципов создания системы микрофокусных рентгеновских трубок на основе кремниевых автоэмиссионных нанокатодов
    
    ЖТФ, 89:12 (2019),  1836–1842
81. Ошибки измерений интерферометров с дифракционной волной сравнения
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1789–1794
82. Влияние термического отжига на свойства многослойных зеркал Mo/Be
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1783–1788
83. Влияние барьерных слоев бериллия на свойства многослойных зеркал Mo/Si
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1779–1782
84. Многослойные зеркала Ag/Y для спектрального диапазона 9–11 nm
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1774–1778
85. Изготовление и исследование свойств вогнутого кристаллического зеркала для проекта КОРТЕС
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1770–1773
86. Оптимизация состава, синтез и изучение широкополосных многослойных зеркал для ЭУФ диапазона
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1763–1769
87. Бериллий как материал для термостойких рентгеновских зеркал
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1686–1691
88. Исследование оптических, механических и термических свойств свободновисящих пленок на основе нанокомпозитных материалов MoSi$_{2}$N$_{x}$ и ZrSi$_{2}$N$_{y}$
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1680–1685
89. Эмиссионные свойства лазерной плазмы при ее возбуждении на молекулярно-кластерных струях углекислоты
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1656–1662
90. Моделирование процесса коррекции локальных ошибок формы поверхности малоразмерным ионным пучком
    
    ЖТФ, 89:11 (2019),  1650–1655
91. Наблюдение лазерной искры на скачке уплотнения в газоструйной мишени
    
    Письма в ЖТФ, 45:19 (2019),  14–16
92. Стабильные многослойные отражающие покрытия на длину волны $\lambda$(HeI) = 58.4 nm для солнечного телескопа проекта КОРТЕС
    
    Письма в ЖТФ, 45:3 (2019),  26–29
93. Сравнение подходов в изготовлении широкополосных зеркал для ЭУФ диапазона: апериодические и стековые структуры
    
    Квантовая электроника, 49:4 (2019),  380–385
94. Абсолютно калиброванные спектрально разрешенные измерения интенсивности излучения Xe лазерной плазмы в дальнем ультрафиолетовом диапазоне
    
    ЖТФ, 88:10 (2018),  1554–1558
95. Лабораторный рефлектометр для исследования оптических элементов в диапазоне длин волн 5 – 50 нм: описание и результаты тестирования
    
    Квантовая электроника, 47:4 (2017),  385–392
96. Влияние структурных дефектов апериодических многослойных зеркал на свойства отраженных (суб)фемтосекундных импульсов
    
    Квантовая электроника, 47:4 (2017),  378–384
97. Повышение дифракционной эффективности решеток-эшелеттов за счет полировки поверхности штриха ионно-пучковым травлением
    
    Письма в ЖТФ, 42:16 (2016),  34–40
98. Влияние шероховатостей, детерминированных и случайных ошибок в толщинах пленок на отражательные характеристики апериодических зеркал для ЭУФ диапазона
    
    Квантовая электроника, 46:5 (2016),  406–413
99. Рентгенооптическая система для получения изображения лазерного факела с пространственным разрешением до 70 нм
    
    Квантовая электроника, 46:4 (2016),  347–352
100. Применение мягкого рентгеновского излучения для исследования сверхгладких оптических поверхностей и многослойных элементов
     
     ЖТФ, 83:9 (2013),  134–142
101. Кремниевый фотодиод для экстремального ультрафиолетового диапазона спектра с селективным Zr/Si-покрытием
     
     Квантовая электроника, 42:10 (2012),  943–948
102. Прецизионная изображающая многослойная оптика для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового диапазонов
     
     УФН, 182:7 (2012),  727–747
103. Многослойные рентгеновские зеркала на основе La/B$_4$C и La/B$_9$C
     
     ЖТФ, 80:8 (2010),  93–100
104. Новые фокусирующие многослойные структуры для рентгеновской и вакуумно-ультрафиолетовой спектроскопии плазмы
     
     ЖТФ, 80:7 (2010),  105–110
105. Обнаружение квазипериодических граней $\{11n\}$, $n$ = 7–11 в образцах с Ge/Si квантовыми точками с помощью рентгеновской рефлектометрии скользящего падения
     
     Письма в ЖТФ, 36:3 (2010),  31–38
106. Источник жесткого ультрафиолетового излучения на основе ЭЦР разряда
     
     Письма в ЖЭТФ, 88:2 (2008),  103–106
107. Рентгеновская и вакуумно-ультрафиолетовая спектроскопии плазмы с использованием новых фокусирующих многослойных структур
     
     Письма в ЖЭТФ, 87:1 (2008),  33–35
108. Новые фокусирующие многослойные структуры для рентгеновской спектроскопии плазмы
     
     Квантовая электроника, 38:2 (2008),  169–171
109. Тепловые нагрузки рентгеновских трубок с неподвижным анодом при длительных выдержках
     
     ТВТ, 44:5 (2006),  770–776


110. Дисперсионные элементы зеркального спектрометра на диапазон 7–30 nm
     
     ЖТФ, 93:7 (2023),  1002–1008
111. Многослойная рентгеновская оптика на основе бериллия
     
     УФН, 190:1 (2020),  92–106
112. Захарий Фишелевич Красильник (к 70-летию со дня рождения)
     
     Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018),  285–286
113. Захарий Фишелевич Красильник (к 70-летию со дня рождения)
     
     УФН, 188:1 (2018),  119–120