RUS
ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ
Титова Анастасия Михайловна
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
Гетероэпитаксиальные слои Ge/Si(001), легированные в процессе HW CVD испарением примеси из сублимирующего Ge-источника
Физика и техника полупроводников
,
57
:9 (2023),
719–724
Распределение концентрации носителей заряда в эпитаксиальных слоях Ge и GeSn, выращенных на
$n^+$
-Si(001)-подложках
Физика и техника полупроводников
,
56
:9 (2022),
839–843
©
МИАН
, 2026