|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Особенности реактивного магнетронного нанесения пленок оксида тантала при различных способах подачи газа в камеру
ПФМТ, 2022, № 3(52), 97–104
-
Генерация пучковой плазмы форвакуумным источником электронов в объеме, ограниченном диэлектрическими стенками
ЖТФ, 85:5 (2015), 142–144
-
Особенности функционирования дугового разряда в форвакуумном плазменном источнике электронов
ЖТФ, 85:2 (2015), 55–58
-
Особенности зарядовой нейтрализации карбида кремния при спекании электронным пучком в форвакуумной области давлений
Письма в ЖТФ, 41:15 (2015), 69–74
-
Компенсация заряда изолированной мишени при облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений
ЖТФ, 83:12 (2013), 134–136
-
Структура поверхности алюмооксидной керамики при облучении импульсным электронным пучком
ЖТФ, 83:1 (2013), 117–120
-
Генерация стационарных электронных пучков форвакуумным плазменным источником в области давлений 100 Pa
Письма в ЖТФ, 39:10 (2013), 9–14
-
Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений
ЖТФ, 82:10 (2012), 103–108
-
Расширение рабочего диапазона форвакуумных плазменных источников электронов в область более высоких давлений
ЖТФ, 82:8 (2012), 62–66
© , 2026