|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Гетероэпитаксиальные слои Ge/Si(001), легированные в процессе HW CVD испарением примеси из сублимирующего Ge-источника
Физика и техника полупроводников, 57:9 (2023), 719–724
-
Распределение концентрации носителей заряда в эпитаксиальных слоях Ge и GeSn, выращенных на $n^+$-Si(001)-подложках
Физика и техника полупроводников, 56:9 (2022), 839–843
-
Туннельные диоды на базе эпитаксиальных структур $n^{+}$-Ge/$p^{+}$-Si(001), выращенных методом горячей проволоки
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1267–1270
-
Телеграфный шум в туннельных Si $p$–$n$-переходах с наноостровками GeSi
Письма в ЖТФ, 42:8 (2016), 94–101
-
Фотодетекторы на базе гетероструктур Ge/Si(001), выращенных методом горячей проволоки
Физика и техника полупроводников, 49:10 (2015), 1411–1414
-
Фотодиоды на базе массивов самоформирующихся наноостровков GeSi/Si(001), выращенных методом комбинированной сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии Si и газофазной эпитаксии Ge
Физика и техника полупроводников, 49:3 (2015), 399–405
-
Электролюминесценция на длине волны 1.54 мкм от структуры Si : Er/Si, состоящей из ряда $p$–$n$-переходов
Физика и техника полупроводников, 45:11 (2011), 1486–1488
© , 2026