|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Полуполярный нитрид алюминия: эпитаксия объемного материала на наноструктурированной кремниевой подложке
Письма в ЖТФ, 52:4 (2026), 25–28
-
Оптимизация постростовых режимов снижения температуры и давления при выращивании HPHT-кристаллов алмаза
ЖТФ, 95:2 (2025), 221–231
-
Исследование влияния наноструктурированных AlN/Si(100)-темплейтов на рост полуполярных слоев AlN$(10\bar11)$
Физика и техника полупроводников, 59:1 (2025), 3–7
-
Газофазная эпитаксия слоев AlN на наноструктурированном темплейте AlN/Si(100), синтезированном методом реактивного магнетронного распыления
ЖТФ, 94:6 (2024), 944–947
-
HVPE эпитаксия полуполярных AlN(10$\bar{1}$1) слоев на темплейте AlN/Si(100)
Физика и техника полупроводников, 58:9 (2024), 474–477
-
Морфология поверхности AlN-слоев, выращенных на наноструктурированном темплейте SiN$_x$/Si(100)
Физика и техника полупроводников, 58:1 (2024), 3–6
-
Характеризация электрофизическими методами монокристаллического алмаза, легированного бором (обзор)
ЖТФ, 93:1 (2023), 5–28
-
Морфология поверхности полуполярных GaN-слоев при эпитаксии на наноструктурированной подложке Si
ЖТФ, 92:5 (2022), 720–723
-
Cвойства полуполярного GaN, выращенного на подложке Si(100)
Физика и техника полупроводников, 53:7 (2019), 1006–1009
© , 2026