|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Структура и свойства пленок оксида галлия, полученных высокочастотным магнетронным напылением
Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019), 411–417
-
Фотоэлектрические характеристики структур металл – Ga$_2$O$_3$–GaAs
Физика и техника полупроводников, 49:3 (2015), 357–363
-
Влияние термического отжига и воздействия кислородной плазмы на свойства структур TiO$_2$–Si
Физика и техника полупроводников, 48:7 (2014), 989–994
-
Свойства пленок TiO$_2$ на кремниевых подложках
Физика и техника полупроводников, 48:6 (2014), 759–762
-
Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением
Физика и техника полупроводников, 47:8 (2013), 1137–1143
-
Пленки оксида галлия, полученные методом термического напыления
Физика и техника полупроводников, 47:5 (2013), 598–603
-
Электрические характеристики структур $n$-GaAs–анодная пленка Ga$_2$O$_3$–металл
Физика и техника полупроводников, 46:8 (2012), 1027–1031
-
Анодные пленки Ga$_2$O$_3$. Влияние термического отжига на свойства пленок
Физика и техника полупроводников, 46:2 (2012), 278–284
-
Анодные пленки Ga$_2$O$_3$
Физика и техника полупроводников, 45:8 (2011), 1130–1135
-
Влияние кислородной плазмы на свойства пленок оксида тантала
Физика и техника полупроводников, 44:9 (2010), 1266–1273
© , 2026