RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Толбанов Олег Петрович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Селективные сенсоры двуокиси азота на основе тонких пленок оксида вольфрама при воздействии оптического излучения

    Письма в ЖТФ, 45:20 (2019),  7–10
  2. Проводимость гетеропереходов Ga$_{2}$O$_{3}$–GaAs

    Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018),  154–160
  3. Транспорт носителей заряда и перезарядка глубоких уровней в структурах для лавинных $S$-диодов на основе GaAs

    Письма в ЖТФ, 44:11 (2018),  21–29
  4. Связь структурно-фазовых изменений в пленках оксида титана с электрическими и фотоэлектрическими характеристиками структур TiO$_{2}$–Si

    Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016),  1178–1184
  5. Механизм проводимости пленок оксида титана и структур металл–TiO$_{2}$–Si

    Физика и техника полупроводников, 50:8 (2016),  1036–1040
  6. Глубокие центры в структурах TiO$_2$-Si

    Физика и техника полупроводников, 49:8 (2015),  1036–1042
  7. Влияние термического отжига и воздействия кислородной плазмы на свойства структур TiO$_2$–Si

    Физика и техника полупроводников, 48:7 (2014),  989–994
  8. Свойства пленок TiO$_2$ на кремниевых подложках

    Физика и техника полупроводников, 48:6 (2014),  759–762
  9. Влияние температуры на механизм инжекции носителей в светодиодах на основе множественных квантовых ям InGaN/GaN

    Физика и техника полупроводников, 47:10 (2013),  1391–1395
  10. Влияние отжига в аргоне на свойства пленок оксида галлия, полученных термическим напылением

    Физика и техника полупроводников, 47:8 (2013),  1137–1143
  11. Пленки оксида галлия, полученные методом термического напыления

    Физика и техника полупроводников, 47:5 (2013),  598–603
  12. Электрические характеристики структур $n$-GaAs–анодная пленка Ga$_2$O$_3$–металл

    Физика и техника полупроводников, 46:8 (2012),  1027–1031
  13. Анодные пленки Ga$_2$O$_3$. Влияние термического отжига на свойства пленок

    Физика и техника полупроводников, 46:2 (2012),  278–284
  14. Анодные пленки Ga$_2$O$_3$

    Физика и техника полупроводников, 45:8 (2011),  1130–1135
  15. Влияние кислородной плазмы на свойства пленок оксида тантала

    Физика и техника полупроводников, 44:9 (2010),  1266–1273
  16. Исследование процесса распада пересыщенного твердого раствора GaAs : Fe методом сканирующей зондовой микроскопии

    Физика и техника полупроводников, 44:8 (2010),  1009–1011
  17. Механизм высокоскоростного переключения в арсенид-галлиевых структурах с глубокими центрами

    Физика и техника полупроводников, 26:2 (1992),  386–390


© МИАН, 2026