|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Флуктуационный анализ микрорельефа поверхности структур кремний-на-изоляторе после радиационного воздействия
Физика и техника полупроводников, 58:12 (2024), 668–675
-
Особенности трансформации микрорельефа структур “кремний на изоляторе” при воздействии фотонных и корпускулярных излучений
ЖТФ, 93:7 (2023), 1025–1031
-
Влияние дозы имплантации водорода на релаксацию электрофизических характеристик структур “кремний-на-изоляторе” после воздействия рентгеновского излучения
Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022), 753–758
-
Возможности метода ВИМС для анализа профиля имплантированного водорода в кремнии и примесного состава структур “кремний на изоляторе”
ЖТФ, 90:11 (2020), 1850–1853
-
Формирование фторсодержащих дефектов и нанокристаллов в SiO$_2$ при имплантации ионов фтора, кремния и германия: компьютерное моделирование и фотолюминесцентная спектроскопия
Физика твердого тела, 57:11 (2015), 2106–2111
-
Аномальное распределение германия, имплантированного в диэлектрический слой структуры КНИ, после отжига радиационных дефектов
Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014), 631–635
© , 2026