RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Абросимова Наталья Дмитриевна

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Флуктуационный анализ микрорельефа поверхности структур кремний-на-изоляторе после радиационного воздействия

    Физика и техника полупроводников, 58:12 (2024),  668–675
  2. Особенности трансформации микрорельефа структур “кремний на изоляторе” при воздействии фотонных и корпускулярных излучений

    ЖТФ, 93:7 (2023),  1025–1031
  3. Влияние дозы имплантации водорода на релаксацию электрофизических характеристик структур “кремний-на-изоляторе” после воздействия рентгеновского излучения

    Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022),  753–758
  4. Возможности метода ВИМС для анализа профиля имплантированного водорода в кремнии и примесного состава структур “кремний на изоляторе”

    ЖТФ, 90:11 (2020),  1850–1853
  5. Формирование фторсодержащих дефектов и нанокристаллов в SiO$_2$ при имплантации ионов фтора, кремния и германия: компьютерное моделирование и фотолюминесцентная спектроскопия

    Физика твердого тела, 57:11 (2015),  2106–2111
  6. Аномальное распределение германия, имплантированного в диэлектрический слой структуры КНИ, после отжига радиационных дефектов

    Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014),  631–635


© МИАН, 2026