Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Изучение критического угла каналирования ионов активных металлов через тонкие пленки алюминия
Письма в ЖТФ, 47:23 (2021), 12–14
-
Влияние имплантации ионов активных металлов на элементный и химический составы поверхности CdTe
ЖТФ, 85:12 (2015), 146–149
-
Изучение профилей распределения атомов по глубине свободных нанопленочных систем типа Si–Me
ЖТФ, 85:4 (2015), 123–125
-
Оптимальные режимы ионной имплантации и отжига для стимулирования вторичной отрицательной ионной эмиссии
ЖТФ, 81:4 (2011), 117–120
-
Стимулирование вторичной отрицательной ионной эмиссии имплантацией ионов щелочных металлов в поверхностный слой твердого тела и последующего его нагрева
ЖТФ, 80:1 (2010), 110–116
© , 2026