|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Исследование влияния формы маски на пространственное распределение скорости роста слоев GaAs, полученных методом МОС-гидридной селективной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 59:8 (2025), 452–457
-
Оптическая диагностика гетероструктур на основе InGaAsP/InP(001)
Письма в ЖТФ, 50:15 (2024), 47–50
-
Разработка технологии изготовления фотоприемников мощного лазерного излучения на длину волны 1.06 мкм
Физика и техника полупроводников, 57:7 (2023), 590–593
-
Замена туннельных переходов в InP на каналы проводимости с кристаллитами GaP
Письма в ЖТФ, 47:22 (2021), 52–54
-
Электрические контакты к структурам на основе InP с подконтактным слоем к $p$-InP, легированным Zn
Письма в ЖТФ, 46:23 (2020), 13–14
-
Исследование влияния легирования на переходные слои анизотипных гетероструктур на основе GaInAsP и InP, полученных методом МОС-гидридной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 46:19 (2020), 22–24
-
Исследование однородности состава по толщине слоев GaInAsP, полученных на подложках InP методом газофазной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1512–1518
-
Люминесцентные свойства выращенных на InP слоев GaInAsP с градиентом состава по толщине
Письма в ЖТФ, 45:20 (2019), 22–25
-
Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения ($\lambda$ = 1064 нм) на основе GaInAsP/InP
Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1641–1646
-
Изготовление и исследование коммутирующих $p$–$n$-переходов для каскадных фотопреобразователей
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 25–31
-
Исследование градиента состава слоев GaInAsP, полученных на InP методом газофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 17–24
-
Релаксация напряжений в InGaAsP/InP-гетероструктурах для преобразователей лазерного излучения с длиной волны 1064 nm
Письма в ЖТФ, 43:2 (2017), 3–9
-
Фотоэлектрические преобразователи концентрированного солнечного излучения на основе InGaAsP(1.0 эВ)/InP-гетероструктур
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 715–718
© , 2026