|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Дифференциальная туннельная проводимость в лентах $n$-Bi$_2$Te$_{3-y}$Se$_y$, полученных спиннингованием расплава
Физика твердого тела, 67:12 (2025), 2257–2263
-
Особенности эпитаксиального роста III – N светодиодных гетероструктур на подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 47:15 (2021), 15–18
-
Влияние давления при эпитаксии на свойства слоев GaN
Письма в ЖТФ, 46:24 (2020), 3–6
-
GaN selective epitaxy in sub-micron windows with different depths formed by ion beam nanolithography
Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2333
-
Селективный эпитаксиальный рост III–N-структур с использованием ионной нанолитографии
Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1237–1243
-
Нитевидные светодиодные микрокристаллы InGaN/GaN субмиллиметровой длины
Физика и техника полупроводников, 51:1 (2017), 101–104
-
Влияние параметров гетероструктур AlN/GaN/AlGaN и AlN/GaN/InAlN с двумерным электронным газом на их электрофизические свойства и характеристики транзисторов на их основе
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1401–1407
-
Эпитаксиальный рост гетероструктур GaN/AlN/InAlN для HEMT в горизонтальных МОС-гидридных реакторах различных конструкций
Физика и техника полупроводников, 50:9 (2016), 1263–1269
-
Исследование влияния дизайна активной области монолитных многоцветных светодиодных гетероструктур на спектры и эффективность их излучения
Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1563–1568
-
О зависимости эффективности A$^{\mathrm{III}}$N светодиодов синего диапазона от структурного совершенства буферных эпитаксиальных слоев GaN
Физика и техника полупроводников, 48:1 (2014), 55–60
-
Гетероструктуры InGaN/GaN, выращенные методом субмонослойного осаждения
Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012), 1357–1362
-
Композитные InGaN/GaN/InAlN-гетероструктуры, излучающие в желто-красной области спектра
Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012), 1304–1308
-
Влияние водорода на локальную фазовую сепарацию в тонких слоях InGaN и свойства светодиодных структур на их основе
Физика и техника полупроводников, 45:2 (2011), 274–279
-
Формирование композитных квантовых точек InGaN/ GaN/InAlN
Физика и техника полупроводников, 44:10 (2010), 1382–1386
-
Структурные и оптические свойства InAlN/GaN распределенных брегговских отражателей
Физика и техника полупроводников, 44:7 (2010), 981–985
-
Исследования оптических и структурных свойств короткопериодных сверхрешеток InGaN/GaN для активной области светоизлучающих диодов
Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010), 857–863
-
Монолитный белый светодиод с активной областью на основе квантовых ям InGaN, разделенных короткопериодными InGaN/GaN-сверхрешетками
Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010), 837–840
-
Влияние давления в реакторе на свойства активной области InGaN/GaN светодиодов
Физика и техника полупроводников, 44:1 (2010), 126–129
-
Варизонная активная область на основе короткопериодных InGaN/GaN-сверхрешеток для мощных светоизлучающих диодов диапазона 440–470 нм
Физика и техника полупроводников, 44:1 (2010), 96–100
-
Высокоэффективные InGaN/GaN/AlGaN светодиоды с короткопериодной InGaN/GaN сверхрешеткой для диапазона 530–560 nm
Письма в ЖТФ, 36:22 (2010), 89–95
© , 2026