|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Механизм транспорта заряда в МДП-структурах ITO/[GeO$_x$]$_{(z)}$[SiO$_2$]$_{(1-z)}$ (0.25 $\le z\le1$)/$n^+$-Si
Физика и техника полупроводников, 59:6 (2025), 363–369
-
Состав и оптические свойства аморфного плазмохимического оксинитрида кремния переменного состава a-SiO$_x$N$_y$ : H
ЖТФ, 93:4 (2023), 575–582
-
Вертикальное упорядочение аморфных нанокластеров Ge в многослойных гетероструктурах $a$-Ge/$a$-Si:H
Письма в ЖТФ, 47:12 (2021), 13–16
-
О влиянии гетерограниц и толщины на кинетику кристаллизации пленок аморфного германия
Физика и техника полупроводников, 54:7 (2020), 643–647
-
Наноразмерные флуктуации потенциала в SiO$_{x}$, синтезированном плазмохимическим осаждением
Физика твердого тела, 61:12 (2019), 2528–2535
-
Оптические свойства нестехиометрического оксида кремния SiO$_{x}$ ($x<$ 2)
Оптика и спектроскопия, 127:5 (2019), 769–773
-
Оптические свойства $p$–$i$–$n$-структур на основе аморфного гидрогенизированного кремния с нанокристаллами кремния, сформированными с применением наносекундных лазерных отжигов
Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 952–957
-
Электрофизические свойства наноструктур Si/SiO$_{2}$, полученных методом прямого сращивания
Письма в ЖТФ, 42:11 (2016), 73–81
-
Действие быстрых тяжелых ионов на многослойные гетероструктуры Si/SiO$_2$
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 334–339
-
Модель для описания особенности на аккумуляционной ветви вольт-фарадных характеристик МОП-конденсаторов с наночастицами кремния в окисле
Письма в ЖТФ, 38:18 (2012), 45–52
© , 2026