RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Камаев Геннадий Николаевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Механизм транспорта заряда в МДП-структурах ITO/[GeO$_x$]$_{(z)}$[SiO$_2$]$_{(1-z)}$ (0.25 $\le z\le1$)/$n^+$-Si

    Физика и техника полупроводников, 59:6 (2025),  363–369
  2. Состав и оптические свойства аморфного плазмохимического оксинитрида кремния переменного состава a-SiO$_x$N$_y$ : H

    ЖТФ, 93:4 (2023),  575–582
  3. Вертикальное упорядочение аморфных нанокластеров Ge в многослойных гетероструктурах $a$-Ge/$a$-Si:H

    Письма в ЖТФ, 47:12 (2021),  13–16
  4. О влиянии гетерограниц и толщины на кинетику кристаллизации пленок аморфного германия

    Физика и техника полупроводников, 54:7 (2020),  643–647
  5. Наноразмерные флуктуации потенциала в SiO$_{x}$, синтезированном плазмохимическим осаждением

    Физика твердого тела, 61:12 (2019),  2528–2535
  6. Оптические свойства нестехиометрического оксида кремния SiO$_{x}$ ($x<$ 2)

    Оптика и спектроскопия, 127:5 (2019),  769–773
  7. Оптические свойства $p$$i$$n$-структур на основе аморфного гидрогенизированного кремния с нанокристаллами кремния, сформированными с применением наносекундных лазерных отжигов

    Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016),  952–957
  8. Электрофизические свойства наноструктур Si/SiO$_{2}$, полученных методом прямого сращивания

    Письма в ЖТФ, 42:11 (2016),  73–81
  9. Действие быстрых тяжелых ионов на многослойные гетероструктуры Si/SiO$_2$

    Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013),  334–339
  10. Модель для описания особенности на аккумуляционной ветви вольт-фарадных характеристик МОП-конденсаторов с наночастицами кремния в окисле

    Письма в ЖТФ, 38:18 (2012),  45–52


© МИАН, 2026