RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Мохов Дмитрий Владимирович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Изготовление дифракционных решеток c блеском с переменной плотностью штрихов

    ЖТФ, 95:10 (2025),  1861–1869
  2. Высокочастотные дифракционные Mo/Be-решетки с малым углом блеска–исследование эффективности

    ЖТФ, 94:7 (2024),  1128–1135
  3. Высокочастотные многослойные дифракционные Si-решетки с малым углом блеска – изготовление

    ЖТФ, 94:7 (2024),  1119–1127
  4. Кремниевые решетки с блеском для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения: влияние формы профиля штриха и случайной шероховатости на дифракционную эффективность

    ЖТФ, 93:7 (2023),  859–866
  5. Оптимизация технологии изготовления дифракционных Si-решеток треугольного профиля для мягкого рентгеновского и экстремального ультрафиолетового излучения

    ЖТФ, 92:8 (2022),  1192–1198
  6. Изготовление и тестирование в мягком рентгеновском и ЭУФ диапазонах дифракционных решеток с Au- и многослойным Mo/Si-покрытиями и с блеском в высоких порядках

    Квантовая электроника, 52:10 (2022),  955–962
  7. Дифракционные решетки с блеском, получаемые на пластинах Si – первые результаты

    ЖТФ, 91:10 (2021),  1538–1547
  8. Метод управления полярностью слоев GaN при эпитаксиальном синтезе GaN/AlN гетероструктур на гибридных подложках SiC/Si

    Физика твердого тела, 61:12 (2019),  2289–2293
  9. Металл-усиленное фотохимическое травление N- и Ga-полярных эпитаксиальных слоев GaN

    Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019),  1726–1732
  10. Особенности МПЭ ПА синтеза слоев $n^{+}$-GaN на виртуальных подложках GaN/$c$-Al$_{2}$O$_{3}$

    Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019),  1212–1217
  11. Влияние параметров нитридизации и начальных ростовых условий на полярность эпитаксиальных слоев GaN, выращенных молекулярно-пучковой эпитаксией с плазменной активацией азота на подложках Si(111)

    Письма в ЖТФ, 43:21 (2017),  47–54
  12. Прецизионная калибровка уровня легирования кремнием эпитаксиальных слоев арсенида галлия

    Письма в ЖТФ, 43:19 (2017),  87–94


© МИАН, 2026