Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Фоточувствительность полевого транзистора металл-диэлектрик-полупроводник на основе пленки PbSnTe:In с составом вблизи инверсии зон
Письма в ЖТФ, 49:3 (2023), 22–25
-
МДП транзистор на основе пленки PbSnTe : In с подзатворным диэлектриком Al$_2$O$_3$
Физика и техника полупроводников, 56:2 (2022), 243–249
-
Зависимость топологии эпитаксиальных слоев PbSnTe:In от концентрации In
ЖТФ, 91:6 (2021), 1040–1044
-
Знакопеременная фотопроводимость в пленках PbSnTe : In в режиме тока, ограниченного пространственным зарядом
Физика и техника полупроводников, 54:8 (2020), 796–800
-
Модификация поверхностных свойств эпитаксиальных слоев PbSnTe$\langle$In$\rangle$ с составом вблизи инверсии зон
ЖТФ, 89:11 (2019), 1795–1799
-
Связь длинноволновой границы чувствительности пленок PbSnTe:In, полученных методом молекулярно-лучевой эпитаксии, с их составом и структурой
Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1574–1578
© , 2026