|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Предельная толщина стенок пор, формирующихся в процессах анодного травления сильнолегированных полупроводников
ЖТФ, 93:2 (2023), 281–285
-
Erratum to: Effect of Conductivity Type and Doping Level of Silicon Crystals on the Size of Formed Pore Channels during Anodic Etching in Hydrofluoric Acid Solutions
ЖТФ, 91:2 (2021), 367
-
Влияние типа проводимости и уровня легирования кристаллов кремния на размеры каналов пор, формирующихся в них при анодном травлении в растворах плавиковой кислоты
ЖТФ, 89:10 (2019), 1575–1584
-
Слабоупорядоченный наноструктурированный бисиликат серебра и его коллоидные растворы: получение и свойства
ЖТФ, 89:6 (2019), 938–947
-
Чувствительность к импульсным электрофизическим воздействиям энергонасыщенных соединений на основе высокодисперсного кремния и нанопористого кремния
Физика и техника полупроводников, 51:4 (2017), 501–506
-
Анодные процессы в условиях химического и электрохимического травления кристаллов кремния в кислых фторидных растворах. Механизм порообразования
Физика и техника полупроводников, 51:4 (2017), 481–496
-
Пористый кремний и его применение в биологии и медицине
ЖТФ, 84:1 (2014), 67–78
-
Поверхность пористого кремния в процессах гидрофилизации и гидролитической деградации
Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1243–1248
© , 2026