|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Контактные системы “мостикового” типа в InGaAs/InP фотоэлектрических преобразователях
ЖТФ, 96:2 (2026), 345–350
-
Самокаталитический рост GaInP-наноструктур на подложках кремния из паровой фазы: выбор состава источника и каталитических капель
Физика и техника полупроводников, 59:5 (2025), 265–269
-
Самокаталитический рост GaInP-наноструктур на кремнии из паровой фазы
Письма в ЖТФ, 51:9 (2025), 45–49
-
Фазовое расслоение в твердых растворах AlGaAsSb/GaSb
Письма в ЖТФ, 51:3 (2025), 10–12
-
Анализ процесса диффузии Zn из газовой фазы в материалах InGaAs/InP
Письма в ЖТФ, 50:22 (2024), 48–52
-
Исследование технологии изготовления мощных ИК (850 nm) светодиодов, получаемых методом переноса AlGaAs–GaAs-гетероструктуры на подложку-носитель
ЖТФ, 93:1 (2023), 170–174
-
Влияние режимов формирования контактной системы Pd/Ge/Au к $n$-GaAs на ее электрические характеристики
Письма в ЖТФ, 49:3 (2023), 15–18
-
Особенности роста слоев в напряженных сверхрешетках InAs/GaSb
Письма в ЖТФ, 48:3 (2022), 10–13
-
Легированный кремнием GaSb, выращенный методом ГФЭМОС в широком диапазоне соотношений V/III
Физика и техника полупроводников, 55:10 (2021), 932–936
-
Выглаживание поверхности антимонида галлия
Письма в ЖТФ, 46:23 (2020), 48–50
-
Исследование влияния легирования на переходные слои анизотипных гетероструктур на основе GaInAsP и InP, полученных методом МОС-гидридной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 46:19 (2020), 22–24
-
Исследование возможностей метода газофазной эпитаксии из металлорганических соединений для изготовления тонких слоев InAs/GaSb
ЖТФ, 89:10 (2019), 1592–1597
-
Высокоомный антимонид галлия, полученный методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений
Физика и техника полупроводников, 53:12 (2019), 1599–1603
-
Исследование однородности состава по толщине слоев GaInAsP, полученных на подложках InP методом газофазной эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1512–1518
-
Исследование возможности изготовления напряженных сверхрешеток InAs/GaSb методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 273–276
-
Электролюминесценция в гетероструктурах $n$-GaSb/InAs/$p$-GaSb с одиночной квантовой ямой, выращенных методом МОГФЭ
Физика и техника полупроводников, 53:1 (2019), 50–54
-
Люминесцентные свойства выращенных на InP слоев GaInAsP с градиентом состава по толщине
Письма в ЖТФ, 45:20 (2019), 22–25
-
Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения ($\lambda$ = 1064 нм) на основе GaInAsP/InP
Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1641–1646
-
Эффект увеличения фотопроводимости в гетероструктуре II типа $n$-GaSb/InAs/$p$-GaSb с одиночной квантовой ямой
Физика и техника полупроводников, 52:8 (2018), 906–911
-
Изготовление и исследование коммутирующих $p$–$n$-переходов для каскадных фотопреобразователей
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 25–31
-
Исследование градиента состава слоев GaInAsP, полученных на InP методом газофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 17–24
-
Исследование переходных областей гетероструктур InAsPSb/InAs, полученных методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений
Письма в ЖТФ, 43:19 (2017), 78–86
-
Релаксация напряжений в InGaAsP/InP-гетероструктурах для преобразователей лазерного излучения с длиной волны 1064 nm
Письма в ЖТФ, 43:2 (2017), 3–9
-
Фотоэлектрические преобразователи лазерного излучения ($\lambda$ = 1550 нм) на основе GaSb: метод получения и характеристики
Физика и техника полупроводников, 50:10 (2016), 1358–1362
-
Сверхрешетки InAs/GaSb, изготовленные методом МОС-гидридной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 42:2 (2016), 79–84
-
Фотоэлектрические преобразователи концентрированного солнечного излучения на основе InGaAsP(1.0 эВ)/InP-гетероструктур
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 715–718
-
Исследование постростового процесса изготовления квантовых каскадных лазеров
Физика и техника полупроводников, 48:8 (2014), 1132–1137
-
Получение и исследование $p$–$n$-структур с кристаллическими включениями в области пространственного заряда
Физика и техника полупроводников, 47:12 (2013), 1677–1680
-
Твердые растворы AlInAsSb и AlGaInAsSb для барьерных слоев источников излучения спектрального диапазона 3–5 $\mu$m, полученные методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений
Письма в ЖТФ, 38:19 (2012), 66–74
-
Исследование свойств слоев узкозонных (0.3–0.48 eV) твердых растворов A$^3$B$^5$, полученных методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений
Письма в ЖТФ, 38:9 (2012), 23–30
-
Enhancement of photoconductivity by carrier screening effect in $n$-GaSb/$n$-InAs/$p$-GaSb heterostructure with single deep quantum well
Физика и техника полупроводников, 52:4 (2018), 476
© , 2026