|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Рост атомарно-гладких слоев AlN на подложках Si(111) с предварительным формированием аморфного слоя Si$_x$N$_y$ методом молекулярно-пучковой эпитаксии с плазменной активацией азота
Письма в ЖТФ, 51:14 (2025), 39–43
-
Влияние постростовой обработки плазмой азота на структурные и оптические свойства InGaN
Письма в ЖТФ, 49:5 (2023), 32–35
-
Формирование InGaAs-квантовых точек в теле AlGaAs-нитевидных нанокристаллов при молекулярно-пучковой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 56:7 (2022), 689–692
-
Особенности структурных напряжений в нитевидных нанокристаллах InGaN/GaN
Физика и техника полупроводников, 55:9 (2021), 785–788
-
Молекулярно-пучковая эпитаксия нитевидных нанокристаллов InGaN на подложках SiC/Si(111) и Si(111): сравнительный анализ
Письма в ЖТФ, 47:21 (2021), 32–35
-
Синтез InGaN-наноструктур развитой морфологии на кремнии: влияние температуры подложки на морфологические и оптические свойства
Физика и техника полупроводников, 54:9 (2020), 884–887
-
Селективный рост методом молекулярно-пучковой эпитаксии массивов нитевидных нанокристаллов GaN на процессированных SiO$_{x}$/Si-подложках
Письма в ЖТФ, 46:21 (2020), 32–35
© , 2026