|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Применение композитных подложек 6H-SiC/3C-SiC(001) для выращивания кубического политипа карбида кремния методом сублимации
Физика и техника полупроводников, 59:5 (2025), 294–297
-
Особенности кристаллизации промежуточного слоя кремния в процессе переноса тонкого слоя 3C-SiC(001) на 6H-SiC(0001)-подложку
Письма в ЖТФ, 51:4 (2025), 11–14
-
Взаимодействие карбида кремния с расплавом кремния, образующимся в условиях прямого сращивания эпитаксиальных структур 3C-SiC/Si с пластинами 6H-SiC
Физика и техника полупроводников, 58:9 (2024), 501–504
-
Сравнительные исследования свойств толстых слоев GaN с различным типом кристаллической структуры, выращенных на керамической подложке
Физика твердого тела, 65:12 (2023), 2125–2127
-
Моделирование распределения температуры в зоне сублимационного роста графена на SiC подложке
ЖТФ, 92:12 (2022), 1776–1780
-
Создание темплейтов для гомоэпитаксиального роста 3C-SiC методом прямого сращивания пластин карбида кремния различающихся политипов
Физика и техника полупроводников, 56:11 (2022), 1094–1098
-
Оптические свойства квазиобъемных кристаллов нитрида галлия со структурой высокоориентированной текстуры
Физика и техника полупроводников, 55:7 (2021), 554–558
-
Транспортные свойства пленок графена, выращенных методом термодеструкции поверхности SiC (0001) в среде аргона
Письма в ЖТФ, 43:18 (2017), 64–72
-
Формирование структур графит/SiC методом термического разложения карбида кремния
Физика и техника полупроводников, 50:1 (2016), 138–142
-
Радиационная стойкость диодов Шоттки на основе $n$-GaN
Физика и техника полупроводников, 49:10 (2015), 1386–1388
-
Пластины кристаллического GaN большой площади
Письма в ЖТФ, 41:5 (2015), 84–90
-
Особенности хлорид-гидридной эпитаксии нитридных материалов на подложке кремния
Физика и техника полупроводников, 48:11 (2014), 1573–1577
-
Эффект самоструктурирования пластин монокристаллического кремния в условиях индукционного нагрева в вакууме
Физика и техника полупроводников, 48:3 (2014), 364–368
-
Анализ дефектов упаковки в нитриде галлия с использованием преобразования Фурье высокоразрешающих изображений
Письма в ЖТФ, 40:24 (2014), 60–68
-
Анализ спектров фотопроводимости при большой инерционности фотоответа
ЖТФ, 82:9 (2012), 119–122
-
Коллективные эффекты в системе структурных дефектов нитрида галлия в условиях гомоэпитаксии на пористой подложке
Письма в ЖТФ, 38:9 (2012), 31–36
-
Диффузия в пористом карбиде кремния
Физика твердого тела, 53:5 (2011), 885–891
-
Фотоэлектрические свойства пористых гетероструктур GaN/SiC
Физика и техника полупроводников, 45:10 (2011), 1369–1372
-
Получение затравочных кристаллов улучшенного качества для роста объемного карбида кремния
Физика и техника полупроводников, 45:6 (2011), 847–851
-
Низкотемпературные транспортные свойства пленок мультиграфена, сформированных сублимацией на поверхности SiC
Физика и техника полупроводников, 45:5 (2011), 634–638
-
Электрические характеристики пленок мультиграфена на подложках высокоомного карбида кремния
Физика и техника полупроводников, 44:10 (2010), 1436–1438
-
Новый подход к экспресс-характеризации монокристаллического карбида кремния
Письма в ЖТФ, 36:2 (2010), 70–76
© , 2026