|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Оптоэлектронные свойства сильно легированных слоев Ge:Sb, полученных ионно-пучковыми методами
Оптика и спектроскопия, 132:11 (2024), 1189–1195
-
Фотолюминесценция растянутых Ge микромостиков при различных температурах: эксперимент и моделирование
Физика и техника полупроводников, 56:10 (2022), 954–960
-
Формирование и исследование оптических свойств локально растянутых Ge микроструктур, встроенных в резонаторы
Физика и техника полупроводников, 55:5 (2021), 420–426
-
Кинетика люминесцентного отклика самоформирующихся наноостровков Ge(Si), встроенных в двумерные фотонные кристаллы
Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1150–1157
-
Влияние условий роста и уровня легирования на кинетику люминесценции слоев Ge : Sb, выращенных на кремнии
Физика и техника полупроводников, 54:7 (2020), 685–690
-
Локально деформированные структуры Ge/SOI с улучшенным теплоотводом как активная среда для кремниевой оптоэлектроники
Физика и техника полупроводников, 53:10 (2019), 1360–1365
-
Сравнительный анализ люминесценции слоев Ge : Sb, выращенных на подложках Ge(001) и Si(001)
Физика и техника полупроводников, 53:10 (2019), 1354–1359
-
Усиленная фотолюминесценция сильно легированных слоев Ge/Si(001) $n$-типа проводимости
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1293–1296
-
Влияние отжига на свойства слоев Ge : Sb/Si(001) с концентрацией сурьмы выше уровня ее равновесной растворимости в германии
Физика и техника полупроводников, 53:7 (2019), 897–902
-
Формирование и исследование локально-растянутых Ge-микроструктур для кремниевой фотоники
Физика и техника полупроводников, 52:11 (2018), 1331–1336
-
Селективное травление Si, SiGe и Ge и использование его для повышения эффективности кремниевых солнечных элементов
Физика и техника полупроводников, 51:12 (2017), 1599–1604
-
Электролюминесценция структур с самоформирующимися наноостровками Ge(Si), заключенными между напряженными слоями кремния
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1685–1689
-
Напряженные многослойные структуры с псевдоморфными слоями GeSiSn
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1610–1614
-
Спектры возбуждения и кинетика фотолюминесценции в структурах с самоформирующимися Ge(Si) наноостровками
Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1458–1462
-
Рост светоизлучающих SiGe-гетероструктур на подложках “напряженный кремний-на-изоляторе” с тонким слоем окисла
Физика и техника полупроводников, 49:8 (2015), 1129–1135
-
Кинетика фотолюминесценции самоформирующихся Ge(Si) островков в многослойных структурах SiGe/Si и SiGe/SOI
Физика и техника полупроводников, 47:11 (2013), 1509–1512
-
Оптический мониторинг технологических параметров в условиях молекулярно-пучковой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 46:12 (2012), 1505–1509
-
Метод спектроскопии возбуждения фотолюминесценции, модифицированный для исследования структур с самоформирующимися Ge(Si)/Si(001) наноостровками
Письма в ЖТФ, 38:18 (2012), 7–15
-
Ширина линии фотолюминесценции от самоформирующихся островков Ge(Si), заключенных между напряженными Si-слоями
Физика и техника полупроводников, 45:2 (2011), 202–206
© , 2026