|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Исследование влияния облучения потоком электронов на фотоэлектрические свойства солнечных элементов на основе наноструктурированного “черного” кремния с пасcивирующим слоем $n$-GaP
Физика и техника полупроводников, 59:4 (2025), 223–226
-
Исследования структурных и электронных свойств слоев InP, сформированных методом плазмохимического атомно-слоевого осаждения на Si-подложке с подслоем GaP
Письма в ЖТФ, 51:9 (2025), 18–22
-
Использование наноструктурированного черного кремния в поверхностно-усиленной спектроскопии комбинационного рассеяния света
Физика твердого тела, 66:12 (2024), 2152–2154
-
Гибридные солнечные элементы на основе гетероперехода PEDOT:PSS/Si, полученные методом центрифугирования на массиве кремниевых волокон
Физика и техника полупроводников, 58:10 (2024), 569–572
-
Исследование температурной зависимости темновых токов pin-фотодиодов на основе эпитаксиальных гетероструктур In$_{0.83}$Ga$_{0.17}$As/InP с метаморфными буферными слоями
Физика и техника полупроводников, 58:7 (2024), 358–364
-
Свойства гетероструктур AlP/Si, сформированных методом комбинированного плазмохимического и атомно-слоевого осаждения
Письма в ЖТФ, 50:16 (2024), 3–6
-
Исследование влияния облучения потоком электронов на фотоэлектрические и электрофизические свойства кремниевых гетероструктурных солнечных элементов
Письма в ЖТФ, 50:2 (2024), 23–27
-
Разработка технологии плазмохимического осаждения фосфида бора при низкой температуре
Физика твердого тела, 65:12 (2023), 2198–2200
-
Плазмохимическое атомно-слоевое осаждение слоев InP и многослойных наноструктур InP/GaP на кремнии
Физика и техника полупроводников, 57:6 (2023), 406–413
-
Моделирование гетероструктуры PEDOT:PSS/Si для гибких гибридных солнечных элементов
Письма в ЖТФ, 49:23 (2023), 52–55
-
Исследование квантовых ям InP/GaP, полученных методом газофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 49:6 (2023), 16–20
-
Исследование активных областей на основе многопериодных сверхрешеток GaAsN/InAs
Физика и техника полупроводников, 56:10 (2022), 1002–1010
-
Исследование влияния особенностей конструкции установки магнетронного распыления на электрические и оптические свойства пленок оксида индия-олова
Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 360–364
-
Влияние условий формирования пленок In$_{2}$O$_{3}$–SnO$_{2}$ методом магнетронного распыления на время жизни носителей заряда в кремнии
Письма в ЖТФ, 47:24 (2021), 31–33
-
Исследование диодов Шоттки на основе массива кремниевых волокон, полученных сухим криогенным травлением
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 47–50
-
Исследование свойств солнечных элементов на основе селективного контакта MoO$_{x}$/Si с помощью спектроскопии полной проводимости
Письма в ЖТФ, 47:16 (2021), 24–27
-
Формирование гетероструктур GaP/Si-фотопреобразователей с помощью комбинации методов МОС-гидридной эпитаксии и атомно-слоевого плазмохимического осаждения
Письма в ЖТФ, 47:14 (2021), 51–54
-
Формирование селективного контакта BP/Si с помощью низкотемпературного плазмохимического осаждения
Письма в ЖТФ, 47:2 (2021), 49–51
-
Применение селективного контакта MoO$_{x}$/$p$-Si для оценки деградации приповерхностной области кремния
Письма в ЖТФ, 46:24 (2020), 37–40
-
Прецизионное химическое травление эпитаксиальных слоев GaP(NAs) для формирования монолитных оптоэлектронных приборов
Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1668–1674
-
Исследование солнечных элементов на основе слоев GaPNAs методом спектроскопии полной проводимости
Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 534–538
-
Фотоэлектрические свойства солнечных элементов на основе гетероструктур GaPNAs/GaP
Письма в ЖТФ, 39:24 (2013), 88–94
© , 2026