|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Исследование влияния параметров центрифугирования и состава суспензии PEDOT:PSS на характеристики солнечных элементов $b$-Si/PEDOT:PSS
Физика и техника полупроводников, 59:5 (2025), 286–290
-
Исследование влияния облучения потоком электронов на фотоэлектрические свойства солнечных элементов на основе наноструктурированного “черного” кремния с пасcивирующим слоем $n$-GaP
Физика и техника полупроводников, 59:4 (2025), 223–226
-
Исследования структурных и электронных свойств слоев InP, сформированных методом плазмохимического атомно-слоевого осаждения на Si-подложке с подслоем GaP
Письма в ЖТФ, 51:9 (2025), 18–22
-
Мультифотонная микроскопия как способ контроля степени очистки структур нитевидных нанокристаллов кремния
Письма в ЖТФ, 51:6 (2025), 12–14
-
Использование наноструктурированного черного кремния в поверхностно-усиленной спектроскопии комбинационного рассеяния света
Физика твердого тела, 66:12 (2024), 2152–2154
-
Гибридные солнечные элементы на основе гетероперехода PEDOT:PSS/Si, полученные методом центрифугирования на массиве кремниевых волокон
Физика и техника полупроводников, 58:10 (2024), 569–572
-
Свойства гетероструктур AlP/Si, сформированных методом комбинированного плазмохимического и атомно-слоевого осаждения
Письма в ЖТФ, 50:16 (2024), 3–6
-
Разработка технологии плазмохимического осаждения фосфида бора при низкой температуре
Физика твердого тела, 65:12 (2023), 2198–2200
-
Исследование возможности повышения годовой выработки электроэнергии за счет использования кремниевых солнечных элементов с наноструктурированной поверхностью
Физика и техника полупроводников, 57:7 (2023), 522–525
-
Плазмохимическое атомно-слоевое осаждение слоев InP и многослойных наноструктур InP/GaP на кремнии
Физика и техника полупроводников, 57:6 (2023), 406–413
-
Влияние предварительной химической обработки на эффективность пассивации текстурированных кремниевых пластин
Письма в ЖТФ, 49:23 (2023), 62–64
-
Моделирование гетероструктуры PEDOT:PSS/Si для гибких гибридных солнечных элементов
Письма в ЖТФ, 49:23 (2023), 52–55
-
Исследование квантовых ям InP/GaP, полученных методом газофазной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 49:6 (2023), 16–20
-
Исследование влияния особенностей конструкции установки магнетронного распыления на электрические и оптические свойства пленок оксида индия-олова
Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 360–364
-
Исследование диодов Шоттки на основе массива кремниевых волокон, полученных сухим криогенным травлением
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 47–50
-
Исследование свойств солнечных элементов на основе селективного контакта MoO$_{x}$/Si с помощью спектроскопии полной проводимости
Письма в ЖТФ, 47:16 (2021), 24–27
-
Формирование гетероструктур GaP/Si-фотопреобразователей с помощью комбинации методов МОС-гидридной эпитаксии и атомно-слоевого плазмохимического осаждения
Письма в ЖТФ, 47:14 (2021), 51–54
© , 2026