|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Трехкаскадный InGaP/GaAs/Ge фотоэлектрический преобразователь с утоненной германиевой подложкой
ЖТФ, 94:5 (2024), 783–794
-
Формирование самоорганизованных квантовых точек в ходе осаждения GaSbP на поверхность AlP
Физика и техника полупроводников, 58:4 (2024), 185–191
-
Молекулярно-лучевая эпитаксия твердого раствора GaP$_x$As$_{1-x}$: феноменологическое описание зависимости $x$ от условий роста на подложке GaAs(001)
Физика и техника полупроводников, 57:2 (2023), 79–88
-
Массивы квазиодномерных нанокристаллов GaAs, выращенные на окисленной поверхности гетероструктуры Si/GaAs(001): влияние толщины эпитаксиального слоя Si на строение массива
Письма в ЖТФ, 49:3 (2023), 37–41
-
Молекулярно-лучевая эпитаксия GaSb на вицинальных подложках Si(001): влияние условий зарождения слоев на их структурные и оптические свойства
Физика и техника полупроводников, 56:10 (2022), 980–992
-
Формирование InAs/GaP-гетероструктур с квантовыми ямами на подложках кремния методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 55:2 (2021), 139–146
-
Влияние кристаллографической ориентации пленок GaSb на их структурные свойства при гетероэпитаксии на вицинальных подложках Si(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 54:12 (2020), 1289–1295
-
Маска на основе эпитаксиального слоя Si для самокаталитического роста нитевидных нанокристаллов на подложках GaAs (111)$B$ и (100)
Письма в ЖТФ, 46:4 (2020), 11–14
-
Легкий гибкий солнечный элемент на основе гетероэпитаксиальной структуры InGaP/GaAs
ЖТФ, 89:7 (2019), 1071–1078
-
Гетероструктуры с GaAs/GaP-квантовыми ямами, выращенные на Si-подложках
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1167–1171
-
Рост твердых растворов InAs$_{x}$Sb$_{1-x}$ на отклоненных подложках GaAs(001) методом молекулярно-лучевой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019), 512–519
-
Гетероструктуры с InAs/AlAs квантовыми ямами и квантовыми точками, выращенные на гибридных подложках GaAs/Si
Физика и техника полупроводников, 52:11 (2018), 1373–1379
-
Метод диффузии цинка в InP через узкий зазор с использованием планарного источника на основе Zn$_{3}$P$_{2}$
Письма в ЖТФ, 44:14 (2018), 19–25
-
Рентгеноструктурный анализ эпитаксиальных слоев со свойствами дислокационного фильтра
Письма в ЖТФ, 44:13 (2018), 19–27
-
Структурное состояние эпитаксиальных пленок GaP разных полярностей на отклоненных подложках Si(001)
Письма в ЖТФ, 43:4 (2017), 64–71
© , 2026