|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Механизм роста эпитаксиальных слоев Ga$_2$O$_3$ методом хлорид-гидридной эпитаксии на подложке SiC/Si (110)
Физика твердого тела, 67:1 (2025), 105–113
-
Влияние олова на свойства нитрида галлия, выращенного методом хлорид-гидридной газофазной эпитаксии
Физика твердого тела, 66:8 (2024), 1338–1343
-
Фазовые превращения в слоях оксида галлия
Письма в ЖТФ, 49:17 (2023), 6–9
-
Исследование этапов превращения кремния в карбид кремния в процессе атомного замещения методами полного внешнего отражения рентгеновских лучей и рентгеновской дифрактомерии
Физика твердого тела, 64:3 (2022), 326–336
-
Спинтронные свойства границы раздела между Si(111) и 3$C$-SiC(111), выращенным методом согласованного замещения атомов
Письма в ЖТФ, 48:20 (2022), 43–46
-
Самоорганизация состава пленок Al$_{x}$Ga$_{1-x}$N, выращенных на гибридных подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 63:3 (2021), 363–369
-
Анализ водородоустойчивости алюминиевых сплавов
Письма в ЖТФ, 47:4 (2021), 15–18
-
Влияние водорода на флуктуационное охрупчивание алюминия
Письма в ЖТФ, 45:17 (2019), 31–34
-
Исследование анизотропных упругопластических свойств пленок $\beta$-Ga$_{2}$O$_{3}$, синтезированных на подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 60:5 (2018), 851–856
-
Эпитаксиальный оксид галлия на подложках SiC/Si
Физика твердого тела, 58:9 (2016), 1812–1817
© , 2026