|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние промежуточного слоя на процесс формирования и свойства наноструктурированных пленок ITO
Письма в ЖТФ, 51:20 (2025), 50–54
-
Лазерная генерация в дисковых микроструктурах InGaN/GaN/AlGaN на кремнии
Письма в ЖТФ, 51:11 (2025), 41–45
-
Особенности осаждения оксида алюминия на массив нитевидных нанокристаллов ITO
Физика твердого тела, 66:12 (2024), 2099–2101
-
Модификация структуры нанокристаллических пленок оксида индия и олова
Физика и техника полупроводников, 58:6 (2024), 297–301
-
Формирование рассеивающего свет микрорельефа при атомно-слоевом осаждении диэлектрика на наноструктурированные пленки оксида индия-олова
Физика твердого тела, 65:12 (2023), 2148–2150
-
Влияние кислорода на процесс формирования наноструктурированных пленок оксида индия-олова
Физика твердого тела, 65:12 (2023), 2079–2082
-
Тонкопленочный светодиод на основе слоев AlInGaN, выращенных на гибридных подложках SiC/Si
Письма в ЖТФ, 49:15 (2023), 3–6
-
Теплопроводность гибридных подложек SiC/Si для роста светодиодных гетероструктур
Письма в ЖТФ, 49:14 (2023), 19–21
-
Исследование особенностей нанесения нанослоев Al$_2$O$_3$ методом атомно-слоевого осаждения на структурированные пленки ITO
Физика и техника полупроводников, 56:8 (2022), 825–830
-
Просветляющие покрытия на основе ZnO, полученные методом электронно-лучевого испарения
Физика и техника полупроводников, 55:12 (2021), 1248–1254
-
Применение метода атомно-слоевого осаждения для получения наноструктурированных покрытий ITO/Al$_{2}$O$_{3}$
Физика и техника полупроводников, 55:4 (2021), 365–372
-
Светодиод на основе AlInGaN-гетероструктур, выращенных на подложках SiC/Si и технология его изготовления
Письма в ЖТФ, 47:18 (2021), 3–6
-
Комбинация плазмохимического и жидкостного травления как способ оптимизации рельефа на поверхности AlGaInN-гетероструктур
Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1106–1111
-
Модификация рельефа $n$-поверхности AlGaInN-светодиодов изменением состава газовой смеси при реактивном ионном травлении
Физика и техника полупроводников, 54:6 (2020), 564–569
-
Высоковольтные светодиодные кристаллы AlInGaN
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1562–1567
-
Наноструктурированные покрытия ITO/SiO$_{2}$
Физика и техника полупроводников, 53:8 (2019), 1052–1057
-
Способ создания просветляющих покрытий для пленок ITO
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 181–189
-
Исследование профиля эффективного показателя преломления в самоорганизующихся наноструктурированных пленках ITO
Физика и техника полупроводников, 52:10 (2018), 1228–1236
-
Формирование аморфных наночастиц углерода методом лазерного электродиспергирования
Письма в ЖТФ, 44:5 (2018), 57–62
-
Способ получения пленок ITO с контролируемым значением показателя преломления
Физика и техника полупроводников, 50:7 (2016), 1001–1006
-
Расчет оптимальной конфигурации двухслойной пленки ITO для использования в составе отражающих контактов светодиодов синего и ближнего ультрафиолетового диапазонов
Физика и техника полупроводников, 49:7 (2015), 994–998
-
Применение двухслойных пленок ITO в составе отражающих контактов светодиодов синего и ближнего ультрафиолетового диапазонов
Физика и техника полупроводников, 48:12 (2014), 1713–1718
-
Мощные светодиодные кристаллы AlGaInN с двухуровневой металлизацией
Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1287–1293
-
Оптимизация технологии нанесения тонких пленок ITO, применяемых в качестве прозрачных проводящих контактов светодиодов синего и ближнего ультрафиолетового диапазонов
Физика и техника полупроводников, 48:1 (2014), 61–66
-
Сравнение свойств светодиодных кристаллов AlGaInN вертикальной и флип-чип конструкции с использованием кремния в качестве платы-носителя
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 386–391
-
AlGaInN-светодиоды с прозрачным $p$-контактом на основе тонких пленок ITO
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 384–388
-
Увеличение квантовой эффективности флип-чип AlGaInN-светодиодов путем реактивного ионного травления внешней стороны подложек SiC
Физика и техника полупроводников, 44:5 (2010), 684–687
-
Влияние механических напряжений на свойства висмутовой и иттриевой ВТСП керамик
Физика твердого тела, 33:12 (1991), 3595–3597
-
Гистерезис вольт-амперной характеристики ВТСП-керамики, обусловленной захватом магнитного потока
Физика твердого тела, 33:11 (1991), 3308–3314
-
Влияние слабых магнитных полей и транспортного тока на микропластичность ВТСП керамики в области $S\to N$ перехода
Физика твердого тела, 33:7 (1991), 2198–2204
-
Влияние структуры на свойства сверхпроводящей керамики системы Y$-$Ba$-$Cu$-$O
Физика твердого тела, 33:1 (1991), 166–173
-
Влияние одноосного сжатия на вольт-амперные характеристики керамики YBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{7-x}$ в слабых магнитных полях
Физика твердого тела, 32:9 (1990), 2818–2820
© , 2026