|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Модель поведения МОП-структур при радиационно-термических обработках
ЖТФ, 94:11 (2024), 1843–1847
-
Раннее образование поверхностных состояний в МОП-структурах при ионизирующем облучении
Физика твердого тела, 65:5 (2023), 762–766
-
Модель пробоя МОП-структур по механизму анодного освобождения водорода
Физика и техника полупроводников, 57:9 (2023), 784–788
-
Дисперсионный транспорт дырочных поляронов в МОП-структурах после ионизирующего излучения
Физика и техника полупроводников, 56:12 (2022), 1154–1158
-
Размерный эффект в МОП-структурах при ионизирующем облучении
Физика и техника полупроводников, 56:6 (2022), 591–595
-
Влияние ионизирующего облучения на распределение зарядов и пробой МОП-транзисторов
Физика и техника полупроводников, 56:2 (2022), 250–253
-
Латентное накопление поверхностных состояний в МОП структурах после ионизирующего облучения
Физика и техника полупроводников, 55:7 (2021), 559–563
-
Влияние интенсивности ионизирующего облучения на отклик МОП-структур
Физика и техника полупроводников, 55:2 (2021), 152–158
-
Дисперсионный транспорт водорода в МОП-структурах после ионизирующего облучения
Физика и техника полупроводников, 54:10 (2020), 1029–1033
-
Модель влияния смещения затвора при ионизирующем облучении МОП-структур
Физика и техника полупроводников, 54:2 (2020), 189–194
-
Модель термополевой нестабильности $p$-МОП-транзисторов при отрицательном смещении затвора
Физика и техника полупроводников, 54:2 (2020), 181–188
-
Влияние температуры отжига на электрически активные центры в кремнии, имплантированном ионами германия
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 161–164
-
Накопление зарядов в МОП-структурах с поликремниевым затвором при туннельной инжекции
Физика и техника полупроводников, 52:13 (2018), 1625–1630
-
Модель накопления зарядов в $n$- и $p$-МОП-транзисторах при туннельной инжекции электронов из затвора
Физика и техника полупроводников, 52:6 (2018), 637–642
-
Влияние ловушек в диоксиде кремния на пробой МОП-структур
Физика и техника полупроводников, 51:8 (2017), 1105–1109
-
Рост нанокластеров кремния в термическом диоксиде кремния при отжиге в атмосфере азота
Физика и техника полупроводников, 50:6 (2016), 807–810
-
Влияние смещения на поведение МОП-структур при ионизирующем облучении
Физика и техника полупроводников, 49:6 (2015), 793–798
-
Образование донорных центров при отжиге кремниевых светоизлучающих структур, имплантированных ионами кислорода
Физика и техника полупроводников, 49:3 (2015), 418–420
-
Модель поведения МОП структур при ионизирующем облучении
Физика и техника полупроводников, 48:4 (2014), 523–528
-
Модель диффузии бора в карбиде кремния из газовой фазы
Физика и техника полупроводников, 45:6 (2011), 721–728
-
Модель образования фиксированного заряда в термическом диоксиде кремния
Физика и техника полупроводников, 45:4 (2011), 474–480
-
Влияние радиационных дефектов, введенных $\alpha$-частицами, на обратные токи кремниевых $p{-}n$-переходов
Физика и техника полупроводников, 26:5 (1992), 868–871
-
Кинетика распада твердого раствора фосфора в диффузионных слоях кремния
Физика твердого тела, 31:10 (1989), 182–188
-
Структурная неустойчивость высокотемпературного сверхпроводника YBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{7-x}$ в области низких температур
Физика твердого тела, 30:7 (1988), 2052–2057
-
Комплексообразование при диффузии фосфора в кремний
Физика твердого тела, 26:2 (1984), 632–634
© , 2026