|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Изменение люминесцентных характеристик полупроводниковых гетероструктур при ионно-лучевом травлении
Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019), 1579–1583
-
Исследование возможности изготовления напряженных сверхрешеток InAs/GaSb методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 273–276
-
Оптимизация параметров HEMT-гетероструктур GaN/AlN/ AlGaN для СВЧ транзисторов с помощью численного моделирования
Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016), 245–249
-
Сверхрешетки InAs/GaSb, изготовленные методом МОС-гидридной эпитаксии
Письма в ЖТФ, 42:2 (2016), 79–84
-
Фотоэлектрические преобразователи концентрированного солнечного излучения на основе InGaAsP(1.0 эВ)/InP-гетероструктур
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 715–718
-
МОС-гидридная эпитаксия III–N светодиодных гетероструктур с малой длительностью технологического процесса
Письма в ЖТФ, 41:5 (2015), 9–17
-
Получение и исследование $p$–$n$-структур с кристаллическими включениями в области пространственного заряда
Физика и техника полупроводников, 47:12 (2013), 1677–1680
-
Гетероструктуры InGaN/GaN, выращенные методом субмонослойного осаждения
Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012), 1357–1362
-
Композитные InGaN/GaN/InAlN-гетероструктуры, излучающие в желто-красной области спектра
Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012), 1304–1308
-
Твердые растворы AlInAsSb и AlGaInAsSb для барьерных слоев источников излучения спектрального диапазона 3–5 $\mu$m, полученные методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений
Письма в ЖТФ, 38:19 (2012), 66–74
-
Монолитный белый светодиод с активной областью на основе квантовых ям InGaN, разделенных короткопериодными InGaN/GaN-сверхрешетками
Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010), 837–840
-
Исследование тепловых процессов в мощных InGaN/GaN флип-чип светодиодах с использованием инфракрасной тепловизионной микроскопии
Физика и техника полупроводников, 44:3 (2010), 390–396
-
Варизонная активная область на основе короткопериодных InGaN/GaN-сверхрешеток для мощных светоизлучающих диодов диапазона 440–470 нм
Физика и техника полупроводников, 44:1 (2010), 96–100
-
Концентрирующие голографические дифракционные
решетки
II. Экспериментальные результаты
ЖТФ, 54:10 (1984), 1948–1955
-
Концентрирующие топографические дифракционные
решетки
I. Теория
ЖТФ, 54:10 (1984), 1942–1947
© , 2026