RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Мизеров Михаил Николаевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Изменение люминесцентных характеристик полупроводниковых гетероструктур при ионно-лучевом травлении

    Физика и техника полупроводников, 53:11 (2019),  1579–1583
  2. Исследование возможности изготовления напряженных сверхрешеток InAs/GaSb методом газофазной эпитаксии из металлоорганических соединений

    Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019),  273–276
  3. Оптимизация параметров HEMT-гетероструктур GaN/AlN/ AlGaN для СВЧ транзисторов с помощью численного моделирования

    Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016),  245–249
  4. Сверхрешетки InAs/GaSb, изготовленные методом МОС-гидридной эпитаксии

    Письма в ЖТФ, 42:2 (2016),  79–84
  5. Фотоэлектрические преобразователи концентрированного солнечного излучения на основе InGaAsP(1.0 эВ)/InP-гетероструктур

    Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015),  715–718
  6. МОС-гидридная эпитаксия III–N светодиодных гетероструктур с малой длительностью технологического процесса

    Письма в ЖТФ, 41:5 (2015),  9–17
  7. Получение и исследование $p$$n$-структур с кристаллическими включениями в области пространственного заряда

    Физика и техника полупроводников, 47:12 (2013),  1677–1680
  8. Гетероструктуры InGaN/GaN, выращенные методом субмонослойного осаждения

    Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012),  1357–1362
  9. Композитные InGaN/GaN/InAlN-гетероструктуры, излучающие в желто-красной области спектра

    Физика и техника полупроводников, 46:10 (2012),  1304–1308
  10. Твердые растворы AlInAsSb и AlGaInAsSb для барьерных слоев источников излучения спектрального диапазона 3–5 $\mu$m, полученные методом газофазной эпитаксии из металлорганических соединений

    Письма в ЖТФ, 38:19 (2012),  66–74
  11. Монолитный белый светодиод с активной областью на основе квантовых ям InGaN, разделенных короткопериодными InGaN/GaN-сверхрешетками

    Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010),  837–840
  12. Исследование тепловых процессов в мощных InGaN/GaN флип-чип светодиодах с использованием инфракрасной тепловизионной микроскопии

    Физика и техника полупроводников, 44:3 (2010),  390–396
  13. Варизонная активная область на основе короткопериодных InGaN/GaN-сверхрешеток для мощных светоизлучающих диодов диапазона 440–470 нм

    Физика и техника полупроводников, 44:1 (2010),  96–100
  14. Концентрирующие голографические дифракционные решетки II. Экспериментальные результаты

    ЖТФ, 54:10 (1984),  1948–1955
  15. Концентрирующие топографические дифракционные решетки I. Теория

    ЖТФ, 54:10 (1984),  1942–1947


© МИАН, 2026