|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Радиационная стойкость датчиков МНПВО на основе двойных гетероструктур $p$-InAsSbP/$n$-InAs, облученных гамма-квантами
ЖТФ, 96:1 (2026), 112–121
-
Инфракрасный сенсор углекислого газа на основе свето- и фотодиодов из твердых растворов InAsSb(P)
Оптика и спектроскопия, 133:11 (2025), 1168–1171
-
К вопросу о механизмах разогрева светодиодов на основе $p$-InAsSbP/$n$-InAs(Sb)
Физика и техника полупроводников, 57:1 (2023), 42–52
-
Микрооптопара ($\lambda$ = 3.4 $\mu$m) на основе двойной гетероструктуры InAsSbP/InAs для измерения концентрации этанола в водном растворе методом МНПВО
Оптика и спектроскопия, 130:8 (2022), 1223–1228
-
Об использовании арсенида индия в качестве материала волновода при измерениях методом нарушенного полного внутреннего отражения
Оптика и спектроскопия, 129:9 (2021), 1193–1197
-
Источники спонтанного излучения на основе арсенида индия (обзор: десять лет спустя)
Физика и техника полупроводников, 53:2 (2019), 147–157
-
Фотодиоды на основе InAsSbP для длин волн 2.6–2.8 $\mu$m
ЖТФ, 88:2 (2018), 234–237
-
Пространственное перераспределение излучения во флип-чип фотодиодах на основе двойных гетероструктур InAsSbP/InAs
Физика и техника полупроводников, 51:2 (2017), 269–275
-
Фотодиодная линейка 1 $\times$ 64 на основе двойной гетeроструктуры $p$-InAsSbP/$n$-InAs$_{0.92}$Sb$_{0.08}$/$n^{+}$-InAs
Физика и техника полупроводников, 50:5 (2016), 657–662
-
Вольт-амперные характеристики и сбор фототока в радиально симметричных поверхностно облучаемых фотодиодах на основе InAsSb(P)
ЖТФ, 84:11 (2014), 52–57
-
$P$-InAsSbP/$n^0$-InAs/$n^+$-InAs photodiodes for operation at moderate cooling (150–220 K)
Физика и техника полупроводников, 48:10 (2014), 1394–1397
-
Охлаждаемые фотодиоды на основе одиночной гетероструктуры II типа $p$-InAsSbP/$n$-InAs
Письма в ЖТФ, 39:18 (2013), 45–52
-
Поверхностно облучаемые фотодиоды на основе InAsSb (длинноволновая граница $\lambda_{0.1}$ = 4.5 мкм), работающие при температурах 25–80$^\circ$C
Физика и техника полупроводников, 46:5 (2012), 708–713
-
Неравномерность пространственного распределения отрицательной люминесценции в фотодиодах на основе InAsSb(P) (длинноволновая граница $\lambda_{0.1}$ = 5.2 мкм)
Физика и техника полупроводников, 46:2 (2012), 258–261
-
Неохлаждаемые фотодиоды на основе InAsSb(P) с длинноволновой границей чувствительности 5.8 $\mu$m
Письма в ЖТФ, 38:5 (2012), 85–90
-
Пространственная неравномерность протекания тока и ее учет при определении характеристик поверхностно облучаемых фотодиодов на основе InAsSbP/InAs
Физика и техника полупроводников, 45:4 (2011), 554–559
-
Природа температурной зависимости пороговой плотности тока
длинноволновых лазеров на основе ДГС InAsSbP/InAs и InAsSbP/InAsSb
Физика и техника полупроводников, 26:2 (1992), 246–256
-
Светодиоды на основе InAsSbP
для анализа окислов углерода
Письма в ЖТФ, 17:23 (1991), 75–79
-
Температурная зависимость люминесценции арсенида индия и твердых
растворов InAsSbP и InGaAs
Физика и техника полупроводников, 23:4 (1989), 592–596
-
Низкопороговые лазеры
$3{-}3.5$ мкм
на основе ДГС InAsSbP/In$_{1-x}$Ga$_{x}$As$_{1-y}$Sb$_{y}$
Письма в ЖТФ, 15:15 (1989), 49–52
-
Стимулированное излучение
(3$-$3.3 мкм, 77 K)
при инжекции тока в пластически деформированных ДГС
InAsSbP/InAs
Письма в ЖТФ, 14:17 (1988), 1617–1621
-
Люминесцентные свойства эпитаксиальных слоев
и $p{-}n$-структур на
основе In$_{1-x}$Ga$_{x}$As
(${0 < x < 0.23}$)
Физика и техника полупроводников, 21:6 (1987), 1079–1084
-
Инжекционное когерентное излучение в ДГС $In\,As\,Sb\,P/In\,As/In\,As\,Sb\,P$
Письма в ЖТФ, 13:9 (1987), 563–565
-
Температурная зависимость параметров стимулированного излучения в Р-П структурах на основе $In\,As_{1-x}\,Sb_{x}$
Письма в ЖТФ, 13:6 (1987), 329–331
-
Когерентное излучение 3.9 мкм в Р-Н структурах на основе $Jn\,As\,Sb\,P$
Письма в ЖТФ, 12:23 (1986), 1444–1447
-
Структура металл–полупроводник на основе
$p$-InAs
Физика и техника полупроводников, 17:6 (1983), 991–996
© , 2026