|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Особенности температурной зависимости удельного контактного сопротивления диффузионных кремниевых структур Au–Ti–Pd–$n^{+}$–$n$-Si
Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019), 485–492
-
Новый механизм реализации омических контактов
Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018), 138–142
-
К вопросу об омичности контактов Шоттки
Физика и техника полупроводников, 50:6 (2016), 777–784
-
Температурные зависимости удельного контактного сопротивления омических контактов на основе арсенида галлия и фосфида индия в области 4.2–300 K
Письма в ЖТФ, 42:12 (2016), 82–87
-
Структурные трансформации в гомо- и гетерогенных системах на основе GaAs, обусловленные СВЧ-облучением
ЖТФ, 85:3 (2015), 114–118
-
Характеризация автоэмиссионных катодов на основе пленок графена на SiC
Физика и техника полупроводников, 49:9 (2015), 1278–1281
-
Влияние СВЧ-обработок на люминесцентные свойства монокристаллов CdS и CdTe : Cl
Физика и техника полупроводников, 49:7 (2015), 916–919
-
Температурные зависимости удельного контактного сопротивления в омических контактах к $n^+$-InN
Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 472–482
-
Механизм протекания тока в омическом контакте Au–Ti–Al–Ti–n$^+$-GaN в интервале температур 4.2–300 K
Физика и техника полупроводников, 48:10 (2014), 1344–1347
-
Характеризация пористого карбида кремния по спектрам поглощения и фотолюминесценции
Физика и техника полупроводников, 48:8 (2014), 1055–1058
-
Особенности спектров комбинационного рассеяния света структур кварц/Si и стекло/Si, обусловленные лазерным отжигом
Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014), 639–642
-
Токоперенос по металлическим шунтам в oмических контактах к $n^+$-Si
Физика и техника полупроводников, 48:4 (2014), 509–513
-
Интегральная схема СВЧ-модулятора сантиметрового диапазона на слоях поликристаллической алмазной пленки
ЖТФ, 83:3 (2013), 113–117
-
Механизм формирования контактного сопротивления к A$^3$N гетероструктурам с высокой плотностью дислокаций
Физика и техника полупроводников, 47:9 (2013), 1191–1195
-
Сравнительные характеристики спектров комбинационного рассеяния света пленок графена на проводящих и полуизолирующих подложках 6H-SiC
Физика и техника полупроводников, 47:6 (2013), 802–804
-
К вопросу о механизме формирования контактного сопротивления на шлифованных образцах $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 426–431
-
Преобразование структуры SiC/por-SiC/TiO$_2$ в процессе быстрого термического отжига
Физика и техника полупроводников, 46:9 (2012), 1244–1247
-
Радиационно-стимулированная деградация поверхности GaAs и транзисторных структур с высокой подвижностью электронов
Физика и техника полупроводников, 46:6 (2012), 833–844
-
Влияние микроволнового облучения на сопротивление омических контактов Au–TiB$_x$–Ge–Au–$n$–$n^+$–$n^{++}$-GaAs(InP)
Физика и техника полупроводников, 46:4 (2012), 558–561
-
Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов на основе соединений A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$ с высокой плотностью дислокаций
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 348–355
-
Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов Au–Ti–Pd$_2$Si–n$^+$–Si, подвергнутых микроволновому облучению
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 344–347
-
Исследование методом электроотражения влияния $\gamma$-облучения на оптические свойства эпитаксиальных пленок GaN
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 317–320
-
Влияние СВЧ-облучения на фотолюминесценцию связанных экситонов в монокристаллах CdTe : Cl
Физика и техника полупроводников, 45:9 (2011), 1175–1181
-
Эволюция деформационного состояния и компонентного состава при изменении количества квантовых ям в многослойных структурах InGaN/GaN
Физика и техника полупроводников, 45:6 (2011), 770–777
-
Влияние перегрева $p$–$n$-перехода на деградацию мощных импульсных кремниевых лавинно-пролетных диодов
Физика и техника полупроводников, 45:2 (2011), 256–262
-
Радиационные эффекты и межфазные взаимодействия в омических и барьерных контактах к фосфиду индия, стимулированные быстрыми термическими обработками и облучением $\gamma$-квантами $^{60}$Co
Физика и техника полупроводников, 44:12 (2010), 1607–1614
-
Рентгеновская дифрактометрия и сканирующая микро-рамановская спектроскопия неоднородностей структуры и деформаций по глубине многослойной гетероструктуры InGaN/GaN
Физика и техника полупроводников, 44:9 (2010), 1236–1247
-
Влияние микроволновой обработки на механизмы протекания тока в омических контактах Au–TiB$_x$–Al–Ti–$n^+$–$n$–$n^+$-GaN–Al$_2$O$_3$
Физика и техника полупроводников, 44:6 (2010), 775–781
-
Радиационные повреждения контактных структур с диффузионными барьерами, подвергнутых $\gamma$-облучению $^{60}$Co
Физика и техника полупроводников, 44:4 (2010), 467–475
-
Уменьшение поглощения в структурах кварц/Si, кварц/Si/SiO$_2$ и SiC/Si/SiO$_2$ под влиянием лазерной обработки
Физика и техника полупроводников, 44:3 (2010), 326–329
-
Межфазные взаимодействия в тонкопленочных поверхностно-барьерных
структурах Pt$-$GaAs
ЖТФ, 62:8 (1992), 88–94
-
Упорядоченная латеральная неоднородность переходного слоя в системе
AuGe$-$GaAs
Письма в ЖТФ, 18:16 (1992), 10–13
-
Пробой кремниевых $p^{+}{-}n{-}n^{+}$-диодов
Физика и техника полупроводников, 22:10 (1988), 1754–1758
-
Столкновительное уширение оптических спектров и его связь
с подвижностью
Физика и техника полупроводников, 21:6 (1987), 1138–1141
-
Влияние $\gamma$-радиации на поверхностную генерацию-рекомбинацию
в полупроводниковых структурах на основе GaAs
Физика и техника полупроводников, 20:9 (1986), 1640–1646
-
Радиационное упорядочение на границе раздела металл$-$InP
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 326–329
-
Влияние радиации на излучательную и безызлучательную рекомбинацию
в гетеросистемах на основе GaAs и Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 322–325
-
Структурно-примесное упорядочение под действием малых доз проникающей
радиации
ЖТФ, 55:10 (1985), 1977–1982
-
Эффект заполнения примесных уровней в спектрах
поверхностно-барьерного электроотражения GaAs
Физика и техника полупроводников, 19:4 (1985), 678–681
-
Пространственная локализация эффекта радиационно-стимулированного
гетерирования
Физика и техника полупроводников, 18:10 (1984), 1885–1887
-
К определению скорости рекомбинации на границе раздела гетеропереходов
Si$_{x}$Ge$_{1-x}{-}$GaAs
Физика и техника полупроводников, 18:3 (1984), 402–407
-
Электрические характеристики
термо- и радиационно-стойких лавинных
диодов на основе Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As
ЖТФ, 53:8 (1983), 1575–1577
-
Радиационно-стимулированное гетерирование структурных дефектов
в гетеросистемах Si$_{x}$Ge$_{1-x}{-}$GaAs
Физика и техника полупроводников, 17:7 (1983), 1349–1351
© , 2026