|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Особенности температурной зависимости удельного контактного сопротивления диффузионных кремниевых структур Au–Ti–Pd–$n^{+}$–$n$-Si
Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019), 485–492
-
Новый механизм реализации омических контактов
Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018), 138–142
-
Влияние толщины базы на эффективность фотопреобразования текстурированных солнечных элементов на основе кремния
Письма в ЖТФ, 44:19 (2018), 40–49
-
Электролюминесцентные исследования эффективности кремниевых гетероструктурных солнечных элементов
Письма в ЖТФ, 43:17 (2017), 3–11
-
Особенности моделирования эффективности фотопреобразования солнечных элементов на основе перовскитов
Письма в ЖТФ, 43:14 (2017), 88–96
-
Особенности токопрохождения в гетеропереходных солнечных элементах на основе $\alpha$-Si : H/Si
Письма в ЖТФ, 43:3 (2017), 29–38
-
К вопросу об омичности контактов Шоттки
Физика и техника полупроводников, 50:6 (2016), 777–784
-
Моделирование реальных значений кпд высокоэффективных кремниевых солнечных элементов
Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016), 531–537
-
Метод оптимизации параметров гетеропереходных фотоэлектрических преобразователей на основе кристаллического кремния
Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016), 259–263
-
Температурные зависимости удельного контактного сопротивления омических контактов на основе арсенида галлия и фосфида индия в области 4.2–300 K
Письма в ЖТФ, 42:12 (2016), 82–87
-
Исследование влияния температуры на характеристики гетеропереходных солнечных элементов на основе кристаллического кремния
Письма в ЖТФ, 42:6 (2016), 70–76
-
Моделирование натурных характеристик вертикальных тандемных солнечных элементов $a$-Si : H/$\mu c$-Si : H. 2. Анализ результатов и сравнение с экспериментом
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 707–714
-
Моделирование натурных характеристик вертикальных тандемных солнечных элементов $a$-Si : H/$\mu c$-Si : H. 1. Общие соотношения
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 697–706
-
Температурные зависимости удельного контактного сопротивления в омических контактах к $n^+$-InN
Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015), 472–482
-
Особенности фотопреобразования в высокоэффективных кремниевых солнечных элементах
Физика и техника полупроводников, 49:2 (2015), 271–277
-
Анализ возможностей реализации высоких значений эффективности фотопреобразования в тандемных гетеропереходных тонкопленочных солнечных элементах
Письма в ЖТФ, 41:10 (2015), 42–49
-
Механизм протекания тока в омическом контакте Au–Ti–Al–Ti–n$^+$-GaN в интервале температур 4.2–300 K
Физика и техника полупроводников, 48:10 (2014), 1344–1347
-
Моделирование эффективности многопереходных солнечных элементов
Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014), 693–701
-
Токоперенос по металлическим шунтам в oмических контактах к $n^+$-Si
Физика и техника полупроводников, 48:4 (2014), 509–513
-
Годовые зависимости генерируемой мощности и электроэнергии для солнечных элементов на основе $a$-Si:H
ЖТФ, 83:11 (2013), 86–91
-
Моделирование изменения характеристик солнечных элементов на основе $a$-Si : H в течение светового дня
ЖТФ, 83:11 (2013), 78–85
-
Механизм формирования контактного сопротивления к A$^3$N гетероструктурам с высокой плотностью дислокаций
Физика и техника полупроводников, 47:9 (2013), 1191–1195
-
К вопросу о механизме формирования контактного сопротивления на шлифованных образцах $n$-Si
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 426–431
-
Влияние микроволнового облучения на сопротивление омических контактов Au–TiB$_x$–Ge–Au–$n$–$n^+$–$n^{++}$-GaAs(InP)
Физика и техника полупроводников, 46:4 (2012), 558–561
-
Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов на основе соединений A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$ с высокой плотностью дислокаций
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 348–355
-
Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов Au–Ti–Pd$_2$Si–n$^+$–Si, подвергнутых микроволновому облучению
Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012), 344–347
-
Исследование границы раздела слой–подложка в структурах Si–SiO$_2$–$p$-Si с кремниевыми квантовыми точками методом температурных зависимостей фотоэдс
Физика и техника полупроводников, 44:9 (2010), 1224–1228
-
Влияние фриделевских осцилляций на емкость двойного электрического слоя
Физика твердого тела, 34:7 (1992), 2287–2290
-
Эффект усиления фототока в структурах полупроводник$-$туннельно-прозрачный диэлектрик$-$полупроводник
Физика и техника полупроводников, 26:2 (1992), 295–304
-
К определению характерных длин собирания фототока
в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного гидрированного
кремния
Физика и техника полупроводников, 22:10 (1988), 1867–1870
-
Поверхностная релаксация энергии и отрицательная дифференциальная
проводимость тонких образцов
Физика и техника полупроводников, 22:3 (1988), 522–524
-
Вольт-амперная характеристика
МТДП структур в режиме стационарного
лавинного пробоя
Письма в ЖТФ, 14:19 (1988), 1729–1732
-
Кинетика фотоответа и механизм протекания тока в кремниевых
структурах полупроводник–тонкий диэлектрик–полупроводник
Физика и техника полупроводников, 20:8 (1986), 1444–1450
-
Аномальный фотоэффект на границе закиси меди с электролитом
Физика и техника полупроводников, 20:5 (1986), 876–880
-
Фотомагнитный эффект в структурах
Si$-$SiO$_{2}$
Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986), 257–262
-
Физические ограничения эффективности фотопреобразования
в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного кремния
Физика и техника полупроводников, 19:8 (1985), 1468–1472
-
Спектральные зависимости фототока в поверхностно-барьерных
структурах на основе аморфного гидрогенизированного
кремния. Теоретические соотношения
Физика и техника полупроводников, 17:10 (1983), 1782–1786
-
Кинетика фотоответа туннельных МДП структур
Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983), 1471–1477
-
Фотоэлектрические свойства структур
металл–диэлектрик–полупроводник
с туннельно-прозрачным слоем диэлектрика
Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983), 1361–1376
© , 2026