RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Саченко Анатолий Васильевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Особенности температурной зависимости удельного контактного сопротивления диффузионных кремниевых структур Au–Ti–Pd–$n^{+}$$n$-Si

    Физика и техника полупроводников, 53:4 (2019),  485–492
  2. Новый механизм реализации омических контактов

    Физика и техника полупроводников, 52:1 (2018),  138–142
  3. Влияние толщины базы на эффективность фотопреобразования текстурированных солнечных элементов на основе кремния

    Письма в ЖТФ, 44:19 (2018),  40–49
  4. Электролюминесцентные исследования эффективности кремниевых гетероструктурных солнечных элементов

    Письма в ЖТФ, 43:17 (2017),  3–11
  5. Особенности моделирования эффективности фотопреобразования солнечных элементов на основе перовскитов

    Письма в ЖТФ, 43:14 (2017),  88–96
  6. Особенности токопрохождения в гетеропереходных солнечных элементах на основе $\alpha$-Si : H/Si

    Письма в ЖТФ, 43:3 (2017),  29–38
  7. К вопросу об омичности контактов Шоттки

    Физика и техника полупроводников, 50:6 (2016),  777–784
  8. Моделирование реальных значений кпд высокоэффективных кремниевых солнечных элементов

    Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016),  531–537
  9. Метод оптимизации параметров гетеропереходных фотоэлектрических преобразователей на основе кристаллического кремния

    Физика и техника полупроводников, 50:2 (2016),  259–263
  10. Температурные зависимости удельного контактного сопротивления омических контактов на основе арсенида галлия и фосфида индия в области 4.2–300 K

    Письма в ЖТФ, 42:12 (2016),  82–87
  11. Исследование влияния температуры на характеристики гетеропереходных солнечных элементов на основе кристаллического кремния

    Письма в ЖТФ, 42:6 (2016),  70–76
  12. Моделирование натурных характеристик вертикальных тандемных солнечных элементов $a$-Si : H/$\mu c$-Si : H. 2. Анализ результатов и сравнение с экспериментом

    Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015),  707–714
  13. Моделирование натурных характеристик вертикальных тандемных солнечных элементов $a$-Si : H/$\mu c$-Si : H. 1. Общие соотношения

    Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015),  697–706
  14. Температурные зависимости удельного контактного сопротивления в омических контактах к $n^+$-InN

    Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015),  472–482
  15. Особенности фотопреобразования в высокоэффективных кремниевых солнечных элементах

    Физика и техника полупроводников, 49:2 (2015),  271–277
  16. Анализ возможностей реализации высоких значений эффективности фотопреобразования в тандемных гетеропереходных тонкопленочных солнечных элементах

    Письма в ЖТФ, 41:10 (2015),  42–49
  17. Механизм протекания тока в омическом контакте Au–Ti–Al–Ti–n$^+$-GaN в интервале температур 4.2–300 K

    Физика и техника полупроводников, 48:10 (2014),  1344–1347
  18. Моделирование эффективности многопереходных солнечных элементов

    Физика и техника полупроводников, 48:5 (2014),  693–701
  19. Токоперенос по металлическим шунтам в oмических контактах к $n^+$-Si

    Физика и техника полупроводников, 48:4 (2014),  509–513
  20. Годовые зависимости генерируемой мощности и электроэнергии для солнечных элементов на основе $a$-Si:H

    ЖТФ, 83:11 (2013),  86–91
  21. Моделирование изменения характеристик солнечных элементов на основе $a$-Si : H в течение светового дня

    ЖТФ, 83:11 (2013),  78–85
  22. Механизм формирования контактного сопротивления к A$^3$N гетероструктурам с высокой плотностью дислокаций

    Физика и техника полупроводников, 47:9 (2013),  1191–1195
  23. К вопросу о механизме формирования контактного сопротивления на шлифованных образцах $n$-Si

    Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013),  426–431
  24. Влияние микроволнового облучения на сопротивление омических контактов Au–TiB$_x$–Ge–Au–$n$$n^+$$n^{++}$-GaAs(InP)

    Физика и техника полупроводников, 46:4 (2012),  558–561
  25. Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов на основе соединений A$^{\mathrm{III}}$B$^{\mathrm{V}}$ с высокой плотностью дислокаций

    Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012),  348–355
  26. Температурная зависимость контактного сопротивления омических контактов Au–Ti–Pd$_2$Si–n$^+$–Si, подвергнутых микроволновому облучению

    Физика и техника полупроводников, 46:3 (2012),  344–347
  27. Исследование границы раздела слой–подложка в структурах Si–SiO$_2$$p$-Si с кремниевыми квантовыми точками методом температурных зависимостей фотоэдс

    Физика и техника полупроводников, 44:9 (2010),  1224–1228
  28. Влияние фриделевских осцилляций на емкость двойного электрического слоя

    Физика твердого тела, 34:7 (1992),  2287–2290
  29. Эффект усиления фототока в структурах полупроводник$-$туннельно-прозрачный диэлектрик$-$полупроводник

    Физика и техника полупроводников, 26:2 (1992),  295–304
  30. К определению характерных длин собирания фототока в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного гидрированного кремния

    Физика и техника полупроводников, 22:10 (1988),  1867–1870
  31. Поверхностная релаксация энергии и отрицательная дифференциальная проводимость тонких образцов

    Физика и техника полупроводников, 22:3 (1988),  522–524
  32. Вольт-амперная характеристика МТДП структур в режиме стационарного лавинного пробоя

    Письма в ЖТФ, 14:19 (1988),  1729–1732
  33. Кинетика фотоответа и механизм протекания тока в кремниевых структурах полупроводник–тонкий диэлектрик–полупроводник

    Физика и техника полупроводников, 20:8 (1986),  1444–1450
  34. Аномальный фотоэффект на границе закиси меди с электролитом

    Физика и техника полупроводников, 20:5 (1986),  876–880
  35. Фотомагнитный эффект в структурах Si$-$SiO$_{2}$

    Физика и техника полупроводников, 20:2 (1986),  257–262
  36. Физические ограничения эффективности фотопреобразования в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного кремния

    Физика и техника полупроводников, 19:8 (1985),  1468–1472
  37. Спектральные зависимости фототока в поверхностно-барьерных структурах на основе аморфного гидрогенизированного кремния. Теоретические соотношения

    Физика и техника полупроводников, 17:10 (1983),  1782–1786
  38. Кинетика фотоответа туннельных МДП структур

    Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983),  1471–1477
  39. Фотоэлектрические свойства структур металл–диэлектрик–полупроводник с туннельно-прозрачным слоем диэлектрика

    Физика и техника полупроводников, 17:8 (1983),  1361–1376


© МИАН, 2026