RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Машовец Татьяна Вадимовна

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Пары Френкеля в германии и кремнии (Обзор)

    Физика и техника полупроводников, 26:1 (1992),  22–44
  2. Проявление пар Френкеля в $p$-германии при низкотемпературном $\gamma$-облучении

    Физика и техника полупроводников, 25:2 (1991),  191–196
  3. Влияние параметров электронного облучения на сечение образования собственных дефектов в кремнии

    Физика и техника полупроводников, 25:1 (1991),  45–49
  4. Влияние условий электронного облучения на скорость образования $A$-центров в $n$-кремнии

    Физика и техника полупроводников, 24:7 (1990),  1209–1212
  5. Зависимость эффективности аннигиляции гомогенных пар Френкеля в кристаллах от интенсивности облучения

    Физика твердого тела, 31:3 (1989),  306–308
  6. Влияние параметров импульсного электронного облучения на эффективность образования дефектов в кремнии

    Физика и техника полупроводников, 23:12 (1989),  2221–2223
  7. Исследование скоплений компенсирующих центров в $n$-Si

    Физика и техника полупроводников, 23:11 (1989),  2066–2069
  8. Скопления атомов меди в германии

    Физика и техника полупроводников, 23:5 (1989),  911–914
  9. Эффективность образования точечных дефектов в $n$- и $p$-Ge в условиях облучения при 77 и 300 K

    Физика и техника полупроводников, 23:3 (1989),  425–428
  10. Влияние упругих напряжений, создаваемых компонентами пар Френкеля, на энергетический спектр дефектов в полупроводниках IV группы

    Физика и техника полупроводников, 23:1 (1989),  184–185
  11. Эффективность взаимодействия вакансий с донорами V группы в $n$-германии

    Физика и техника полупроводников, 22:8 (1988),  1483–1486
  12. Основные характеристики пары Френкеля в германии

    Физика и техника полупроводников, 22:5 (1988),  924–926
  13. Влияние интенсивности импульсного электронного облучения на образование дефектов в $p$-кремнии

    Физика и техника полупроводников, 22:3 (1988),  502–504
  14. Взаимодействие собственных точечных дефектов с примесными атомами фосфора в кремнии $n$-типа при электронном (импульсном) облучении

    Физика и техника полупроводников, 21:11 (1987),  2106–2109
  15. Равновесный уровень заполнения вакансии в кремнии

    Физика и техника полупроводников, 21:10 (1987),  1888–1892
  16. Время жизни свободных вакансий и собственных межузельных атомов в $n$-германии при электронном и гамма-облучении

    Физика и техника полупроводников, 21:10 (1987),  1826–1831
  17. Энергетический спектр и процессы миграции компонентов пары Френкеля в германии

    Физика и техника полупроводников, 21:1 (1987),  145–149
  18. Ионизационно-стимулированный отжиг пар Френкеля в германии и кремнии в условиях электронного и гамма-облучения при гелиевых температурах

    Физика и техника полупроводников, 20:5 (1986),  840–843
  19. Скорость образования $A$-центров в кремнии при электронном импульсном облучении

    Физика и техника полупроводников, 20:1 (1986),  164–167
  20. Связывание доноров у группы в электрически неактивные комплексы при облучении П-германия электронами с энергией 1 МэВ

    Письма в ЖТФ, 12:23 (1986),  1461–1464
  21. Различие процессов образования дефектов под действием гамма-лучей в $p$-кремнии при 6.5 и 78 K

    Физика и техника полупроводников, 19:2 (1985),  296–299
  22. Создание дефектов в твердых телах при распаде электронных возбуждений

    УФН, 147:3 (1985),  523–558
  23. Пространственное распределение электрически активных центров в $n$-арсениде галлия и его изменения при гамма-облучении

    Физика и техника полупроводников, 18:9 (1984),  1593–1596
  24. Определение энергетических характеристик вакансии в кремнии как центра с отрицательной корреляционной энергией

    Физика и техника полупроводников, 18:8 (1984),  1516–1519
  25. Образование точечных дефектов в чистом $p$-Si под действием гамма-лучей при 6.5 K

    Физика и техника полупроводников, 18:8 (1984),  1505–1508
  26. Рост скоплений компенсирующих центров в полупроводниках под действием гамма-облучения

    Письма в ЖТФ, 10:14 (1984),  860–862
  27. О распределении пар Френкеля, возникающих в германии при облучении, по расстояниям между их компонентами

    Физика и техника полупроводников, 17:11 (1983),  1985–1990
  28. Скопления электрически активных центров в термообработанном кремнии, выращенном по методу Чохральского

    Физика и техника полупроводников, 17:11 (1983),  1979–1984
  29. Проявление примесного ионизационного механизма (ПИМ) образования дефектов в антимониде индия при «надпороговом» облучении

    Физика и техника полупроводников, 17:3 (1983),  521–523
  30. Об энергетическом спектре вакансии в кремнии

    Физика и техника полупроводников, 17:2 (1983),  350–352
  31. Влияние условий облучения на взаимодействие примеси золота с собственными дефектами в германии

    Физика и техника полупроводников, 17:1 (1983),  52–56
  32. Взаимодействие галлия с собственными дефектами в германии при гамма-облучении

    Физика и техника полупроводников, 17:1 (1983),  35–39


© МИАН, 2026