|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Структура и электропроводность перовскитов Pr$_{1-x}$Sr$_{x}$MnO$_{3}$ ($x$ = 0; 0.15; 0.25)
Физика твердого тела, 63:4 (2021), 465–470
-
Фазовая диаграмма и термодинамическое равновесие в системе Fe$_x$TiSe$_2$
Физика твердого тела, 54:3 (2012), 585–587
-
Свойства и особенности кристаллизации эпитаксиальных слоев GaAs,
выращенных на подложках Si(100) методом двухстадийного осаждения в МОС
гидридном процессе
Физика и техника полупроводников, 25:6 (1991), 1022–1029
-
Получение МОС гидридным методом при пониженном давлении
и фотолюминесцентные исследования GaAs/AlGaAs квантово-размерных структур
Физика и техника полупроводников, 23:8 (1989), 1420–1425
-
Флуктуации ширины квантовых ям
и низкотемпературная фотолюминесценция
GaAs/AlGaAs квантоворазмерных структур,
полученных МОС-гидридным методом
Письма в ЖТФ, 14:13 (1988), 1217–1220
-
Исследование
GaAs$-$AlGaAs квантово-размерных структур, полученных МОС-гидридным методом
Письма в ЖТФ, 14:3 (1988), 222–226
-
Влияние уровня легирования на электрофизические свойства твердого
раствора Al$_{0.3}$Ga$_{0.7}$As : Si
Физика и техника полупроводников, 21:4 (1987), 754–756
-
Быстродействующий высоковольтный оптоэлектронный ключ
ЖТФ, 56:3 (1986), 577–579
-
Исследование природы акцепторных примесей в нелегированных
эпитаксиальных слоях GaAs, полученных МОС гидридным методом
Физика и техника полупроводников, 20:12 (1986), 2163–2168
-
Глубокий донорный уровень Si в твердых растворах
Al$_{x}$Ga$_{1-x}$As, полученных из газовой фазы
Физика и техника полупроводников, 20:10 (1986), 1919–1921
-
Низкая скорость поверхностной рекомбинации
(${S =10^{4}}$ см/с) в эпитаксиальном $n$-GaAs
Физика и техника полупроводников, 19:10 (1985), 1826–1829
-
Исследование многослойных $Ga\,As-Al\,Ga\,As$ структур на наклонных сечениях, изготовленных химическим травлением
Письма в ЖТФ, 11:1 (1985), 21–24
-
Тонкопленочные AlGaAs гетерофотоэлементы с удаленной GaAs подложкой
ЖТФ, 54:6 (1984), 1215–1218
-
Высокоэффективные $p$AlGaAs${-}p$GaAs${-}n$GaAs
солнечные фотоэлементы с КПД
19% (AM 0)
и 24% (AM 1.5)
Письма в ЖТФ, 9:20 (1983), 1251–1254
© , 2026