RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Саидов Амин Сафарбаевич

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Особенности вольт-амперной характеристики гетероструктуры $n$-GaP–$p$-(InSb)$_{1-x}$(Sn$_{2}$)$_{x}$

    Письма в ЖТФ, 46:22 (2020),  23–26
  2. Исследование зависимости вольтамперной характеристики $p$-Si-$n$-(Si$_2$)$_{1-x-y}$(Ge$_2$)$_{x}$(ZnSe)$_{y}$-структур от температуры

    Comp. nanotechnol., 6:3 (2019),  16–21
  3. Эффект инжекционного обеднения в $p$-Si–$n$-(Si$_{2}$)$_{1-x}$(ZnSe)$_{x}$ (0 $\le x\le$ 0.01) гетероструктуре

    Физика и техника полупроводников, 52:9 (2018),  1066–1070
  4. Получение, структура и свойства эпитаксиальных пленок (GaAs)$_{1-x-y}$(Ge$_{2}$)$_{x}$(ZnSe)$_{y}$ на основе GaAs

    Физика и техника полупроводников, 50:1 (2016),  60–66
  5. Термовольтаический эффект в варизонном твердом растворе Si$_{1-x}$Ge$_{x}$ (0 $\le x\le$ 1)

    Письма в ЖТФ, 42:14 (2016),  21–27
  6. Жидкофазная эпитаксия твердого раствора замещения (Si$_2$)$_{1-x-y}$(Ge$_2$)$_x$(GaAs)$_y$ (0 $\le x\le$ 0.91, 0 $\le y\le$ 0.94) и некоторые электрофизические свойства

    Физика и техника полупроводников, 49:4 (2015),  557–560
  7. Эффект инжекционного обеднения в $p$$n$-гетероструктурах на основе твердых растворов (Si$_2$)$_{1-x-y}$(Ge$_2$)$_x$(GaAs)$_y$, (Si$_2$)$_{1-x}$(CdS)$_x$, (InSb)$_{1-x}$(Sn$_2$)$_x$, CdTe$_{1-x}$S$_x$

    Физика твердого тела, 56:12 (2014),  2319–2325
  8. Cтpуктуpные и некотоpые электpофизичеcкие cвойcтва твеpдого pаcтвоpа Si$_{1-x}$Sn$_x$ (0 $\le x\le$ 0.04)

    Физика твердого тела, 55:1 (2013),  36–43
  9. Выращивание пленок твердого раствора Ge$_{1-x}$Sn$_x$ и исследование их структурных и некоторых фотоэлектрических свойств

    Физика и техника полупроводников, 46:8 (2012),  1111–1119
  10. Выращивание пленок твердого раствора (GaAs)$_{1-x}$(ZnSe)$_x$ и исследование их структурных и некоторых фотоэлектрических свойств

    Физика твердого тела, 53:10 (2011),  1910–1919
  11. Выращивание пленок (InSb)$_{1-x}$(Sn$_2$)$_x$ на арсенид-галлиевых подложках методом жидкофазной эпитаксии

    Физика и техника полупроводников, 44:7 (2010),  970–977
  12. Структурное и фотоэлектрическое исследование эпитаксиального слоя Si$_{1-x}$Sn$_x$

    Письма в ЖТФ, 36:17 (2010),  104–110


© МИАН, 2026