|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Влияние температуры роста на структурное совершенство пленок CdTe(111), синтезированных методом молекулярно-лучевой эпитаксии на подложках GaAs(100)
Физика и техника полупроводников, 59:3 (2025), 141–149
-
Поправка к статье: “Изучение адсорбции спайкового белка вируса SARS-CoV-2 методами колебательной спектроскопии с применением терагерцевых метаматериалов” («Квантовая электроника», 2022, т. 52, № 1, с.2–12)
Квантовая электроника, 52:3 (2022), 288
-
Изучение адсорбции спайкового белка вируса SARS-CoV-2 методами колебательной спектроскопии с применением терагерцевых метаматериалов
Квантовая электроника, 52:1 (2022), 2–12
-
Квантово-каскадный лазер на 3.3 ТГц на основе активного модуля из трех квантовых ям GaAs/AlGaAs с рабочей температурой > 120 K
Физика и техника полупроводников, 55:11 (2021), 989–994
-
Терагерцовое излучение фотопроводящих антенн на основе сверхрешеточных структур $\{$LT-GaAs/GaAs:Si$\}$
Оптика и спектроскопия, 128:7 (2020), 1004–1011
-
Электронный квантовый транспорт в псевдоморфных и метаморфных квантовых ямах на основе In$_{0.2}$Ga$_{0.8}$As
Физика и техника полупроводников, 53:3 (2019), 359–364
-
Особенности импульсного лазерного отжига пленок ВС$_{3}$ на сапфировой подложке
Письма в ЖТФ, 45:9 (2019), 26–29
-
Неуниверсальное скейлинговое поведение ширины пиков проводимости в режиме квантового эффекта Холла в структурах InGaAs/InAlAs
Физика и техника полупроводников, 52:12 (2018), 1447–1454
-
Температурная зависимость порогового тока и выходной мощности квантово-каскадного лазера с частотой генерации 3.3 ТГц
Физика и техника полупроводников, 52:11 (2018), 1268–1273
-
Transport in short-period GaAs/AlAs superlattices with electric domains
Физика и техника полупроводников, 52:4 (2018), 472
-
Электронный транспорт в квантовых ямах AlGaAs/InGaAs/GaAs РНЕМТ при различных температурах: влияние одностороннего дельта-легирования Si
Физика и техника полупроводников, 52:2 (2018), 201–206
-
Эффективная масса и время релаксации импульса электронов в односторонне $\delta$-легированных PHEMT квантовых ямах AlGaAs/InGaAs/GaAs с высокой электронной плотностью
Письма в ЖТФ, 44:24 (2018), 120–127
-
Особенности ионизации доноров кремния и рассеяние электронов в псевдоморфных квантовых ямах AlGaAs/InGaAs/GaAs при сильном одностороннем $\delta$-легировании
Письма в ЖТФ, 44:4 (2018), 34–41
-
Влияние режима отжига на свойства терагерцевой фотопроводящей антенны на основе LT-GaAs
Письма в ЖТФ, 44:2 (2018), 11–17
-
Спектры модовых потерь в ТГц квантово-каскадных лазерах с двойным металлическим волноводом на основе Au и Ag
Квантовая электроника, 48:11 (2018), 1005–1008
-
Электронные свойства приповерхностных квантовых ям InGaAs/InAlAs с инвертированным легированием на подложках InP
Физика и техника полупроводников, 51:6 (2017), 792–797
-
Генерация и детектирование терагерцевого излучения в низкотемпературных эпитаксиальных пленках GaAs на подложках GaAs с ориентациями (100) и (111)A
Физика и техника полупроводников, 51:4 (2017), 529–534
-
Квантовый эффект Холла и прыжковая проводимость в наногетероструктурах $n$-InGaAs/InAlAs
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1669–1674
-
Исследование устойчивости метастабильных эпитаксиальных слоев GeSn к термическим воздействиям
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1570–1575
-
Особенности диагностики метаморфных наногетероструктур InAlAs/InGaAs/InAlAs методом высокоразрешающей рентгеновской дифрактометрии в режиме $\omega$-сканирования
Физика и техника полупроводников, 50:4 (2016), 567–573
-
Наноструктуры Ge/GeSn с высоким содержанием олова, выращенные на подложках (001) GaAs и Si методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 49:12 (2015), 1612–1618
-
Фотолюминесцентные свойства модулированно-легированных структур In$_x$Al$_{1-x}$As/In$_y$Ga$_{1-y}$As/In$_x$Al$_{1-x}$As с напряженными нановставками InAs и GaAs в квантовой яме
Физика и техника полупроводников, 49:9 (2015), 1243–1253
-
Фотолюминесценция массивов квантовых колец GaAs/AlGaAs
Физика и техника полупроводников, 49:5 (2015), 652–657
-
Особенности фотолюминесценции HEMT-наногетероструктур с составной квантовой ямой InAlAs/InGaAs/InAs/InGaAs/InAlAs
Физика и техника полупроводников, 49:2 (2015), 241–248
-
Гетероструктуры Ge/GeSn, выращенные на Si (100) методом молекулярно-пучковой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 49:1 (2015), 128–133
-
Использование реакторных нейтронов для исследования радиационной стойкости полупроводниковых материалов группы III–V и сенсоров
Физика твердого тела, 56:1 (2014), 156–159
-
Увеличение подвижности электронов в НЕМТ гетероструктурах с составным спейсером, содержащим нанослои AlAs
Физика и техника полупроводников, 48:12 (2014), 1660–1665
-
Технология и электронные свойства PHEMT-квантовых ям AlGaAs/In$_{y(z)}$Ga$_{1-y(z)}$As/GaAs с переменным профилем состава
Физика и техника полупроводников, 48:9 (2014), 1258–1264
-
Применение спектроскопии фотолюминесценции для исследования метаморфных наногетероструктур In$_{0.38}$Al$_{0.62}$As/In$_{0.38}$Ga$_{0.62}$As/In$_{0.38}$Al$_{0.62}$As
Физика и техника полупроводников, 48:7 (2014), 909–916
-
Влияние разориентации подложки (100) GaAs на электрофизические параметры и морфологию поверхности метаморфных НЕМТ наногетероструктур In$_{0.7}$Al$_{0.3}$As/In$_{0.75}$Ga$_{0.25}$As/In$_{0.7}$Al$_{0.3}$As
Физика и техника полупроводников, 48:1 (2014), 67–72
-
Электрофизические и оптические свойства приповерхностных квантовых ям AlGaAs/InGaAs/AlGaAs c различной глубиной залегания
Физика и техника полупроводников, 47:9 (2013), 1215–1220
-
Исследование свойств новых конструкций метаморфного буфера InAlAs на подложках GaAs с распределенной компенсацией упругих деформаций
Физика и техника полупроводников, 47:7 (2013), 990–996
-
Замороженная фотопроводимость и подвижности электронов в структурах с квантовой ямой
In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As/In$_{0.53}$Ga$_{0.47}$As/In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As/InP
Физика и техника полупроводников, 47:7 (2013), 927–934
-
Исследование влияния напряженных сверхрешеток, введенных в метаморфный буфер, на электрофизические свойства и атомное строение МНЕМТ наногетероструктур InAlAs/InGaAs
Физика и техника полупроводников, 47:4 (2013), 510–515
-
Максимальная дрейфовая скорость электронов в селективно легированных гетероструктурах InAlAs/InGaAs/InAlAs с введенной InAs-вставкой
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 348–352
-
Подвижность и эффективная масса электронов в составных квантовых ямах InGaAs с нановставками InAs и GaAs
Физика и техника полупроводников, 46:4 (2012), 500–506
-
Рассеяние и подвижность электронов в комбинированно-легированных HFET-структурах AlGaAs/InGaAs/AlGaAs с высокой концентрацией электронов
Физика и техника полупроводников, 45:10 (2011), 1373–1378
-
Подвижность и дрейфовая скорость электронов в селективно-легированных гетероструктурах InAlAs/InGaAs/InAlAs
Физика и техника полупроводников, 45:9 (2011), 1214–1218
-
Взаимосвязь конструкции метаморфных наногетероструктур InAlAs/InGaAs с содержанием InAs в активном слое 76–100% с морфологией их поверхности и электрофизическими свойствами
Физика и техника полупроводников, 45:9 (2011), 1203–1208
-
Влияние встроенного электрического поля на оптические и электрофизические свойства P-HEMT наногетероструктур AlGaAs/InGaAs/GaAs
Физика и техника полупроводников, 45:5 (2011), 666–671
-
Транспорт электронов в квантовой яме In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As/In$_{0.53}$Ga$_{0.47}$As/In$_{0.52}$Al$_{0.48}$As с $\delta$-легированным Si барьером в сильных электрических полях
Физика и техника полупроводников, 44:7 (2010), 928–933
© , 2026