RUS  ENG
Полная версия
ПЕРСОНАЛИИ

Митцев Михаил Александрович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

  1. Физическая природа термической устойчивости молекул кислорода на поверхности нанопленок иттербия

    Физика твердого тела, 66:5 (2024),  775–780
  2. Исследование методами электронной оже-спектроскопии и рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии длины свободного пробега электрона в нанопленках иттербия

    Письма в ЖТФ, 50:18 (2024),  15–17
  3. Количественный анализ пленочных структур с диффузной границей раздела, исследованных методом электронной Оже-спектроскопии

    Физика твердого тела, 65:9 (2023),  1611–1617
  4. Влияние осцилляций Фриделя на работу выхода нанопленок иттербия

    Физика твердого тела, 65:6 (2023),  1082–1086
  5. Влияние двойного электрического слоя на адсорбционные и каталитические свойства поверхности нанопленок иттербия

    ЖТФ, 93:6 (2023),  829–835
  6. Рентгеновские фотоэлектронные спектры молекул кислорода, адсорбированных на нанопленках иттербия

    Физика твердого тела, 64:8 (2022),  1091–1095
  7. Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия нанопленок иттербия с адсорбированным на их поверхности кислородом

    Физика твердого тела, 64:7 (2022),  874–879
  8. Термические свойства наноструктур СО–Yb-подложка

    ЖТФ, 92:5 (2022),  742–746
  9. Влияние контактной разности потенциалов на вольт-амперные характеристики в сканирующей туннельной спектроскопии

    ЖТФ, 91:11 (2021),  1769–1773
  10. Переход металл-полупроводник в нанопленках иттербия, индуцированный адсорбированными молекулами кислорода

    ЖТФ, 91:7 (2021),  1189–1193
  11. Сканирующая туннельная микроскопия поверхности нанопленок иттербия и адсорбированных на ней слоев молекул кислорода

    ЖТФ, 90:8 (2020),  1359–1365
  12. Влияние адсорбированных молекул СО на электронное состояние нанопленок иттербия, выращиваемых на кремниевых подложках

    ЖТФ, 89:7 (2019),  1086–1091
  13. Электростатическая природа размерных зависимостей адсорбционных свойств нанопленок иттербия, выращиваемых на поверхности кремния: система CO–Yb–Si(111)

    Физика твердого тела, 60:7 (2018),  1416–1422
  14. Исследование валентного перехода в системе О$_{2}$–Yb–Si(111) с помощью метода фотоэлектронной спектроскопии с угловым разрешением

    Физика твердого тела, 59:10 (2017),  2032–2036
  15. Транспленочная пассивация границы раздела кремний–нанопленки иттербия хемосорбированными на их поверхности молекулами CO и O$_{2}$

    Физика твердого тела, 59:8 (2017),  1612–1618
  16. Механизм валентного перехода Yb$^{2+}$ $\to$ Yb$^{3+}$, происходящего в нанопленках иттербия при хемосорбции на их поверхности молекул СО и О$_{2}$

    Физика твердого тела, 58:10 (2016),  2054–2058
  17. Влияние границ раздела "нанопленки иттербия–кремний Si(111)" на валентность иттербия

    Физика твердого тела, 58:9 (2016),  1794–1797
  18. Механизм формирования нанопленок дисилицида иттербия на грани Si(111)

    Физика твердого тела, 57:10 (2015),  2056–2060
  19. Валентный переход 2+ $\to$ 3+ в нанопленках иттербия, индуцируемый хемосорбированными на их поверхности молекулами CO и O$_2$

    Физика твердого тела, 57:9 (2015),  1822–1829
  20. Хемосорбция молекул аммиака на нанопленках иттербия, осажденных на кремний Si(111) при комнатной температуре

    Физика твердого тела, 56:12 (2014),  2457–2463
  21. Влияние границы раздела металлическая нанопленка–полупроводник на поверхностные свойства нанопленки: система CO–Yb–Si(111)

    Физика твердого тела, 56:7 (2014),  1397–1402
  22. Исследования реакционноспособных пленочных гетероструктур с несколькими интерфейсами с помощью метода термодесорбционной спектроскопии

    ЖТФ, 83:6 (2013),  27–32
  23. Исследование нанопленочных структур O$_2$–Yb–Si(111) и CO–Yb–Si(111) методом термодесорбционной спектроскопии

    Физика твердого тела, 54:10 (2012),  1988–1992
  24. Взаимодействие пленок иттербия нанометровой толщины, выращенных на вольфрамовых подложках, с кислородом

    Физика твердого тела, 54:2 (2012),  378–381
  25. Исследование неавтономного состояния нанопленок иттербия, индуцированного хемосорбированными молекулами кислорода, с помощью фотоэлектронной спектроскопии

    Письма в ЖТФ, 38:21 (2012),  22–27
  26. Влияние хемосорбированных молекул кислорода и монооксида углерода на свойства нанопленочных структур Yb–Si(111)

    Физика твердого тела, 53:6 (2011),  1224–1229
  27. Трансформация электронных Оже-спектров пленок иттербия нанометровой толщины, вызываемая адсорбированными молекулами моноокиси углерода и кислорода

    Физика твердого тела, 53:3 (2011),  569–572
  28. Адсорбция атомов самария на грани (100) вольфрама

    Физика твердого тела, 34:10 (1992),  3125–3136
  29. Учет внутренних статсумм кластеров в теории решеточного газа

    Физика твердого тела, 34:3 (1992),  757–764
  30. Влияние прогрева на спектры характеристических потерь высокотемпературного сверхпроводника YBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{7-x}$

    ЖТФ, 62:5 (1992),  172–176
  31. Структура пленок самария, адсорбированных на грани W (100)

    Физика твердого тела, 33:7 (1991),  1986–1990
  32. Исследование методами электронной оже-спектроскопии и масс-спектрометрии удаления примесей из сверхпроводящей керамики YBa$_{2}$Cu$_{3}$O$_{7-x}$

    ЖТФ, 61:12 (1991),  59–64
  33. Влияние учета внутренних статсумм кластеров, образующихся в адсорбированном слое, на скорость десорбции атомов

    Письма в ЖТФ, 17:21 (1991),  71–75
  34. Электронное состояние атомов самария, адсорбированных на грани (100) вольфрама

    Письма в ЖТФ, 13:16 (1987),  1013–1016
  35. Аномальная кинетика термодесорбции атомов неодима с поверхности грани (100) вольфрама

    Письма в ЖТФ, 12:3 (1986),  164–168
  36. О некоторых особенностях зависимостей теплоты адсорбции от концентрации адсорбированных атомов

    Физика твердого тела, 27:11 (1985),  3236–3241
  37. Зависимость термостабильности слоя адсорбированных атомов от их концентрации

    Физика твердого тела, 26:12 (1984),  3628–3634
  38. Вытеснение атомов цезия, адсорбированных на поверхности вольфрама, атомами бария и тулия

    Физика твердого тела, 25:5 (1983),  1321–1327
  39. Концентрационные зависимости теплоты адсорбции и времени жизни атомов тулия на поверхности вольфрама

    Физика твердого тела, 25:1 (1983),  47–54
  40. Адсорбция цезия на пленках бария и тулия различной толщины, выращенных на вольфрамовой подложке

    Письма в ЖТФ, 9:6 (1983),  357–360
  41. Применение явления поверхностной ионизации для изучения каталитических реакций на поверхности

    Докл. АН СССР, 152:1 (1963),  137–139

© МИАН, 2026