|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Моделирование транспортных и излучательных характеристик светоизлучающего латерального кремниевого $p^+$–$i$–$n^+$-транзистора с самоформирующимися Ge(Si)-наноостровками
Физика и техника полупроводников, 59:4 (2025), 242–249
-
Планарные (латеральные) светоизлучающие диоды с Ge(Si)-наноостровками, встроенными в фотонный кристалл
Письма в ЖТФ, 49:22 (2023), 12–15
-
Исследование сегрегации сурьмы при эпитаксиальном росте на подложках Si с различной кристаллографической ориентацией
Физика и техника полупроводников, 51:12 (2017), 1611–1615
-
Емкостная спектроскопия дырочных ловушек в высокоомных структурах арсенида галлия, выращенных жидкофазным методом
Физика и техника полупроводников, 51:11 (2017), 1538–1542
-
Электролюминесценция кремниевых МОП структур с массивами наноостровков Ge(Si)
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1497–1500
-
Применение техники годографа к диагностике диодных структур
Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1492–1496
-
Сечение поглощения для перехода
$^4I_{15/2}\to^4I_{13/2}$ ионов
Er$^{3+}$ в эпитаксиальных слоях Si:Er:O/SOI
Письма в ЖЭТФ, 100:12 (2014), 913–918
-
Особенности безызлучательной релаксации ионов Er$^{3+}$ в кремниевых эпитаксиальных структурах
Физика и техника полупроводников, 48:12 (2014), 1626–1631
-
Особенности примесной фотопроводимости в эпитаксиальных диодах Si : Er/Si
Физика и техника полупроводников, 47:11 (2013), 1513–1516
-
Естественные неоднородности в распределении туннельного тока по площади обратносмещенного кремниевого $p$–$n$-перехода
Физика и техника полупроводников, 46:1 (2012), 134–139
-
Электролюминесценция на длине волны 1.54 мкм от структуры Si : Er/Si, состоящей из ряда $p$–$n$-переходов
Физика и техника полупроводников, 45:11 (2011), 1486–1488
-
Зависимость концентрации ионизованных доноров от температуры эпитаксии для слоев Si : Er/Si, выращенных методом сублимационной молекулярно-лучевой эпитаксии
Физика и техника полупроводников, 45:1 (2011), 132–135
-
Электролюминесценция на длине волны 1.5 мкм в диодных структурах Si : Er/Si, легированных акцепторами Al, Ga, B
Физика и техника полупроводников, 44:12 (2010), 1645–1648
-
Электрические и люминесцентные свойства кремниевых диодных светоизлучающих структур $p^+/n^+/n$-Si:Er туннельно-пролетного типа
Физика и техника полупроводников, 44:11 (2010), 1533–1538
-
Повышение разрешения в релаксационной спектроскопии глубоких уровней с двухканальным строб-интегратором
Физика и техника полупроводников, 26:5 (1992), 955–958
© , 2026