|
|
Публикации в базе данных Math-Net.Ru
-
Формирование диэлектрических резонаторов на основе светоизлучающих Ge/Si-гетероструктур
ЖТФ, 95:1 (2025), 128–135
-
Лазерное излучение в мезаструктуре с квантовыми ямами на основе HgCdTe с периодической системой гребней
Физика и техника полупроводников, 59:10 (2025), 608–613
-
Оптические свойства лазерных мезаструктур с квантовыми ямами HgCdTe, сформированных методом ионного травления
Письма в ЖТФ, 51:19 (2025), 7–10
-
Люминесцентные свойства упорядоченных массивов кремниевых дисковых резонаторов со встроенными в них GeSi квантовыми точками
Физика и техника полупроводников, 57:6 (2023), 414–420
-
Влияние условий оптического возбуждения на спектральные и временны́е характеристики излучения двумерных фотонных кристаллов с Ge(Si)-наноостровками
Физика и техника полупроводников, 57:4 (2023), 251–258
-
Планарные (латеральные) светоизлучающие диоды с Ge(Si)-наноостровками, встроенными в фотонный кристалл
Письма в ЖТФ, 49:22 (2023), 12–15
-
Люминесцентный отклик фотонных кристаллов со встроенными Ge наноостровками с различной глубиной травления отверстий
Письма в ЖТФ, 49:10 (2023), 29–32
-
Формирование и исследование оптических свойств локально растянутых Ge микроструктур, встроенных в резонаторы
Физика и техника полупроводников, 55:5 (2021), 420–426
-
Локально деформированные структуры Ge/SOI с улучшенным теплоотводом как активная среда для кремниевой оптоэлектроники
Физика и техника полупроводников, 53:10 (2019), 1360–1365
-
Химический сдвиг и энергия обменного взаимодействия $1s$ состояний доноров магния в кремнии. Возможность стимулированного излучения
Физика и техника полупроводников, 53:9 (2019), 1263–1266
-
Электролюминесценция структур с самоформирующимися наноостровками Ge(Si), заключенными между напряженными слоями кремния
Физика и техника полупроводников, 50:12 (2016), 1685–1689
-
Электролюминесценция кремниевых МОП структур с массивами наноостровков Ge(Si)
Физика и техника полупроводников, 50:11 (2016), 1497–1500
-
Эпитаксиально выращенные моноизотопные слои Si, Ge и твердого раствора Si$_{1-x}$Ge$_{x}$: получение и некоторые свойства
Физика и техника полупроводников, 50:3 (2016), 350–353
-
Терагерцовое излучение при примесном пробое в Si(Li)
Письма в ЖТФ, 42:20 (2016), 18–23
-
Применение техники годографа к диагностике диодных структур
Физика и техника полупроводников, 49:11 (2015), 1492–1496
-
Сечение поглощения для перехода
$^4I_{15/2}\to^4I_{13/2}$ ионов
Er$^{3+}$ в эпитаксиальных слоях Si:Er:O/SOI
Письма в ЖЭТФ, 100:12 (2014), 913–918
-
Особенности безызлучательной релаксации ионов Er$^{3+}$ в кремниевых эпитаксиальных структурах
Физика и техника полупроводников, 48:12 (2014), 1626–1631
-
Гетероструктуры Si$_{1-x}$Ge$_x$/Si, выращенные методом молекулярно-пучковой эпитаксии на подложках кремний-на-сапфире
Физика и техника полупроводников, 48:3 (2014), 417–420
-
Особенности примесной фотопроводимости в эпитаксиальных диодах Si : Er/Si
Физика и техника полупроводников, 47:11 (2013), 1513–1516
-
Низкотемпературное выращивание эпитаксиальных слоев кремния, солегированных атомами эрбия и кислорода
Физика и техника полупроводников, 47:3 (2013), 410–413
-
Влияние толщины кремниевого разделительного слоя на электролюминесценцию многослойных структур с самоформирующимися островками Ge(Si)/Si(001)
Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012), 1448–1452
-
Механизм подзонного возбуждения фотолюминесценции ионов эрбия в кремнии в условиях интенсивной оптической накачки
Физика и техника полупроводников, 46:11 (2012), 1435–1439
-
Сравнительный анализ радиационного воздействия на электролюминесценцию кремния и SiGe/Si(001)-гетероструктур с самоформирующимися наноостровками
Физика и техника полупроводников, 45:2 (2011), 230–234
-
Легирование бором гетероструктур Si$_{1-x}$Ge$_x$/Si в процессе сублимации кремния в среде германа
Письма в ЖТФ, 37:13 (2011), 24–30
© , 2026