Окс Ефим Михайлович

Публикации в базе данных Math-Net.Ru

1. Масс-зарядный состав продуктов эрозии фторопластового изолятора в плазме вакуумного дугового разряда
   
   Письма в ЖТФ, 50:8 (2024),  24–27
2. Формирование плазмы в атмосфере азота импульсным электронным пучком вблизи диэлектрической мишени при форвакуумных давлениях
   
   ЖТФ, 93:9 (2023),  1288–1297
3. Механизм протекания тока в композитной алюмохромной керамике при ее электронно-лучевом спекании в форвакууме
   
   ЖТФ, 93:2 (2023),  291–297
4. Зондовое in situ измерение параметров плазмы при нанесении покрытий бора магнетронным методом
   
   ЖТФ, 93:1 (2023),  89–94
5. Вакуумный (безгазовый) непрерывный магнетронный разряд с холодным плоским катодом-мишенью
   
   Письма в ЖТФ, 49:22 (2023),  19–22
6. Особенности инициирования эффекта полого катода в электродной системе тлеющего разряда с протяженной катодной щелью
   
   Письма в ЖТФ, 47:20 (2021),  23–26
7. Влияние параметров разряда на генерацию ионов дейтерия в плазме сильноточной импульсной вакуумной дуги с композиционным катодом из дейтерида циркония
   
   ЖТФ, 87:5 (2017),  681–687
8. Влияние параметров разряда на генерацию ионов H$_{3}^{+}$ в источнике на основе отражательного разряда с полым катодом
   
   ЖТФ, 87:3 (2017),  356–359
9. Параметры пучковой плазмы, формируемой форвакуумным плазменным источником ленточного электронного пучка в системе транспортировки без магнитного поля
   
   ЖТФ, 87:2 (2017),  192–196
10. Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений
    
    Письма в ЖТФ, 42:13 (2016),  104–110
11. Генерирование ионов изотопов водорода в вакуумном дуговом разряде с композиционным катодом из дейтерида циркония
    
    ЖТФ, 85:7 (2015),  45–54
12. Генерация пучковой плазмы форвакуумным источником электронов в объеме, ограниченном диэлектрическими стенками
    
    ЖТФ, 85:5 (2015),  142–144
13. Особенности функционирования дугового разряда в форвакуумном плазменном источнике электронов
    
    ЖТФ, 85:2 (2015),  55–58
14. Генерация плазмы бора в вакуумной дуге с катодом из гексаборида лантана
    
    Письма в ЖТФ, 41:18 (2015),  30–37
15. Особенности зарядовой нейтрализации карбида кремния при спекании электронным пучком в форвакуумной области давлений
    
    Письма в ЖТФ, 41:15 (2015),  69–74
16. Масс-зарядовый состав плазмы вакуумной дуги с катодом из циркония, насыщенного дейтерием
    
    Письма в ЖТФ, 40:23 (2014),  74–81
17. Компенсация заряда изолированной мишени при облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений
    
    ЖТФ, 83:12 (2013),  134–136
18. Структура поверхности алюмооксидной керамики при облучении импульсным электронным пучком
    
    ЖТФ, 83:1 (2013),  117–120
19. Зарядовое распределение ионов в плазме вакуумной дуги при малых токах
    
    Письма в ЖТФ, 39:15 (2013),  40–46
20. Генерация стационарных электронных пучков форвакуумным плазменным источником в области давлений 100 Pa
    
    Письма в ЖТФ, 39:10 (2013),  9–14
21. Потенциал диэлектрической мишени при ее облучении импульсным электронным пучком в форвакуумной области давлений
    
    ЖТФ, 82:10 (2012),  103–108
22. Расширение рабочего диапазона форвакуумных плазменных источников электронов в область более высоких давлений
    
    ЖТФ, 82:8 (2012),  62–66
23. Влияние магнитного поля на извлечение ионов в источнике с сетчатой стабилизацией
    
    ЖТФ, 62:9 (1992),  140–144
24. Эмиссионные свойства плазмы сверхплотного тлеющего разряда, возбуждаемого в скрещенных $E\times H$ полях
    
    ЖТФ, 61:6 (1991),  204–206
25. Генерирование сильноточного трубчатого электронного пучка микросекундной длительности в источнике с плазменным катодом
    
    ЖТФ, 59:10 (1989),  188–190
26. Возможность диагностики приэлектродных слоев по эмиссионным характеристикам плазмы
    
    ТВТ, 27:4 (1989),  813–814
27. Влияние рода газа и геометрического фактора на параметры плазмы дугового разряда низкого давления
    
    ТВТ, 27:2 (1989),  390–392
28. Сильноточный магнетронный разряд в плазменном эмиттере электронов
    
    ЖТФ, 58:6 (1988),  1191–1193
29. Анализ эмиссионных свойств плазменного катода
    
    ЖТФ, 57:8 (1987),  1518–1521
30. Эмиссионные свойства анодной плазмы дугового контрагированного разряда низкого давления
    
    ЖТФ, 57:5 (1987),  877–882
31. Условия образования и параметры анодной плазмы дугового разряда низкого давления
    
    ТВТ, 25:5 (1987),  880–886
32. Зависимость среднего порога хрупкого разрушения кристаллов KCl электронным пучком от длительности импульса облучения
    
    ЖТФ, 56:10 (1986),  2049–2050
33. Контрагированный сужением самосжатый разряд в плазменном эмиттере электронов
    
    ЖТФ, 55:9 (1985),  1854–1857
34. Условия существования и предельные параметры импульсной контрагированной дуги низкого давления
    
    ЖТФ, 54:1 (1984),  66–72
35. Переход дугового разряда низкого давления из контрагированного в каскадый режим горения
    
    ЖТФ, 53:10 (1983),  1947–1951